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文檔簡介
真空系統(tǒng)研制需求一、需求明細(xì)序號標(biāo)的名稱單位數(shù)量1耦合器高真空排氣臺研制套12老煉平臺真空系統(tǒng)研制套1二、項目服務(wù)要求序號服務(wù)要求1(一)服務(wù)范圍本次項目需要研制1套真空系統(tǒng):包括1套耦合器高真空排氣臺,用于1.3GHz耦合器、3.9GHz耦合器及高次模吸收器高真空排氣,1套老煉平臺耦合器真空系統(tǒng),用于耦合器老煉平臺被測1.3GHz耦合器對測試過程中的超高真空獲取、維持和破空。2(二)服務(wù)內(nèi)容1、保質(zhì)、保量、準(zhǔn)時的將1套真空系統(tǒng)送達綜合粒子設(shè)施研究院指定地點,并負(fù)責(zé)現(xiàn)場安裝、調(diào)試。2、自儀器驗收合格之日起,向采購人提供1年免費保修服務(wù)。在保修期內(nèi),售后服務(wù)要求屬產(chǎn)品質(zhì)量問題所發(fā)生的一切費用由負(fù)擔(dān)。3、必須具有專業(yè)的維修工程師,能有效保證售后維修服務(wù)。4、保修期內(nèi),發(fā)生的配件損耗和非人為因素發(fā)生的配件損壞,更換或維修不收取配件及人工費用。5、須對最終用戶在安裝現(xiàn)場或國內(nèi)其他場所進行免費人員培訓(xùn)2人2次(共4人次)或以上。3(三)人員要求必須具備專業(yè)技術(shù)人員進行技術(shù)溝通,及專業(yè)維修工程師進行售后服務(wù)。4(四)技術(shù)要求一、耦合器高真空排氣臺耦合器真空排氣臺設(shè)備主要由排氣移動小車、加熱鐘罩、升降機構(gòu)、電控系統(tǒng)、抽氣系統(tǒng)組成。技術(shù)指標(biāo)參數(shù)要求如下:1、加熱溫度:最高600℃可調(diào),升溫速度40℃/h。2、溫度均勻性:優(yōu)于±10℃。3、有效加熱空間:φ800*H1000mm。4、雙真空排氣要求:(1)具備雙真空排氣系統(tǒng):外真空抽氣系統(tǒng)(排氣臺真空)由設(shè)計并提供,要求排氣工作時外極限真空度(耦合器環(huán)境真空)優(yōu)于于1×10-4Pa。內(nèi)真空(耦合器內(nèi)部真空)設(shè)計預(yù)留真空管道四通接口,用于設(shè)備真空抽口對接、抽氣、RGA分析、真空監(jiān)測。(2)排氣系統(tǒng)內(nèi)部嚴(yán)格清潔及充分除氣,保證氣密性及高真空度。所有涉及真空部件都嚴(yán)格遵守超高真空制造工藝,每條管道、每個閥門都經(jīng)嚴(yán)格的檢漏及清洗除氣,保證無污染,漏率低于1E-10Pa.m3/s。5、內(nèi)部加熱環(huán)境采用全不銹鋼,潔凈程度達到千級潔凈環(huán)境。6、冷卻方式:加熱鐘罩具備外部水冷結(jié)構(gòu)設(shè)計,水冷與采用外焊循環(huán)水路,所有涉及真空的部分均沒有焊縫。7、電控系統(tǒng):電控系統(tǒng)可對抽排氣臺真空、加熱、快冷等進行自動化控制,同時各閥門、泵、加熱等操作也可手動按鈕操作。電控系統(tǒng)升溫、保溫、降溫過程,烘烤過程始終與特定真空值連鎖,以保證耦合器不被氧化。(1)操控界面:界面為觸摸屏+機械按鈕的操作方式,所有的操作均能在觸摸屏完成,所有狀態(tài)可在觸摸屏內(nèi)顯示,包括:泵、閥狀態(tài),溫度、真空度、電流。(2)自動控制功能:自動控制功能滿足抽真空、加熱、充氣動作,兼顧流程合理,安全可靠,合理的信號反饋滿足閉環(huán)控制。(3)UPS電源:采用UPS供電(保證運轉(zhuǎn)30分鐘或以上)離子泵維持真空。(4)參數(shù)設(shè)定:所有控制參數(shù),包括溫度、真空度、時間等,均可由用戶自行設(shè)定。(5)聯(lián)鎖保護與安全警報功能:各閥門帶有信號反饋,泵閥聯(lián)鎖保護。真空度低,強制關(guān)閉插板閥,保護分子泵、離子泵。真空度低,溫度保持,直至關(guān)閉等保護動作。真空度與加熱動作聯(lián)鎖。內(nèi)外真空度定值報警。超溫、加熱器跳閘等報警保護。水壓、電源缺相、氣源壓力不足、PLC電池電量低等均有報警。所有報警可執(zhí)行相關(guān)聯(lián)的保護動作,防止對設(shè)備造成損壞。(6)數(shù)據(jù)記錄:由觸摸屏對真空度、溫度、電流、電壓等進行實時記錄顯示,記錄數(shù)據(jù)可在屏內(nèi)查閱或外接設(shè)備讀取。二、老煉平臺真空系統(tǒng)耦合器在老煉平臺上背靠背安置,并進行高功率老煉。老煉過程中的真空系統(tǒng)原理圖如下圖所示,可見真空系統(tǒng)總體分為分子泵組、離子泵、真空規(guī)、真空計、真空閥門、真空管道及耗材。耦合器包含三部分真空:上游耦合器熱端真空,下游耦合器熱端真空,冷端真空(通過矩形波導(dǎo)連接共用)。使用時先由分子泵組將管道抽至高真空態(tài),再切換為離子泵組維持耦合器內(nèi)部超高真空狀態(tài)。本次項目需要根據(jù)耦合器真空度及漏率要求、潔凈度要求搭建圖示真空系統(tǒng)(不含分子泵)。總體技術(shù)目標(biāo):該真空系統(tǒng)能使1.3GHz高功率耦合內(nèi)部真空度達到10-6Pa量級。各處接口漏率要求為1×10-11Pa.m3/s。所有真空管道、真空閥門都須經(jīng)嚴(yán)格的檢漏及清洗除氣,保證無污染。以下為項目具體技術(shù)要求:1、離子泵和電源(數(shù)量:3套),技術(shù)要求:極限真空度:≤2.0x10-8Pa。自身抽空口:CF35。單臺離子泵整體重量:≤7kg。抽速:25L/S(N2)。潔凈間潔凈裝配。2、真空規(guī)(數(shù)量:4件),技術(shù)要求:全量程測量,量程1000mbar~1E-8mbar。接口:CF35。3、真空計(數(shù)量:2件),技術(shù)要求:雙通道顯示,支持RS485或RS232通訊。4、慢充系統(tǒng)(數(shù)量:1套),技術(shù)要求: 氣體經(jīng)過過濾器及流量控制器??煽刂茪怏w流量大小。所有管路EP級別。5、真空閥門全金屬角閥(數(shù)量:6件),技術(shù)要求:材質(zhì):全金屬。類型:角閥。密封方式:金屬密封。接口:CF35。操作方式:手動。閥體泄漏率:≤1×10-11Pa.m3/s。閥座泄漏率:≤1×10-11Pa.m3/s。烘烤溫度:最大150℃。6、真空管道6.1手動隔膜閥(數(shù)量:4件),技術(shù)要求:接口:CF35。密封方式:橡膠密封。漏率:≤1×10-9Pa.m3/s。6.2四通CF35(數(shù)量:4件),技術(shù)要求:材質(zhì):全不銹鋼。密封方式:金屬密封。接口:CF35。漏率:≤1x10-11Pa.m3/s。整體電解拋光,鈍化處理,真空除氣,脫氣速率低,背景干擾小,可烘烤。6.3三通CF35(數(shù)量:6件),技術(shù)要求:材質(zhì):全不銹鋼。密封方式:金屬密封。接口:CF35。漏率:≤1x10-11Pa.m3/s。整體電解拋光,鈍化處理,真空除氣,脫氣速率低,背景干擾小,可烘烤。6.4液壓波紋管KF40-1500(數(shù)量:6件),技術(shù)要求:材質(zhì):全不銹鋼。長度:1.5米。接口:KF40。密封方式:橡膠密封。漏率:≤1×10-9Pa.m3/s。6.5轉(zhuǎn)換接頭KF40-CF35(數(shù)量:6件),技術(shù)要求:材質(zhì):316L不銹鋼。整體電解拋光,鈍化處理。6.6緊固半法蘭CF35(數(shù)量:10件),技術(shù)要求:材質(zhì):硅青銅。6.7快卸卡箍KF25(數(shù)量:10件),技術(shù)要求:材質(zhì):304不銹鋼。6.8快卸卡箍KF40(數(shù)量:10件),技術(shù)要求:材質(zhì):304不銹鋼。7、真空耗材7.1無氧銅墊圈CF16(數(shù)量:400件),技術(shù)要求:材質(zhì):TU1無氧銅材質(zhì)。7.2無氧銅墊圈CF25(數(shù)量:100件),技術(shù)要求:材質(zhì):TU1無氧銅材質(zhì)。7.3無氧銅墊圈CF35(數(shù)量:400件),技術(shù)要求:材質(zhì):TU1無氧銅材質(zhì)。7.4無氧銅墊圈CF100(數(shù)量:100件),技術(shù)要求:材質(zhì):TU1無氧銅材質(zhì)。5(五)成果要求1.因履行本合同所產(chǎn)生的研究開發(fā)成果及其相關(guān)知識產(chǎn)權(quán)權(quán)利均歸屬采購人,且采購人可以不受限制地進行使用,無權(quán)干涉。不對該等研發(fā)成果及相關(guān)知識產(chǎn)權(quán)權(quán)利享有任何權(quán)利,未經(jīng)采購人書面同意,不得以任何方式使用該等研發(fā)成果及相關(guān)知識產(chǎn)權(quán),也不得擅自許可任何第三方使用。2.采購人有權(quán)利用按照本合同約定提供的研究開發(fā)成果進行后續(xù)改進。由此產(chǎn)生的具有實質(zhì)性或創(chuàng)造性技術(shù)進步特征的新的技術(shù)成果及其權(quán)屬,均歸采購人享有,不基于該等新的技術(shù)成果享有任何權(quán)利或收益。3.利用采購人提供的技術(shù)、資料或工作條件等,開發(fā)出本合同約定的研究開發(fā)成果以外的研究開發(fā)成果的,該等研究開發(fā)成果及其權(quán)屬歸采購人享有,不基于該等技術(shù)
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