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第三章干涉裝置和光場的時空相干性§1分波前干涉裝置和光場的空間相干性1．實現干涉的基本方法1）分波前法2）分振幅法2．分波前裝置的干涉特點1)光強度：

分波前干涉裝置示意圖

2)相位差

3)光程差

注意：

n2是像方介質的折射率4）干涉條紋的形狀和間距干涉條紋為垂直X軸的直線條紋若3．幾種具體干涉裝置的條紋特征1）菲涅耳雙面鏡的條紋特征，是垂直X軸的直線條紋2）洛埃鏡的條紋特征

干涉條紋是垂直X軸的直線條紋注意：由于掠入射時的半波損，點處是暗條紋。3）雙棱鏡的條紋特征(1)光程差：（a）如圖，（b）點光源與虛像和之間的物像等光程性：由于：有：（c）S點源在P點產生的光程差：若（2）條紋形狀和間距干涉條紋是垂直X軸的直線條紋4）白光光源的干涉條紋特征零級條紋為白光條紋，其余級次條紋彼此錯開，呈現彩色條紋帶。由于：4．干涉條紋的移動1）條紋移動的原因光源移動、裝置結構變動或光路中的媒質變化。2）觀察條紋移動的方法兩種方法：定點觀察，跟蹤觀察3）楊氏實驗中光源在方向移動了，求零級條紋移動的距離？設點光源移動后，零級條紋由點移至點。得：，即：4）注意：（1）光源沿Y方向平移時，條紋級次的X方向位置不變動。（2）雙面境等干涉裝置的關系式與上式不同。5、光源寬度對干涉條紋的影響1）光源在Y方向展寬時反襯度不變2）光源在X方向展寬時反襯度下降（1）僅有兩個點源時的反襯度隨兩個點源錯開距離的增加，兩套干涉

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