標準解讀
《GB/T 12962-1996 硅單晶》與前一版《GB 12962-1991》相比,主要在以下幾個方面進行了調整和完善:
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標準性質的調整:從標準編號的變化可以看出,《GB/T 12962-1996》變為了推薦性國家標準("T"表示推薦性),而《GB 12962-1991》為強制性國家標準,這一變化意味著新版標準為企業提供了更多的執行靈活性。
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技術指標的更新:新版標準對硅單晶的純度、晶體結構、雜質含量、缺陷密度等關鍵質量指標進行了修訂或新增,以適應半導體技術進步對材料性能提出的更高要求。例如,可能對某些特定雜質元素的濃度限值給出了更嚴格的規定,或是對晶體的完整性檢測方法進行了優化。
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檢測方法的改進:隨著分析技術和測試手段的發展,《GB/T 12962-1996》引入了更為精確和高效的檢測方法,用于評價硅單晶的各項性能指標。這些新方法可能包括更先進的光譜分析技術、電子顯微鏡觀測技術等,旨在提高檢測結果的準確性和可靠性。
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規范性附錄的增補:為了便于理解和執行,新標準可能增加了詳細的規范性附錄,提供了具體的測試程序、樣品制備方法、數據處理規則等,從而使得標準的實施更加規范化和標準化。
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術語和定義的明確:隨著行業的發展,一些專業術語可能有了新的定義或解釋,新標準對此進行了整理和明確,有助于統一行業語言,減少理解上的歧義。
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標準適用范圍的調整:雖然具體調整內容未直接說明,但根據慣例,新版標準可能會根據市場和技術發展的實際情況,對硅單晶的適用范圍進行適當擴展或細化,以更好地指導生產和應用。
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文檔簡介
ICS29.045H82中華人民共和國國家標準CB/T12962-1996硅單晶Monocrystallinesilicon1996-11-04發布1997-04-01實施國家技術監督局發布
GB/T12962-1996本標準參照國外有關標準,結合我國硅材料的使用情況,對GB12962—91進行修訂而成的。。修訂時保留了原標準中符合我國實際的內容。修訂后的本標準,刪去了原標準中直拉硅單品直徑為38mm、80mm、90mm規格,增加了直徑125mm、150mm規格;對硅單品的旋渦缺陷密度和微缺陷密度指標改為由供需雙方商定;對徑向電阻率變化指標,增加了距邊緣6mm測點(見GB11073的B方案)計算;對區熔硅單晶和中子嬉變摻雜硅單晶的徑向電阻率變化指標,改為按GB11073的C方案或B方案測量和計算。中子姬變摻雜硅單晶增加了微區電阻率條紋內容。與本標準配套的標準有:GB/T12964硅單晶拋光片GB/T12965硅單晶切割片和研磨片本標準從1997年4月1日起實施。本標準從生效之日起,代替GB12962-91。本標準由中國有色金屬工業總公司提出。本標準由中國有色金屬工業總公司標準計量研究所歸口。本標準起草單位:峨眉半導體材料廠和中國有色金屬工業總公司標準計量研究所.本標準主要起草人:王鴻高、劉文魁、尹建華、吳福立。本標準首次發布日期:1991年6月。
中華人民共和國國家標準晶硅GB/T12962-1996Monocrystallinesilicon代替GB12962-911范園本標準規定了硅單品的產品分類、技術要求、試驗方法、檢驗規則以及標志、包裝、運輸、財存。本標準適用于用直拉法、懸浮區熔法(包括中子嫂變摻雜)制備的硅單品。產品主要供制作半導體元器件使用。2引用標準下列標準所包含的條文,通過在本標準中引用而構成為本標準的條文。本標準出版時,所示版本均為有效,所有標準都會被修訂,使用本標準的各方應探討使用下列標準最新版本的可能性。GB/T1550硅單晶導電類型測定方法GB/T1551—1995硅、錯單晶電阻率測定直流兩探針法GB/T1552—1995硅、錯單晶電阻率測定直排四探針法GB/T1553硅單晶壽命直流光電導衰退測量方法GB/T1554一1995硅晶體完整性化學擇優腐蝕檢驗方法GB1555—79硅單晶晶向光圖測量方法GB1556—79硅單晶晶向X光衍射測量方法GB1557—89硅晶體中間隙氧含量紅外吸收測量方法GB1558-83測定硅晶體中代位碳含量的紅外吸收方法GB/T4058—1995硅拋光片氧化誘生缺陷檢驗方法GB/T6617—1995硅片電阻率測定擴展電阻探針法GB11073—89硅片徑向電阻率變化的測量方法GB/T12964—1996硅單晶拋光片GB/T14844-93半導體材料牌號表示法3.產品分類3.1分類產品按硅單晶的生產工藝方法分為直拉、懸浮區熔和中子嬉變摻雜(NTD)3種硅單
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