標準解讀

《GB/T 29658-2013 電子薄膜用高純鋁及鋁合金濺射靶材》是一項國家標準，旨在規范用于制造電子薄膜的高純度鋁及其合金濺射靶材的技術要求、試驗方法、檢驗規則以及包裝、標志、運輸和貯存等方面。該標準適用于電子行業中的平板顯示器、半導體器件等產品的生產過程中作為導電層或反射層材料使用的濺射靶材。

根據標準內容，對于鋁及鋁合金濺射靶材的主要成分進行了明確規定，包括但不限于鋁（Al）含量應達到99.99%以上，并對雜質元素如鐵(Fe)、硅(Si)、銅(Cu)等的最大允許量設定了限制值。此外，還針對不同類型的鋁合金制定了相應的化學成分范圍。

在物理性能方面，《GB/T 29658-2013》規定了密度、電阻率等參數的具體數值要求；同時，對于外觀質量也提出了明確的標準，比如表面不得有裂紋、氣孔等缺陷。標準還詳細列出了檢測上述各項指標所需采用的方法和技術手段，確保產品質量可控可追溯。


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....

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  • 現行
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  • 2013-09-06 頒布
  • 2014-05-01 實施
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文檔簡介

ICS7712010

H61..

中華人民共和國國家標準

GB/T29658—2013

電子薄膜用高純鋁及鋁合金濺射靶材

High-puritysputteringaluminiumandaluminium

alloytargetusedinelectronicfilm

2013-09-06發布2014-05-01實施

中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局發布

中國國家標準化管理委員會

GB/T29658—2013

前言

本標準按照給出的規則起草

GB/T1.1—2009。

本標準由全國有色金屬標準化技術委員歸口

(SAC/TC243)。

本標準負責起草單位有研億金新材料股份有限公司

:。

本標準參加起草單位寧波江豐電子材料有限公司新疆眾和股份有限公司

:、。

本標準主要起草人萬小勇羅俊鋒廖贊尚再艷楊華朱曉光孫秀霖何金江熊曉東王興權

:、、、、、、、、、、

王學澤錢紅兵喻潔劉杰洪濤努力古宋玉萍

、、、、、、。

Ⅰ

GB/T29658—2013

電子薄膜用高純鋁及鋁合金濺射靶材

1范圍

本標準規定了電子薄膜制備用高純鋁及鋁合金靶材的要求試驗方法檢驗規則及標志包裝運

、、、、

輸存貯訂貨單或合同等內容

、、()。

本標準適用于電子薄膜用各類高純鋁及鋁合金濺射靶材以下簡稱鋁靶

()。

2規范性引用文件

下列文件對于本文件的應用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本標

。,

準凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本標準

。,()。

一般公差未注公差的線性和角度尺寸的公差

GB/T1804

金屬平均晶粒度測定方法

GB/T6394

金屬材料中氫氧氮碳和硫分析方法通則

GB/T14265、、、

無損檢測氦泄漏檢測方法

GB/T15823

鋁及鋁合金化學分析方法第部分電感耦合等離子體原子發射光譜法

GB/T20975.2525:

變形金屬超聲檢驗方法

GJB1580A

鋁制焊接容器

JB/T4734

濺射靶材背板結合質量超聲波檢驗方法

YS/T837-

高純鋁化學分析方法痕量雜質元素的測定輝光放電質譜法

YS/T871

3要求

31產品分類

.

311按照應用領域分為半導體布線用高純濺射靶材半導體封裝用高純濺射靶材平板顯示器用高

..:、、

純濺射靶材和太陽能電池用高純濺射靶材

。

312按照結構形式分為單體和焊接兩種

..。

313按外形分為圓形矩形和三角形等

..、。

32合金成分與純度

.

321根據合金材料不同可分為純鋁靶鋁硅合金靶鋁銅合金靶鋁硅銅合金靶四種靶材

..,、、、。

322高純鋁合金靶中合金元素含量應不超過規定成分的

..±10%。

323鋁靶合金成分及雜質元素要求應符合表規定

..1。

表1鋁靶合金成分和對應的雜質元素

成分

AlAlSiAlCuAlSiCu

或合金含量不小于

AlAl

99.9999.99999.999599.99599.99999.999599.99999.999599.99999.999

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