范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了真空設(shè)備檢漏方法選擇的人員資格要求、通用要求、檢漏實(shí)施的安全要求、選擇程序及選擇原則、檢漏方法的特征參數(shù)。閥門、真空鍍膜設(shè)備、真空枯燥設(shè)備、真空冷凍枯燥設(shè)備、外表分析設(shè)備、真空冶金設(shè)備、空間環(huán)境模擬行。標(biāo)準(zhǔn)性引用文件件。但凡不注日期的引用文件，其最版本〔包括全部的修改單〕適用于本文件。GB/T3163 GB/T9445 無(wú)損檢測(cè)人員資格鑒定與認(rèn)證術(shù)語(yǔ)和定義GB/T3163界定的以及以下術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件。3.1漏率leakagerate在規(guī)定條件下，一種特定氣體通過(guò)漏孔的流量。3.2有效最小可檢漏率effectiveminimumdetectableleakagerateqemin在具體的工作條件下，檢漏方法所能檢出的最小漏孔漏率。3.3允許漏率acceptableleakagerate真空設(shè)備正常工作所能承受的最大漏率。3.4粘滯漏孔viscousleak漏孔的質(zhì)量流率反比于流淌氣體粘度的一種漏孔。3.5分子漏孔molecularleak漏孔的質(zhì)量流率正比于流淌氣體分子質(zhì)量平方根的倒數(shù)的一種漏孔。人員資格建議進(jìn)展檢漏方法選擇的人員具備GB/T9445所要求的2級(jí)或2級(jí)以上資格。通用要求檢漏方法檢漏方法應(yīng)包括根底檢漏方法和應(yīng)用技術(shù)兩局部。氦質(zhì)譜真空護(hù)罩法的根底方法是氦質(zhì)譜真空法，應(yīng)用技術(shù)是護(hù)罩技術(shù)。選擇檢漏方法的要求選擇檢漏方法時(shí)應(yīng)綜合考慮有效最小可檢漏率、檢漏技術(shù)條件、安全因素和經(jīng)濟(jì)因素。允許漏率允許漏率的組成真空設(shè)備全部有密封要求的組成局部及連接處的漏率之和組成真空設(shè)備的允許漏率空設(shè)備的允許漏率。確定的要素允許漏率應(yīng)與真空設(shè)備的功能和工作條件相符，并明確檢漏條件。主要的檢漏條件有：溫度；壓力；示蹤介質(zhì)。檢漏的要求漏率修正檢漏條件應(yīng)與真空設(shè)備的工作條件全都。如無(wú)法滿足，可按附錄A修正漏率。泄漏穩(wěn)定時(shí)間選擇任何一種檢漏方法進(jìn)展檢漏時(shí)，都應(yīng)考慮泄漏穩(wěn)定所需要的時(shí)間。干凈要求真空設(shè)備在檢漏時(shí)應(yīng)干凈、去污，避開污染物堵塞漏孔。典型的污染物來(lái)源有：碎屑；灰塵；油污；焊渣；油漆標(biāo)記；外表腐蝕。檢漏方法匯總常用檢漏方法真空設(shè)備常用檢漏方法及主要特征參數(shù)見附錄B，常用根底檢漏方法有：氦質(zhì)譜真空法；氦質(zhì)譜正壓法；氣泡法；壓力變化法；鹵素內(nèi)-外式檢漏法；超聲檢漏法。其值略有不同。其他檢漏方法質(zhì)譜法、聲學(xué)法、高壓放電法、傳感器檢漏法、流量計(jì)法等其他檢漏方法也可用于真空設(shè)備，主要方法和特征參數(shù)見附錄C。檢漏方法選擇程序真空設(shè)備檢漏方法的選擇程序見圖1。確定檢漏類型，見確定檢漏類型，見8.1.1確定主要技術(shù)條件，見8.1.2確定檢漏實(shí)施條件，見8.1.3與檢漏類型相關(guān)的選擇，見8.2.1與主要技術(shù)條件相關(guān)的選擇，見8.2.2與檢漏實(shí)施條件相關(guān)的選擇，見8.2.3綜合評(píng)價(jià)初步選擇的檢漏方法確定檢漏方法，見8.3圖1真空設(shè)備的檢漏方法選擇程序檢漏方法的選擇確定檢漏方法選擇條件檢漏類型真空設(shè)備檢漏方法的類型包括：定性檢漏；定量檢漏；定位檢漏。主要技術(shù)條件真空設(shè)備檢漏方法選擇的主要技術(shù)條件包括：真空設(shè)備的允許漏率；真空設(shè)備的承壓特性。檢漏實(shí)施條件真空設(shè)備檢漏方法選擇的主要實(shí)施條件包括：檢漏實(shí)施的影響；是否具備檢測(cè)儀器；是否具備示蹤介質(zhì)；真空設(shè)備外形和密封構(gòu)造；示蹤介質(zhì)與真空設(shè)備材料的相容性；檢漏方法要求的工藝措施與真空設(shè)備工藝的匹配性；檢漏所處階段。初步選擇檢漏方法與檢漏類型相關(guān)的選擇與檢漏類型相關(guān)的選擇，應(yīng)遵循：需要測(cè)量真空設(shè)備的漏孔、局部或總體漏率時(shí)，選擇定量檢漏的方法；基于比對(duì)原理的定量檢漏方法，應(yīng)包含必要的檢漏系統(tǒng)校準(zhǔn)程序；當(dāng)真空設(shè)備漏率不滿足密封性能要求、存在不行承受漏孔且有修復(fù)需求時(shí)選擇定位檢漏方法；檢漏，用于局部區(qū)域的定量檢漏方法可用作定位檢漏。與主要技術(shù)條件相關(guān)的選擇與主要技術(shù)條件相關(guān)的選擇，應(yīng)遵循：所選檢漏方法的有效最小可檢漏率不應(yīng)大于允許漏率的1/10；所施加的檢漏壓力不應(yīng)大于真空設(shè)備的工作壓力；所施加的檢漏壓力的方向、大小應(yīng)與真空設(shè)備在工作條件下的壓力狀態(tài)全都。與檢漏實(shí)施條件相關(guān)的選擇與檢漏實(shí)施條件相關(guān)的選擇，應(yīng)遵循：檢漏方法實(shí)施后不應(yīng)給真空設(shè)備、檢測(cè)儀器、實(shí)施人員帶來(lái)不行承受影響；在選擇檢測(cè)儀器時(shí)，應(yīng)優(yōu)先考慮利用真空設(shè)備本身或現(xiàn)場(chǎng)可用于檢漏的檢測(cè)儀器進(jìn)展檢漏；漏，其次考慮檢漏方法本身使用的示蹤介質(zhì)進(jìn)展檢漏；檢漏方法應(yīng)滿足真空設(shè)備的外形構(gòu)造、密封構(gòu)造對(duì)檢漏實(shí)施的要求，便于實(shí)施檢漏；檢漏方法所承受的示蹤介質(zhì)應(yīng)與被檢真空設(shè)備相容，不與其材料發(fā)生反響；檢漏方法外表處理的工藝應(yīng)與被檢真空設(shè)備的要求相匹配；在真空設(shè)備生產(chǎn)階段，可適當(dāng)提高密封性能要求，減小組件的允許漏率。確定檢漏方法險(xiǎn)小、環(huán)境污染小、經(jīng)濟(jì)的檢漏方法。檢漏安全壓差所選檢漏方法施加的檢漏壓力不應(yīng)超過(guò)真空設(shè)備的允許壓力，避開人員損害或設(shè)備損壞。含有液氮冷阱的真空設(shè)備，檢漏時(shí)應(yīng)遵守規(guī)定的放空程序。危急材料含有危急材料的真空設(shè)備，應(yīng)予以識(shí)別，并在檢漏開頭前設(shè)置防護(hù)措施。對(duì)全部氣體的操作都須慎重，應(yīng)考慮氣體的性質(zhì)，如窒息、有毒等。用電安全所選檢漏方法使用的用電儀器設(shè)備應(yīng)考慮用電安全，做好漏電保護(hù)措施。附錄附錄A〔標(biāo)準(zhǔn)性附錄〕不同檢漏條件的漏率修正概要10-7Pa·m3/s時(shí)流淌狀態(tài)為分子流狀態(tài)，氦氣漏率大于10-5Pa·m3/s時(shí)是粘滯流狀態(tài)。壓力分子漏孔對(duì)于分子漏孔，在不同壓力下的漏率按式〔A.1〕計(jì)算：pq q2 1

2 (A.1)p1p p p2 B2 A2式中：

p p p1 B1 A1q2 ——漏孔在第2種壓力狀態(tài)下的漏率，單位為帕立方米每秒〔Pa·m3/s〕；qq1 ——漏孔在第1種壓力狀態(tài)下的漏率，單位為帕立方米每秒〔Pa·m3/s〕；qpA1——漏孔在第1種壓力狀態(tài)下出口壓力，單位為帕〔Pa〕；pA2——漏孔在第2種壓力狀態(tài)下出口壓力，單位為帕〔Pa〕；pB1——漏孔在第1種壓力狀態(tài)下入口壓力，單位為帕〔Pa〕；pB2——漏孔在第2種壓力狀態(tài)下入口壓力，單位為帕〔Pa〕。粘滯漏孔對(duì)于粘滯漏孔，在不同壓力下的漏率按式〔A.2〕計(jì)算：p2 p2 p pq q

2

A2q

2 2 (A.2)式中：p p p B2 A22 2 ；

2 1 p2B1

p2A1

1p p1 1pp 1

p A12 。溫度分子漏孔對(duì)于分子漏孔，在不同溫度下的漏率按式〔A.3〕計(jì)算：T2T1q T2T1T2 T1

………(A.3)式中：q2T2——對(duì)應(yīng)在溫度T下的漏率，單位為帕立方米每秒〔Pa·m3/s〕；q2q1T1——對(duì)應(yīng)在溫度T下的漏率，單位為帕立方米每秒〔Pa·m3/s〕；q12T——?dú)怏w在第2種狀態(tài)下的溫度，單位為開氏溫度〔K〕；21T——?dú)怏w在第1種狀態(tài)下的熱力學(xué)溫度，單位為開氏溫度〔K〕。1粘滯漏孔對(duì)于粘滯漏孔，在不同溫度下的漏率按式〔A.4〕計(jì)算：T1T1T2式中：

q qT2

T1

或近似為qT2

q 〔A.4〕T1T1 1 ——?dú)怏w在T溫度下的氣體動(dòng)力粘滯粘度，單位為帕·秒〔T1 1T2 2 ——?dú)怏w在T溫度下的氣體動(dòng)力粘度，單位為帕·秒〔PaT2 2氣體種類分子漏孔對(duì)于分子漏孔，假設(shè)當(dāng)示蹤介質(zhì)不同，漏率與氣體分子量的換算關(guān)系按式〔A.5〕計(jì)算：式中：q

q q G2 G1

MMG1MMG1G22G2——?dú)怏wG通過(guò)漏孔的漏率，單位為帕立方米每秒〔Pa·m3/s〕；2qG1——?dú)怏wG通過(guò)漏孔的漏率，單位為帕立方米每秒〔Pa·m3/s〕；1MG1——?dú)怏wG1的分子質(zhì)量，單位為千克每摩爾〔kg/mol〕；2MG2——?dú)怏wG的分子質(zhì)量，單位為千克每摩爾〔kg/mol〕。2粘滯漏孔對(duì)于粘滯漏孔，假設(shè)示蹤介質(zhì)不同，漏率與氣體分子量的換算關(guān)系按式〔A.6〕計(jì)算：式中：

q qG2

G1G2 (A.6)1G1——?dú)怏wG的動(dòng)力粘度，單位為帕·秒〔Pa·s〕；12G2——?dú)怏wG的動(dòng)力粘度，單位為帕·秒〔Pa·s〕。2其他因素影響對(duì)漏率測(cè)量的影響也很大，假設(shè)壓力方向與工作方向相反時(shí)應(yīng)格外留意。附錄附錄B〔標(biāo)準(zhǔn)性附錄〕真空設(shè)備常用檢漏方法及主要特征參數(shù)表B.1規(guī)定了真空設(shè)備常用檢漏方法及特征參數(shù)。檢漏方法序號(hào)檢漏方法序號(hào)典型應(yīng)用根底方法應(yīng)用技術(shù)1示蹤探頭2氦質(zhì)譜真空法a護(hù)罩3檢漏盒4真空容器、鍍膜設(shè)備、真空冶真空焊接設(shè)備。器、管道。正壓工作的真空設(shè)備。567氦質(zhì)譜正壓法b充壓積存吸槍管道、小型真空容器、真空獲態(tài)下工作的設(shè)備。89示蹤壓力qemin檢漏類型檢漏區(qū)域介質(zhì)方向(Pa·m3/s)定定整局量位體部氦氣負(fù)壓10-9BA—A氦氣負(fù)壓10-10ABBA氦氣無(wú)要求10-10BABA氦氣正壓10-10A—A—氦氣正壓10-8A—A—氦氣正壓10-7A—A—氦氣正壓10-8—A—A氦氣正壓10-7BA—A氦氣正壓10-6BA—A氮?dú)鈿饨莼蚺菘菰锓ㄒ后w膜空氣氮?dú)鈮毫驂毫ψ兿陆悼菰锘諝?0直測(cè)收集正壓1010直測(cè)收集正壓10-4A—A—11正壓10-4ABA真空閥門、小型密閉容器、真空獲得設(shè)備的腔體、真空設(shè)備—的密封件。12正壓或無(wú)要求10-3BABA 真空容器、管路。13正壓10-5A—A可承受正壓的容器、管道、深—冷真空設(shè)備。14靜態(tài)升壓空氣負(fù)壓10-5A—A— 真空設(shè)備的容器、腔體。檢漏方法序示蹤壓力qemin檢漏類型檢漏區(qū)域典型應(yīng)用15壓力變 鐘罩壓力 或化法 變化 負(fù)壓10-6A —A小型真空容器、管道、夾層真—空容器的內(nèi)膽。1617鹵素內(nèi)-外式18罩盒積存真空冷凍枯燥設(shè)備的制冷系統(tǒng)。19超聲檢漏法氣正壓10-2BA—A大型真空規(guī)設(shè)備、容器、管道。B”為依據(jù)肯定要求可應(yīng)用，“—”為不推舉或不適用。a 氦質(zhì)譜真空檢漏時(shí)，氦質(zhì)譜檢漏儀從真空環(huán)境中捕獲示蹤介質(zhì)；b C環(huán)境壓力狀態(tài)下捕獲示蹤介質(zhì)。號(hào)根底應(yīng)用介質(zhì)方向(Pa·m3/s)定定整局方法技術(shù)量位體部空氣鹵素正壓10-7A—A—鹵素正壓10-7—A—A鹵素正壓10-9A—A—附錄附錄C〔資料性附錄〕其他檢漏方法及主要特征參數(shù)表C.1為可用于真空設(shè)備檢漏的其他檢漏方法及主要特征參數(shù)。表C.1真空設(shè)備檢漏方法及特征參數(shù)序序號(hào)檢漏方法原理簡(jiǎn)述檢測(cè)裝置檢測(cè)范圍(Pa·m3/s)示蹤介質(zhì)檢漏類型備注11質(zhì)譜法使示漏氣體離子和殘余氣體離子分開。儀≥10-9氫氬定量定位氦應(yīng)用技術(shù)與氦質(zhì)譜正壓相像。檢漏靈敏度與被2氨比≥10-9氨定位一次對(duì)整體進(jìn)展化學(xué)色法的氨氣，泄漏的氨氣使著色劑顏色變化。劑或試紙檢漏，不存在大漏孔掩蓋小漏孔現(xiàn)法象。3≥10-6氨定位檢漏靈敏度與被法氧化硫、鹽酸噴涂，“冒白煙”。二氧化硫鹽酸一次對(duì)整體進(jìn)展檢漏。示蹤介質(zhì)在壓力作用4法漏孔的位置和漏率的感器≥10-3空氣定位其頻率檢測(cè)范圍可以從幾千赫到遠(yuǎn)。大小。被檢件內(nèi)加壓，氣體5聲學(xué)聽音通過(guò)漏孔后，引起周圍環(huán)境介質(zhì)產(chǎn)生聲人耳，醫(yī)≥10-2空氣、氮定位承受耳聽方式檢測(cè)，檢漏系統(tǒng)較簡(jiǎn)法法波，通過(guò)人耳或醫(yī)用用聽診器單，本錢低。聽診器檢測(cè)漏孔。序檢測(cè)檢測(cè)范圍檢測(cè)方法 原理簡(jiǎn)述 示蹤介質(zhì)序檢測(cè)檢測(cè)范圍檢測(cè)方法 原理簡(jiǎn)述 示蹤介質(zhì)檢漏類型備注劑定位目測(cè)熒光材料〔如葸〕定位目測(cè)號(hào)裝置(Pa·m3/s)將著色滲透劑涂敷在被檢件一側(cè)外表，通6著色滲透過(guò)漏孔的毛細(xì)作用進(jìn)入漏孔內(nèi)部并從被檢人眼≥10-3法件的另外一側(cè)外表滲滲透法出，從而檢出漏孔位置的一種檢漏方法。被檢件經(jīng)過(guò)帶有熒光7熒光滲透材料的飽和有機(jī)溶劑浸泡或涂抹，然后清人眼 ≥10-9法除外表液體，用紫外燈照耀觀看。99特別測(cè)試氣體，會(huì)發(fā)光聲檢漏法激光器，麥克風(fēng)≥10-5SF6定位10高頻法玻璃容器外部移動(dòng)，段指向漏孔。高頻火花檢漏儀≥10-3酮、乙醇、碳等定位操作不當(dāng)易引起容器擊穿高壓法11高頻法利用低真空氣體放電的顏色進(jìn)展檢漏高頻火花檢漏儀≥10-3丙酮、乙二氧化碳等定位避開人體觸電，真度的變化。煤油將煤油灌入被檢件8 滲透內(nèi)，加壓觀看外外表人眼≥10-4煤油定位 目測(cè)法的潮濕點(diǎn)。被鼓勵(lì)的泄漏出來(lái)的射出特別的光聲信的大小。高頻火花檢漏儀的放電尖端在被抽真空的空氣、丙序號(hào)檢測(cè)檢測(cè)范圍序號(hào)檢測(cè)檢測(cè)范圍檢漏檢測(cè)方法12單電法13傳感14差動(dòng)+電空計(jì)原理簡(jiǎn)述示蹤介質(zhì)備注裝置(Pa·m3/s)類型系統(tǒng)處于動(dòng)態(tài)平利用示漏氣體轉(zhuǎn)變電電阻真空二氧化碳衡后進(jìn)展檢漏，觀阻真空計(jì)的導(dǎo)熱系規(guī)和真空≥10-5氫定位察時(shí)間要長(zhǎng)。測(cè)量數(shù)。計(jì)丁烷范圍打算于真空計(jì)的范圍。離只對(duì)空氣讀數(shù)。≥10-6丁烷定位穩(wěn)定。低溫活性炭阱串接在電阻真空電阻真空計(jì)管路中，以降低本底壓力的影規(guī)和真空計(jì)，活性≥10-6氫定位響。炭冷阱單電利用示漏氣體電離電氫15離計(jì)位不同，電離計(jì)讀數(shù)電離計(jì)≥10-6二氧化碳定位法與氣體種類有關(guān)。丁烷測(cè)量范圍打算于漏氣體不能污染系統(tǒng)。測(cè)量范圍打算于漏氣體不能污染系統(tǒng)。16差動(dòng)承受兩只電離計(jì)，用。電離計(jì)≥10-9丁烷定位可以抵消空氣、真穩(wěn)定。17傳感鈀欄鈀法〕鈀加熱時(shí)只能通