全球及中國涂膠顯影設備行業發展現狀及市場競爭格局分析一、涂膠顯影設備綜述涂膠顯影設備（又稱Track或Coater＆Developer）是與光刻機配合進行作業的關鍵處理設備，主要負責涂膠、烘烤及顯影。在早期的集成電路和較低端的半導體制造工藝中，此類設備往往單獨使用（OffLine）。隨著集成電路制造工藝自動化程度及客戶對產能要求的不斷提升，在200mm（8英寸）及以上的大型生產線上，此類設備一般都與光刻設備聯機作業（InLine），組成配套的圓片處理與光刻生產線，與光刻機配合完成精細的光刻工藝流程。涂膠顯影設備會直接影響到光刻工序細微曝光圖案的形成，是集成電路制造過程中不可或缺的關鍵處理設備。涂膠顯影和噴膠設備介紹二、光刻工藝中的涂膠顯影涂膠/顯影機作為光刻機的輸入（曝光前光刻膠涂覆）和輸出（曝光后圖形的顯影），主要通過機械手使晶圓在各系統之間傳輸和處理，從而完成晶圓的光刻膠涂覆、固化、顯影、堅膜等工藝過程。其直接影響到光刻工序細微曝光圖案的形成，從而影響后續蝕刻和離子注入等工藝中圖形轉移的結果，因而涂膠顯影設備是集成電路制造過程中不可或缺的關鍵處理設備。光刻工藝中的涂膠顯影相關報告：華經產業研究院發布的《》三、涂膠顯影設備行業發展現狀顯影的精度即為光刻的精度，因此涂膠顯影設備對關鍵制程的形成也十分重要。除了前道的EUV光刻帶來的高端增量以外，相對低端后道封測、LED制造等用的涂膠顯影設備也存在市場增量。從全球市場來看，據統計2020年全球前道涂膠顯影設備行業市場規模為19.05億美元，后道涂膠顯影設備行業市場規模為0.81億元，市場基本保持穩定增長。2019-2023年全球涂膠顯影設備行業市場規模情況中國半導體市場規模需求增大，帶動涂膠顯影設備市場規模增長。從中國涂膠顯影設備市場規模來看，據統計，2020年中國前道和后道涂膠攝影設備市場規模分別為7.55億美元、0.59億美元，全球份額保持在40%左右，中國大區是全球最重要的行業增長來源。2019-2023年中國涂膠顯影設備行業市場規模情況注：統計數據包含中國臺灣地區。四、涂膠顯影設備行業競爭格局在全球光刻工序涂膠顯影設備領域，據統計，2019年全球范圍內日本東京電子（TEL）一家獨大，市場份額接近87%，其他生產企業包括日本迪恩士（DNS）、德國蘇斯微（SUSS）、臺灣億力鑫（ELS）、韓國CND等，國內生產企業主要是沈陽芯源微電子。2019年全球涂膠顯影行業市場競爭格局從中國大陸市場競爭格局來看，據統計，2019年中國大陸地區，市場份額被三家瓜分，分別是東京電子占比91%，DNS占比5%，國內企業芯源微占比4%，行業寡頭效應明顯，集中度高，國產替代空間巨大。2019年中國大陸涂膠顯影行業市場競爭格局芯源微前道涂膠顯影設備已取得突破性進展。源微目前的主要產品為用于后道先進封裝和LED制造等的涂膠顯影設備，產品進入主流大客戶；用于前道晶圓制造的涂膠顯影設備已獲得部分客戶驗證及批量訂單，產品有發往上海華力、長江存儲、中芯紹興、上海積塔等多個客戶驗證。按照offline→I-line→KrF→ArF→ArFi的制程發展趨勢，逐步實現前道涂膠顯影設備向28nm及更高工藝制程