標準解讀
《YS/T 891-2013 高純鈦化學分析方法 痕量雜質元素的測定 輝光放電質譜法》是一項針對高純度鈦材料中痕量雜質元素檢測的標準。該標準詳細規定了使用輝光放電質譜(GD-MS)技術來測定高純鈦中多種微量元素的具體操作流程和技術要求,適用于對鈦及其合金中可能存在的微量污染元素進行精確測量。
標準首先明確了適用范圍,指出其主要用于指導實驗室采用輝光放電質譜儀對高純鈦樣品內含有的鐵、鎳、鉻等特定金屬及非金屬雜質成分進行定量分析。接著,在原理部分介紹了利用輝光放電產生的等離子體將固體樣品表面原子化,并通過質譜分離和檢測這些原子的技術背景。
對于儀器設備的要求,《YS/T 891-2013》指定了所需的主要設備包括但不限于:輝光放電源、真空系統、質量分析器以及數據處理軟件等。同時,還強調了對實驗環境條件如溫度、濕度等的基本控制要求,以確保測試結果的準確性和可靠性。
在樣品準備方面,標準給出了詳細的步驟說明,從取樣到制備成適合于GD-MS分析的形式均有所涵蓋。此外,還特別提到了關于空白對照的重要性,以及如何正確設置與執行空白實驗來減少外部因素對最終結果的影響。
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- 現行
- 正在執行有效
- 2013-10-17 頒布
- 2014-03-01 實施



文檔簡介
ICS7712050
H64..
中華人民共和國有色金屬行業標準
YS/T891—2013
高純鈦化學分析方法
痕量雜質元素的測定
輝光放電質譜法
Methodsforchemicalanalysisofhighpuritytitanium—
Determinationoftraceimpurityelementcontent—
Glowdischargemassspectrometry
2013-10-17發布2014-03-01實施
中華人民共和國工業和信息化部發布
YS/T891—2013
前言
本標準按照給出的規則起草
GB/T1.1—2009。
本標準由全國有色金屬標準化技術委員會歸口
(SAC/TC243)。
本標準起草單位北京有色金屬研究總院金川新材料科技股份有限公司東方電氣集團峨嵋半導
:、,
體材料有限公司
。
本標準主要起草人李娜張肇瑞劉英孫澤明童堅臧慕文李寶成張金娥張江峰秦芳林
:、、、、、、、、、、
邱平王攀峰文英
、、。
Ⅰ
YS/T891—2013
高純鈦化學分析方法
痕量雜質元素的測定
輝光放電質譜法
1范圍
本標準規定了高純鈦中痕量元素含量的測定方法測定元素見表
,1。
本標準適用于高純鈦中痕量元素含量的測定各元素測定范圍為
。1.0μg/kg~5000μg/kg。
2方法原理
試料作為陰極進行輝光放電其表面原子被濺射而脫離試料進入輝光放電等離子體中離子化后再被
,,
導入質譜儀中進行測定在每一元素同位素質量數處以預設的掃描點數和積分時間對相應譜峰積分所
。,
得面積即為譜峰強度在缺少標準樣品時計算機根據儀器軟件中的典型相對靈敏度因子自動計算出
。,“”
各元素的質量分數有標準樣品時則需要通過在與被測樣品相同的分析條件離子源結構以及測試條件
;,、
下對標準樣品進行獨立測定獲得相對靈敏度因子應用該相對靈敏度因子計算出各元素的質量分數
,。
被測元素的含量以質量分數wX計按式計算
(),(1):
IXA
wX=X·Tiw
()RSF(/Ti)·IAX·(Ti)……(1)
Ti·
式中
:
wX待測元素質量分數單位為微克每千克
()———,(μg/kg);
X在特定輝光放電條件下測定中X元素的校正系數
RSF(/Ti)———Ti;
IX待測元素X的同位素譜峰強度
———,cps;
A元素的同位素豐度
Ti———Ti;
I元素的同位素譜峰強度
Ti———Ti,cps;
AX待測元素X的同位素豐度
———;
w的質量分數定義為9
(Ti)———Ti1.00×10μg/kg。
3試劑與材料
除非另有說明分析中所用的試劑均為優級純所用的水為一級水
,;。
31無水乙醇
.。
32氬氣φ
.(≥99.999%)。
33氫氟酸
.(1+9)。
34鈦標準樣品被測元素質量分數在
.,50μg/kg~500μg/kg。
35鈦空白樣品要求被測元素質量分數低于被測試樣的倍以上
.,10。
4儀器
41高質量分辨率輝光放電質譜儀中分辨率模式下分辨率
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