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薄膜光學——蒸發工藝簡介APS1104德國Leybold中國科學院長春光學精密機械與物理研究所薄膜光學——蒸發工藝簡介APS1104真空室內情況中國科學院長春光學精密機械與物理研究所薄膜光學——蒸發工藝簡介鏡片懸掛機構中國科學院長春光學精密機械與物理研究所薄膜光學——蒸發工藝簡介改進蒸發工藝、改善膜層的微觀結構基本的思路：附加一定的能量到被鍍的表面上去，利用這些能量移開弱束縛的粒子，使達到基板的材料粒子有高的遷移率。由于附加了能量，膜料粒子可以穿透比較遠的距離，去找到一個有比較強束縛的位置。從而使膜層的結構得到改善。具體實施辦法：在膜層沉積的同時，利用電子、光子、離子將能量附加到基底上去，這不僅有利于清潔被鍍表面，也增加了膜層的致密度。

近十幾年的趨勢是利用荷能的離子完成基片清潔和改善膜層結構的任務近20年來圍繞電子束蒸發出現的三種先進蒸發工藝離子輔助反應離子鍍等離子體增強離子輔助薄膜光學——蒸發工藝簡介中國科學院長春光學精密機械與物理研究所離子輔助IADIAD技術是在電子束蒸發的同時用離子束轟擊，離子由離子源產生，離子束由柵極引出，電子槍和離子源各自獨立工作。膜層在離子的轟擊作用下獲得能量，使結構得到改善。薄膜光學——蒸發工藝簡介中國科學院長春光學精密機械與物理研究所離子體增強的離子輔助技術等離子源采用熱陰極、筒狀陽極及軸向發散形磁場，在輔助沉積過程中，放電氣體(Ar氣)進入APS源，放電產生的等離子體在交叉電磁場的作用下被拔出APS，并在電磁場作用下漂向基板，放電氣體形成的等離子體形成一個園維體充滿基板下的空間。這時充入反應氣體(O2等)，等離子體電離并激活反應氣體及從電子槍蒸發出的材料分子，并在基板上得到符合化學計量比的電介質薄膜。薄膜光學——蒸發工藝簡介中國科學院長春光學精密機械與物理研究所中國科學院長春光學精密機械與物理研究所薄膜光學——蒸發工藝簡介控制系統時間顏色光學控制石英晶體震蕩控制中國科學院長春光學精密機械與物理研究所薄膜光學——蒸發工藝簡介光學膜厚監控系統中國科學院長春光學精密機械與物理研究所薄膜光學——蒸發工藝簡介輔助系統加溫溫度測量與控制充氣真空度測量與壓強控制工件架公、自轉，均勻性調整離子轟擊直流與射頻比較片架透射、反射、內反射中國科學院長春光學精密機械與物理研究所薄膜光

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