一、非氧化物復合耐火材料的發展和傳統方 二、逆反應燒結法原理和特，為了簡化燒結工藝，降低成本科技大學的教授等提出了利，三、逆反應燒結法應用舉--剛玉氮化硅復合耐火材逆反應燒結法剛玉氮化硅材料的熱力學計算和分類型不僅決定于氧分壓還決定氧化物分壓的大小。Si3N4材料氧化的生成物SiO2SiO決定氧化硅和氧的分壓。SiO(g)＋1/2O2(g)= △G=－812.14＋0.32518T－0.0191Tlog(

P 當反應達到平衡時，△G1=0，log(

PO2O即，log( /Pθ)＋1/2log(P 按上式作不同溫度下log( /Pθ)和log(P/Pθ)的關系 活活活活log(Plog(P------- - - -

0- - /P1SiO2SiOO2O分壓的降低，SiO的分壓升高。在1873K下，兩者相等的分壓為log( =log(P/Pθ)=－3.78，即 =1.7×10-5MPa時 也達到相同的

量還很少。只有當氧分壓降低至log(P/Pθ)=－11.33時，log( PSiO=0.1MPa,SiO沸騰”的壓力，才能顯著向外揮發。也表明O2分壓降到該值后SiN只能氧化成SiO。因此，文獻將( /Pθ)=1時的（P/Pθ）值 1873K時Si-O-NSiSi3SiN220-logPlogP----- - - - - - - 2Si-O-N系相穩定圖由圖2可知，在1873K時，當剛玉-氮化硅復合材料在空氣結時，表面的Si3N4首先被氧化成二氧化硅，即按下式反應 △G=－1991.33+0.20794T+0.0191T[log( /Pθ)2-log(P N 在空氣中時， /Pθ=0.78，PN 很難進入到材料中，同時反應(2)的進行使氧化層的O2 2SiO(3)

Si3N4(s)+3/2O2(g)=3SiO 生成的SiO(g)擴散出來和Al2O3進行如下反應(4) 生成的和氮化硅又可形成X相，反應式如下反應(5) log(P/Pθ)=－14.0~－15.0X試驗表 表 NO（g/cm3）溫非等溫動力學分析其余粉料充分混合均勻后在電動油壓機成φ25mm×20mm100MPa100℃，24小時干燥后，于不XRD、SEM、EDS逆反應燒結 剛玉氮化硅材料的動力學機表 體積密度顯氣孔率耐壓強度增重率價化合物燒結在一起，這也是耐火材料工作者經常用Si氮化法反應燒結的原因此，本研究旨在探索消耗部分Si3N4而在氧化氣氛結的途徑，即“逆反A:AlA:AlMN:SiM:AAMAAAMM+MNMAMANN+MNMNAAA 3XRDAAA:AlNSiM:AAX:SiAlOAMNANXAAMNNAXXXXXXNAMMNMMXAMAMXAA 4XRD56所示。561EDS結合X-光衍射結果，可以判斷1處為和剛玉形成的固溶體、，由圖3可見，氧化層的物相組成為剛玉，氮化硅、和石英，氮化硅還玉、氮化硅和X相，氮化硅峰強度明顯強于氧化層，說明氧化程度較輕,成如前所述?？梢姾芨叩牡韬蛣傆裰阅軌驘Y，原因是氮化硅能將兩個高的化合物燒結在一起二氧化硅繼續和剛玉反應生成高的結合相及X相。同時，在氧化條件燒結時，剛玉氮化硅材料中由于能形成致密、，將試樣AN-1、AN-2、AN-3、AN-4在空氣氣氛中1600℃保溫2小時燒成，燒4。AAA:Al2AM:3AlO2 AAAAAAMMMAA 7AN-11600℃XRD由X-射線衍射結果可知，AN-1中只有剛玉和，已經不存在氮化硅，AN-2表AN-4表面鼓泡，可能是氮化硅含量過高，氧化劇烈而使得表面氧化膜中氣AN-3中由于氮化硅加入量