標準解讀

GB/T 15717-1995 是一項中華人民共和國國家標準，全稱為《真空金屬鍍層厚度測試方法　電阻法》。該標準規定了使用電阻法來測量真空沉積金屬鍍層厚度的方法原理、設備要求、測試步驟、數據處理以及試驗報告等內容，旨在為真空鍍膜領域中金屬鍍層的厚度測量提供統一、準確的測試方法。

標準內容概覽：

  1. 范圍：明確了本標準適用于各類真空沉積技術（如真空蒸鍍、濺射等）制備的金屬鍍層厚度的測量，鍍層厚度范圍一般在0.1微米到幾微米之間。

  2. 規范性引用文件：列出了實施該標準時所依據的其他相關標準和文獻，確保測試過程的標準化和準確性。

  3. 術語和定義：對測試中涉及的關鍵術語進行了界定，如“基體”、“鍍層”、“電阻率”等，以便讀者準確理解測試中的專業詞匯。

  4. 原理：介紹了電阻法的基本原理，即通過測量鍍層的電阻值并結合鍍層材料的電阻率、幾何形狀等參數，利用相應的物理公式計算出鍍層的厚度。此方法基于導電鍍層的電阻與其厚度成反比的關系。

  5. 設備要求：詳細描述了執行測試所需的儀器設備規格和性能要求，包括電阻測試儀、樣品制備工具等，確保測試設備的精度和適用性。

  6. 試樣制備與處理：規定了樣品的選取、切割、表面處理等預處理步驟，確保測試結果的代表性與可靠性。

  7. 測試步驟：詳細說明了從安裝樣品、連接測試電路、進行電阻測量到計算鍍層厚度的具體操作流程，每一步都需嚴格遵循以減少誤差。

  8. 數據處理：闡述了如何根據測得的電阻值，結合鍍層材料的電阻率、樣品尺寸等信息，通過數學計算得出鍍層厚度，包括必要的校正和誤差分析。

  9. 試驗報告：規定了試驗報告應包含的信息內容，如樣品描述、測試條件、測量結果及結論等，以保證測試結果的可追溯性和透明度。


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  • 被代替
  • 已被新標準代替，建議下載現行標準GB/T 15717-2021
  • 1995-10-18 頒布
  • 1996-04-01 實施
?正版授權
GB/T 15717-1995真空金屬鍍層厚度測試方法電阻法_第1頁
GB/T 15717-1995真空金屬鍍層厚度測試方法電阻法_第2頁
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文檔簡介

325.220.40A83中華人民共和國國家標準GB/T15717-1995真空金屬鍍層厚度測試方法電阻法Testmethodforvacuum-depositedmetalthickness-Electricresistancemethod1995-10-18發布1996-04-01實施家技術監督局發布

中華人民共和國國家標準真空金屬鍍層厚度測試方法電阻法GB/T15717-1995Testmethodforvacuum-depositedmetalthickness-Electricresistancemethod1主題內容與適用范圍本標準規定了絕緣軟基材表面的真空金屬鍍層厚度的測試方法。本標準適用于絕緣軟基材表面的真空金屬鍍層厚度的測量。引用標準GB2918塑料試樣狀態調節和試驗的標準環境武驗原理及裝置3.1試試驗原理試樣金屬鍍層為一段金屬導體，依據歐姆定律測量規定長度和寬度試樣的金屬鍍層電阻值，以方塊電阻表示金屬鍍層的厚度或直接計算其厚度。3.2試驗裝餅五海電橋0士0.1真空金屬鎖層厚度測址裝覽結構示意圖1直流電橋：2導線：3測量頭4-測量頭連接板；5被測樣品：6橡膠板國家技術監

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