標準解讀

《GB/T 34649-2017 磁控濺射用釕靶》是一項國家標準，旨在規范用于磁控濺射工藝中的釕靶材料。該標準涵蓋了釕靶的基本要求、技術指標、試驗方法、檢驗規則以及包裝、標志、運輸和貯存等方面的內容。

首先，在基本要求部分，標準規定了釕靶應具備良好的物理性能與化學純度，以確保在濺射過程中能夠穩定工作，并且所沉積薄膜的質量符合預期。此外，還對釕靶的外觀質量提出了具體要求，如表面不得有裂紋、夾雜物等缺陷。

接著，在技術指標方面，《GB/T 34649-2017》詳細列出了釕靶的主要成分含量范圍、密度、電阻率等關鍵參數。這些參數對于保證濺射過程的有效性至關重要，同時也為用戶提供了選擇合適產品時的重要參考依據。

試驗方法章節則介紹了如何通過科學合理的手段來測定上述各項技術指標的具體步驟，包括但不限于化學分析法、物理測試法等。這部分內容為生產企業及第三方檢測機構提供了統一的操作指南，有助于提高數據的一致性和可比性。

檢驗規則明確了不同批次或同一批次內樣品抽取數量的要求，以及不合格品處理方式等內容。這有利于保障市場上流通產品的整體質量水平。


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....

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  • 現行
  • 正在執行有效
  • 2017-09-29 頒布
  • 2018-04-01 實施
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文檔簡介

ICS7715099

H68..

中華人民共和國國家標準

GB/T34649—2017

磁控濺射用釕靶

Magnetronsputteringrutheniumtarget

2017-09-29發布2018-04-01實施

中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局發布

中國國家標準化管理委員會

GB/T34649—2017

前言

本標準按照給出的規則起草

GB/T1.1—2009。

本標準由中國有色金屬工業協會提出

。

本標準由全國有色金屬標準化技術委員會歸口

(SAC/TC243)。

本標準負責起草單位有研億金新材料有限公司有色金屬技術經濟研究院

:、。

本標準起草人羅俊鋒丁照崇李勇軍向磊萬小勇劉書芹熊曉東王莊賀昕滕海濤高巖

:、、、、、、、、、、。

Ⅰ

GB/T34649—2017

磁控濺射用釕靶

1范圍

本標準規定了磁控濺射用釕靶的要求試驗方法檢驗規則及標志包裝運輸貯存質量證明書和

、、、、、、

訂貨單或合同內容

()。

本標準適用于微電子領域鍍膜用磁控濺射釕靶以下簡稱釕靶

()。

2規范性引用文件

下列文件對于本文件的應用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

一般公差未注公差的線性和角度尺寸的公差

GB/T1804

燒結金屬材料不包括硬質合金可滲性燒結金屬材料密度含油率和開孔率的

GB/T5163()、

測定

金屬平均晶粒度測定方法

GB/T6394

金屬材料中氫氧氮碳和硫分析方法通則

GB/T14265、、、

釕粉化學分析方法鉛鐵鎳鋁銅銀金鉑銥鈀銠硅量的測定輝光放電

GB/T23275、、、、、、、、、、、

質譜法

濺射靶材背板結合質量超聲波檢驗方法

YS/T837-

3術語和定義

下列術語和定義適用于本文件

。

31

.

磁控濺射physicalvapordepositionPVD

;

物理氣相沉積鍍膜的一種方法通過在靶材表面引入電場和磁場利用磁場對帶電粒子的約束來提

:,

高等離子體密度并利用電場對惰性氣體通常為氣粒子加速轟擊靶表面從而濺射出材料原子或

,(Ar),

原子團最后沉積形成膜鍍層

,。

32

.

磁控濺射用釕靶magnetronsputteringrutheniumtarget

用金屬釕制備的用于磁控濺射的鈀材用于制備釕膜鍍層

,。

4要求

41產品分類

.

411釕靶按化學成分分為四個牌號

..Ru-99.95、Ru-99.99、Ru-99.995、Ru-99.999。

412按靶材焊接方式可分為單體型和焊接型背板材料包括鋁合金銅及銅合金

..,、。

413釕靶按截面形狀可分為圓形

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