ICS71.040.40N33中華人民共和國國家標準GB/T20175-2006/ISO14606：2000表面化學分析斌射深度部析用層狀膜系為參考物質的優化方法Surfacechemicalanalysis-Sputterdepthprofiling-Optimizationusinglayeredsystemasreferencematerials（ISO14606:2000,IDT)2006-03-27發布2006-11-01實施中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局發布中國國家標準化管理委員會

GB/T20175-2006/ISO14606:2000次前言引言1范圍2術語和定義3符號和縮略語4藏射深度部析的參數設定5誠射深度部析時理想突變界面的深度分辨6參數設定優化的步驃附錄A（資料性附錄）影響深度分辨的因素附錄B（資料性附錄)典型單層膜系參考物質附錄C（資料性附錄)典型多層膜系參考物質附錄D（資料性附錄)多層膜系的使用參考文獻

GB/T20175-2006/ISO14606:2000前本標準等同采用ISO14606:2000《表面化學分析濺射深度部析用用層狀膜系作為參考物質的優化方法》。本標準附錄A、附錄B、附錄C、附錄D為資料性附錄本標準由全國徽束標準化技術委員會提出。本標準由全國微束標準化技術委員會歸口本標準負責起草單位：清華大學電子工程系。本標準主要起草人：查良鎮、陳旭、王光普、黃雁華、黃天斌、劉林、葛欣、桂東

GB/T20175-2006/ISO14606:2000在硅片、多層膜器件(如AIGaAs雙異質結激光器,各種高電子遷移率晶體管)和車體防腐作用合金-鍍鋅鋼等材料中，參考物質用于優化濺射部析方法的深度分辨本標準的具體應用范圍如下：“）在俄歇電子能譜、X射線光電子能譜和二次離子質譜的儀器設定時.用襯底上單層和多層膜系為參考物質來優化深度分辨。用這些膜系來說明濮射弧坑的平滑度、弧坑底的傾斜度、樣品漂移以及各種濮射條件(如離子東流密度)的漂移等因素對深度分辨的影響。用用這些膜系來說明濺射誘導的表面粗糙度和濾射誘導的原子混合等因素對深度分辨的影響，用這些膜系為儀器供應者和用戶來評估儀器的性能。本標準是適時的，可成為進一步發展濮射深度部析的基礎在參考文獻-中給出與本標準相關ISO指南的目錄。注：在本標準制定過程中.用多層摻雜膜系參考物質評估深度分辨參數的方法已在二次離子質譜學中退速發展和廣泛應用,并由ISO/SC6二次離子質譜分委員會立項制定相關的ISO標準。ISO20341國際標準（表面化學分析二次離子質譜用多6層參考物質評估深度分養參數的方法)已于2003年7月15日頒布

GB/T20175—2006/IS014606:2000表面化學分析斌射深度部析用層狀膜系為參考物質的優化方法1范圍為使俄歇電子能譜、X射線光電子能譜和二次離子質譜的儀器設定達到深度分辨的優化目的.本標準采用適當的單層和多層膜系參考物質，提供優化灘射深度部析參數的指南。特殊多層膜系(如各種摻雜層膜系)的使用不包括在本標準內。術語和定義本標準采用下列術語和定義住1：本標準采用的術語主要引自ASTME673—97。術語的定義做了一些修改以便與正由ISO/TC201/SC1制定的術語保持一致。住2：ISO18115表面化學分析術語國際標準已于2001年7月15日頒布2.1分析面積analysisarca被測平面內樣品表面的二維區域,從此區域內檢測到全部或指定百分比的信號22弧坑邊緣效應Crateredgeeffect來自弧坑邊緣的信號，通常是在深度部析時由于弧坑邊緣比弧坑中心區淺而引起的23誠射深度刮析sputterdepthprofile當材料被濺射剝離時測量表面成分得到的成分深度分布2.4誠射速率Sputteringrate單位時間經粒子轟擊而導致樣品材料被剝離的總量。住：該速率可用速度、單位時間單位面積的質量或單位時間測得的其他量來度量2.5門區域gatedarea在較大區域內從中可獲取信號的指定區域2.6入射角angleofincidence人射束與該處或平均表面法線間的夾角。27深度分瓣depthresolution當部析兩介質間理想突變界面時，信號強度增加或減少指定量值的深度范圍注1：按常規.深度分辨常用兩媒質各