標準解讀

《GA/T 936-2011法庭科學平面灰塵痕跡鐵氰化鉀增強法》是一項由中國公安部發布的技術標準，旨在為法庭科學領域中平面灰塵痕跡的檢測和增強提供詳細的操作規范。此標準主要關注使用鐵氰化鉀作為化學試劑來增強指紋或其他微痕跡證，以提高其在平面灰塵表面的可見度與辨識度，從而輔助刑事偵查工作。

標準內容概覽

  1. 范圍：標準明確了適用范圍，即規定了利用鐵氰化鉀對平面灰塵痕跡進行增強處理的方法、步驟、所需材料、設備以及質量控制等方面的要求。

  2. 術語和定義：對涉及的專業術語進行了解釋，確保使用者對標準中的概念有統一的理解。

  3. 原理：闡述了鐵氰化鉀增強法的基本科學原理，即鐵氰化鉀與汗液等生物分泌物反應后形成不溶于水的藍色化合物，從而在背景對比下凸顯出灰塵上的潛在痕跡。

  4. 試劑與材料：詳細列出了實施該技術所需的所有化學試劑（如鐵氰化鉀溶液、中和劑等）及其它輔助材料的質量要求和配制方法。

  5. 儀器設備：描述了實施過程中必需的工具和設備，包括但不限于顯微鏡、噴霧器、光源等，并對這些設備的性能參數提出了具體要求。

  6. 操作步驟：

    • 預處理：清潔目標表面，去除可能干擾的多余物質。
    • 噴涂鐵氰化鉀溶液：均勻噴灑鐵氰化鉀溶液于待檢區域，控制好濃度和濕度。
    • 反應與觀察：給予適當時間讓化學反應發生，使用特定光源觀察痕跡顯現情況。
    • 記錄與保存：對顯現的痕跡進行拍照記錄，并采取措施保護現場痕跡以防破壞。

  7. 質量控制：制定了痕跡增強效果的評價標準和檢驗方法，確保實驗結果的準確性和重復性。

  8. 安全防護：強調了在操作過程中應采取的安全措施，包括個人防護裝備的使用和化學品的妥善處理，以保障操作人員的健康與環境安全。

  9. 附錄：可能包含具體操作示例、故障排除指南或參考文獻等附加信息，以進一步指導實踐操作。

實施意義

該標準的制定和實施，不僅提高了法庭科學中平面灰塵痕跡檢驗的科學性和準確性，還促進了全國范圍內技術方法的標準化和規范化，對于提升案件偵破效率、確保司法公正具有重要意義。


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....

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  • 現行
  • 正在執行有效
  • 2011-06-07 頒布
  • 2011-07-01 實施
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GA/T 936-2011法庭科學平面灰塵痕跡鐵氰化鉀增強法_第1頁
GA/T 936-2011法庭科學平面灰塵痕跡鐵氰化鉀增強法_第2頁
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文檔簡介

ICS13310

A92.

中華人民共和國公共安全行業標準

GA/T936—2011

法庭科學平面灰塵痕跡鐵氰化鉀增強法

Methodfordevelopingdustfootprintbypotassiumferricyanideofforensic

2011-06-07發布2011-07-01實施

中華人民共和國公安部發布

GA/T936—2011

前言

本標準按照給出的規則起草

GB/T1.1—2009。

請注意本文件的某些內容可能涉及專利本文件的發布機構不承擔識別這些專利的責任

。。

本標準由全國刑事技術標準化技術委員會痕跡檢驗分技術委員會提出并

(SAC/TC179/SC9)

歸口

。

本標準起草單位中國人民公安大學刑事科學技術系

:。

本標準主要起草人羅亞平郭威王丹華

:、、。

Ⅰ

GA/T936—2011

法庭科學平面灰塵痕跡鐵氰化鉀增強法

1范圍

本標準規定了鐵氰化鉀增強平面灰塵痕跡的基本方法及

(potassiumferricyanide,K3[Fe(CN)6])

其適用對象原理試劑器材操作方法和要求

、、、、。

本標準適用于各類案事件現場平面灰塵痕跡提取前的增強處理

()。

2規范性引用文件

下列文件對于本文件的應用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

噴霧器噴霧部件

JB/T9797—1999

3適用對象

紙張本色木無紡布淺色致密紡織物等滲透性物面上的平面灰塵痕跡以及淺色瓷磚等非滲透性

、、、,

客體表面上的平面灰塵痕跡

。

4原理

鹽酸與灰塵中的鐵元素反應生成氯化亞鐵氯化亞鐵再與鐵氰化鉀反應生成滕氏藍的沉淀物顯

,“”

色而增強灰塵足跡反應式如下

,:

FeO+2HCl=FeCl2+H2O

3FeCl2+2K3[Fe(CN)6]=Fe3[Fe(CN)6]2↓+6KCl

5試劑與器材

51試劑

.

下列試劑均為化學純

:

濃鹽酸

a);

乙醇

b);

鐵氰化鉀

c);

去離子水

d);

灰塵固定液指專用灰塵固定劑或定型發膠等以樹脂類聚合物的醇溶液為主要成分的液體

e),。

52器材

.

噴霧器噴霧器的噴射部件應該耐酸堿其技術要求見

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