標準解讀
GB/T 17103-1997 是一項中國國家標準,全稱為《金屬材料定量極圖的測定》。該標準規定了如何對金屬材料內部的微觀組織結構進行定量分析,尤其是通過極圖(也稱作極區圖、晶粒取向圖)來測定其晶體學取向分布的方法。這對于理解材料的性能與加工過程中的組織演變至關重要。以下是該標準的主要內容概要:
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適用范圍:本標準適用于各種金屬及其合金材料,特別是那些其性能顯著受晶體取向影響的材料,如鋼鐵、鋁、鈦合金等。通過定量極圖分析,可以為材料科學、材料加工工藝優化及產品質量控制提供重要信息。
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術語和定義:標準首先明確了相關的專業術語,包括極圖、取向分布函數(ODF)、晶粒取向等基本概念,確保了在執行測試時的術語統一性。
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試驗方法:
- 樣品制備:詳細說明了樣品的選取、切割、鑲嵌、磨光、拋光以及最終的電解或化學腐蝕等預處理步驟,以暴露出清晰的晶粒邊界。
- 極圖獲取:介紹了使用電子背散射衍射(EBSD)或X射線衍射(XRD)技術獲取晶粒取向數據的具體方法,包括掃描參數、數據收集策略等。
- 數據分析:規定了如何將收集到的原始數據轉換為取向分布函數(ODF),并進一步生成極圖。這一步驟可能涉及特定的數學變換和統計分析。
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精度和準確度:闡述了測量過程中可能產生的誤差來源,包括儀器精度、樣品制備質量、數據分析方法等,并提出了評估和控制這些誤差的方法,以確保測試結果的可靠性。
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試驗報告:要求在試驗報告中應包含但不限于樣品描述、試驗條件、所用設備、數據處理方法、極圖及ODF圖、以及任何必要的解釋或結論。
如需獲取更多詳盡信息,請直接參考下方經官方授權發布的權威標準文檔。
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- 廢止轉行標
- 本標準已被廢除、停止使用,轉為行業標準
- 1997-11-11 頒布
- 1998-05-01 實施



文檔簡介
ICS.77.040.30H21中華人民共和國國家標準GB/T17103-1997金屬材料定量極圖的測定MetalmaterialOuantitativePolefigurepreparingmethod1997-11-11發布1998-05-01實施國家技術監督局發布
GB/r17103-1997面本標準非等效采用美國ASTME81—90《制備定量極圖的標準方法》。本標準是在上述標準的基礎上,考患到近十幾年來科學技術的發展和我國織構測量及研究的現狀,副去ASTM標準中不具普遍性的實驗方法和不再實用的實驗技術,對狹縫的調整和品粒度的影響做了重要修改,將整個實驗建立在計算機采集數據和進行數據處理的基礎上。方法更加規范化,各部分的敘述和要求更加嚴格準確,本標準由中華人民共和國治金工業部提出。本標準由治金工業部信息標準研究院歸口。本標準起草單位:首鋼治金研究院、東北大學。本標準主要起草人:胡小軍、王福、丘利、榮廣平、石少均
中華人民共和國國家標準金屬材料定量極圖的測定GB/T17103--1997Metalmaterial-Quantitativepolefigurepreparingmethod圍本標準規定了用X射線衍射儀測繪金屬材料定量極圖的基本方法。本標淮適用于冷、熱加工金屬板和一定條件下的再結品金屬板。其他多品材料定量極圖測繪也可參照木方法、2引用標準下列標準所包含的條文,通過在本標準中引用而構成為本標準的條文。在標準出版時,所示版本均為有效。所有標準都會被修訂,使用本標準的各方應探討使用下列標準最新版本的可能性。YB/T5148-93金屬平均品粒度測定方法3原理3.1極圖是被測多品材料中品體某一選定品面族(HKL)的取向分布在平面極坐標中的二維表示。極圖可以用來計算品體取向分布和定性描述織構,3.2本標準將Schulz反射法作為反射法測量的基本實驗方法3.2.1若極圖數據用于計算品體取向分布,則優選采用反射法測量部分極圖。在許多情況下,這種部分極圖已能滿足定性描述織構的要求。3.3本標準將Decker等人的透射法作為透射法測量的基本實驗方法。,它可以與Schulz反射法組合給出全極圖3.4本實驗方法給出試樣的檢測品面法線相對于試樣參考坐標系的取向分布。這種分布是通過測量衍射X射線強度獲得的。在整個測量過程中,探測器和相關的限制狹縫被固定在兩倍Bragg角的位置上。逐次改變試樣的取向,并記錄下試樣處于不同取向位置時的衍射義射線強度。若測量全極圖,則需將測量獲得的強度數據經扣除背底、對反射法測量數據做散焦校正及對透射法測量數據做吸收校正,用最小二乘法或其他方法進行透反射數據銜接,即透射數據乘以系數人.,見公式(1)。:··············(>其中..和以分別為銜接處不同8角下,用透射法和反射法測最的X射線強度數據。然后歸一化到一個平均單位值。歸一化的原則為,見公式(2):P(y.B)sinyAA3=1其中,P(4,P)為極密度值,B為試樣繞00軸的轉角,為試樣繞FF軸的傾角(見圖1)。3.5Schulz反射法的幾何原理表示在圖1中。用L表示X射線源。狹縫S1限制了人射光束在投影平面中的發散度。入射和
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