標準解讀

《GB/T 32988-2016 人造石英光學低通濾波器晶片》是一項國家標準,主要針對用于制造光學低通濾波器的人造石英晶片的質量要求、檢測方法以及包裝、標志、運輸和儲存等方面進行了規定。該標準適用于以人造石英為基材,通過特定工藝制成的用于改善圖像質量的光學元件。

標準首先定義了相關術語與定義,明確了“人造石英”、“光學低通濾波器晶片”的概念及其應用領域。接著,對晶片的基本尺寸、外觀質量提出了具體要求,包括但不限于厚度偏差、平行度、表面粗糙度等關鍵參數,確保產品能夠滿足實際使用中的性能需求。

在物理特性方面,《GB/T 32988-2016》詳細列出了折射率均勻性、透射比、雙折射等指標,并給出了相應的測試方法,這些參數對于評估晶片在不同波長下的光學性能至關重要。此外,還特別強調了環境適應性的考量,如溫度變化對材料性質的影響。

對于檢驗規則,《GB/T 32988-2016》制定了抽樣方案及不合格品處理辦法,旨在保證出廠產品的質量一致性。同時,標準也涵蓋了包裝材料的選擇原則、包裝方式、標識內容以及安全運輸和妥善存儲的具體指導,以保護產品免受外界因素損害,延長使用壽命。


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....

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  • 現行
  • 正在執行有效
  • 2016-10-13 頒布
  • 2017-09-01 實施
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文檔簡介

ICS31160

L21.

中華人民共和國國家標準

GB/T32988—2016

人造石英光學低通濾波器晶片

SntheticuartzcrstalwaferforoticallowassfilterOLPF

yqypp()

2016-10-13發布2017-09-01實施

中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局發布

中國國家標準化管理委員會

GB/T32988—2016

目次

前言

…………………………Ⅲ

范圍

1………………………1

規范性引用文件

2…………………………1

術語和定義

3………………1

分級

4………………………3

要求

5………………………4

晶片

5.1…………………4

尺寸與角度

5.2…………………………4

晶片表面疵病

5.3………………………5

晶片的面形偏差

5.4……………………6

測試方法

6…………………6

包裹體和裂紋

6.1………………………6

條紋

6.2…………………6

尺寸

6.3…………………6

切向和角度偏差

6.4……………………6

倒角和倒邊

6.5…………………………6

垂直度

6.6………………7

6.7TV5…………………7

表面疵病

6.8……………7

面形偏差

6.9……………7

檢驗規則

7…………………8

抽樣方案

7.1……………8

判定規則

7.2……………8

型式檢驗

7.3……………8

包裝標識交貨條件

8、、……………………8

包裝

8.1…………………8

標識

8.2…………………8

交貨條件

8.3……………8

參考文獻

………………………9

GB/T32988—2016

前言

本標準按照給出的規則起草

GB/T1.1—2009。

請注意本文件的某些內容可能涉及專利本文件的發布機構不承擔識別這些專利的責任

。。

本標準由中國建筑材料聯合會提出

本標準由全國人工晶體標準化技術委員會歸口

(SAC/TC461)。

本標準起草單位爍光特晶科技有限公司浙江水晶光電科技股份有限公司

:、。

本標準主要起草人張紹鋒張璇孫志文王保新尚繼武邱歡華大辰

:、、、、、、。

GB/T32988—2016

人造石英光學低通濾波器晶片

1范圍

本標準規定了人造石英光學低通濾波器晶片術語和定義分級要求測試方法檢驗規則及包裝

、、、、、

標識交貨條件

、。

本標準適用于人造石英光學低通濾波器晶片

2規范性引用文件

下列文件對于本文件的應用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

光學零件表面疵病

GB/T1185

計數抽樣檢驗程序第部分按接收質量限檢索的逐批檢驗抽

GB/T2828.1—20121:(AQL)

樣計劃

(ISO2859-1:1999)

光學零件的面形偏差

GB/T2831

硅片厚度和總厚度變化測試方法

GB/T6618—2009

人造光學石英晶體

GB/T7895

人造光學石英晶體試驗方法

GB/T7896—2008

3術語和定義

和界定的以及下列術語和定義適用于本文件為了便于使

GB/T7895、GB/T1185GB/T2831。

用以下重復列出了上述某些術語和定義

,。

31

.

光學低通濾波器晶片opticallow-passfilterwaferOLPFwafer

;

用石英晶體等材料制作其單片或多片組合并鍍膜后讓某一頻率以下的光信號分量通過而抑制

,,,

該頻率以上的光信號分量的光學基片

32

.

有效區域fixedqualityareaFQA

;

去除晶片邊緣特定距離X的晶體表面中心區域參考圖虛線所包含的區域

。1

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