1、 PAGE 2材料(cilio)現代分析方法實驗(shyn)指導梁偉 編太原(ti yun)理工大學材料科學與工程學院2013.11依本年度實驗條件(tiojin)，實驗三和實驗四的順序略作調整目錄(ml)實驗一 主要(zhyo)儀器及功能了解實驗二 材料的X射線衍射分析實驗三 材料掃描電子顯微分析及X射線能譜分析實驗四 材料透射電子顯微分析及樣品制備附加電子背散射衍射分析 PAGE 10 PAGE 19實驗一 主要儀器(yq)及功能了解一、實驗(shyn)目的初步認識各種主要的材料現代分析儀器，了解其主要功能(gngnng)和用途。二、各類典型儀器的外形、主要功能及用途1 X射線衍射儀X射線

2、衍射儀(XRD)是根據晶體對X射線衍射的原理，利用X射線照射樣品并探測衍射線的空間分布方向和強度，從而實現晶體結構分析的儀器。其基本分析項目包括：物相定性分析和定量分析，點陣常數測定，一、二、三類應力測定，晶粒尺寸測定，單晶定向，非晶態結構分析等。圖1(a)和(b)分別是Y-4Q型X射線衍射儀（丹東射線儀器公司）的主要部件和Rigaku D max 2500型X射線衍射儀主機的外形圖。(b)(a)1423Y-4Q型X射線衍射儀的主要部件1X射線管；2樣品臺；3測角儀； 4計數器。圖1 X射線衍射儀及其主要部件外形圖(a) Y-4Q型X射線衍射儀的主要部件; (b) D max 2500型X射線

3、衍射儀主機的外形圖2 透射電子顯微鏡透射電子顯微鏡（簡稱透射電鏡，英文縮寫TEM）是以波長極短的電子束作照明源，用電磁透鏡聚焦成像的一種具有高分辨率、高放大倍數的電子光學儀器。目前透射電鏡的分辨率已達0.1nm，放大倍數可從幾十倍到一百多萬倍（針對不同分析需要，透射電鏡通常在幾千到幾十萬倍的放大倍數下觀察）。透射電鏡在微觀組織形貌觀察的同時，利用其選區衍射、微衍射或會聚束衍射等功能可以進行微區（從m級到亞nm級尺度）的結構分析；在高分辨的情況下，可以直接觀察到晶格像和結構像；利用拉伸樣品臺和加熱樣品臺可實現原位拉伸和變溫過程中微觀組織結構演變的分析觀察。此外，透射電鏡可較方便地配備X射線能量分

4、散譜儀（XEDS或EDS），使其在形貌觀察、結構分析的同時能夠方便地對微區的成分進行定性或定量分析。這些使得透射電鏡成為材料微觀結構分析的最強有力的工具之一。圖2是兩種型號的透射電鏡的外形圖。H-800 型透射電子顯微鏡點分辨率：0.35nm; 加速電壓：200kVJEOL-2010 型透射電子顯微鏡點分辨率：0.19nm; 加速電壓：200kV圖2 透射電子顯微鏡外形照片3 掃描(somio)電子顯微鏡掃描電鏡利用細聚焦高能電子束在試樣表面掃描而激發各種物理信號，通過對這些信息的接收、放大和顯示成像實現對試樣表面微區的分析。掃描電鏡具有較高的分辨本領，放大倍數從近10倍至幾十萬倍連續可調，其

5、很大的景深(jngshn)使其非常適合對粗糙表面的形貌觀察，如斷口形貌觀察。掃描電鏡可以很方便地配備X射線能量（或波長）分散譜儀以及近年來出現的背散射衍射(ynsh)儀（取向成像技術），從而方便地實現微區成分和晶體取向的分析。圖3是KYKY-1000B型掃描電子顯微鏡（配TN-5400型X射線能譜儀）的外形圖。圖3 KYKY-1000B型掃描電子顯微鏡分辨率：6nm；放大倍數：30萬倍4 核磁共振(h c n zhn)儀核磁共振譜（NMR）法利用物質原子核本身性質的差異實現(shxin)對化合物分子結構的分析，如確定有機、無機、金屬有機、藥物、生物等分子內部存在的基團及其相互的連接關系，立體構

6、型與空間分布等靜態構造，也廣泛應用于跟蹤化學反應、化學交換、分子內部運動等動態過程，進而了解這些過程的機理。除了(ch le)可獲取有關分子結構的大量信息外，還可得到化學鍵、熱力學參數和反應動力學機理方面的信息。圖4 是AC-80型傅立葉變換核磁共振譜儀的外形圖。圖4 AC-80型傅立葉變換核磁共振譜儀主要技術指標1H共振頻率： 80MH分辨率： BC0.2Hz (10探頭，80%苯樣)1H0.2Hz (5探頭，15%鄰二氯苯)靈敏度： BC 175:1(10探頭)BC 40:1(5C/H雙探頭)1H 80:1(5C/H雙探頭)5 紅外光譜儀紅外光譜儀主要用于鑒別化合物和確定物質分子結構，其范

7、圍涉及有機化學、高分子化學、金屬有機化學、絡合物化學、生物化學以及石油化工產品、食品、藥物、半導體、環境污染物的分析等方面，此外也可應用在分子轉動理論的研究及表面分析和化學動力學的研究。紅外吸收光譜分析方法主要是依據分子內部原子間的相對振動和分子轉動等信息進行測定，其主要部件包括(boku)：光源、干涉儀和檢測器。圖5是FTIR 1730型傅立葉變換紅外光譜儀（美國P-E公司(n s)）的外形圖。主要(zhyo)技術指標：波長范圍： 4000cm-1450cm-1分辨率： 1cm-164cm-1圖5 FTIR 1730型傅立葉變換紅外光譜儀6 氣相色譜-質譜連用儀(GC-MS)氣相色譜是很好的

8、分離裝置，但不能對化合物定性；質譜儀是很好的定性分析儀器，但要求純樣品。將色譜與質譜聯合起來，就可以使分離和鑒定同時進行，對于混合物的分析是一種比較理想的儀器，目前已普遍應用到化學、化工、環境、食品等領域，如可以對藥品、涂料、化工產品進行成分分析。氣相色譜-質譜連用儀主要由色譜部分、質譜部分和數據處理系統3部分組成。圖6 是HP-5988A GC-MS 色-質聯用儀(美國惠譜公司)的外形圖。主要技術指標質量范圍：101000(2000)aum分辨本領：2500靈 敏 度：EI0.5ng CI+50pg離 子 源：EI/CI譜圖檢索：130000張標準圖譜用于自動檢索圖6 HP-5988A GC

9、-MS 色-質聯用儀7 等離子發射光譜儀在原子發射光譜中占主要地位的是電感耦合等離子體光源。電感耦合等離子體光譜法具有測量精度好、檢出限低、體積效應小、可快速進行多元素同時測定等特點，主要用于低含量無機元素定量分析。圖7是ICP 8410型電感耦合等離子發射光譜儀(澳大利亞立伯公司)的外形圖。主要技術指標波長范圍：170820nm分 辨 率：0.01nm線 色 散：0.37nm檢 測 限：ppb圖7 ICP 8410型電感耦合等離子發射光譜儀三、對實驗報告的要求(yoqi)簡述(jin sh)各類儀器的主要功能及用途紫外可見(kjin)光譜儀 分析實驗目的：設備型號：樣品：操作步驟：實驗結果及

10、分析： 實驗二 材料的X射線衍射分析一、實驗(shyn)目的了解(lioji)X射線衍射儀的構造及使用掌握(zhngw)簡單物質衍射譜的指標化和物相定性分析的方法。二、X射線衍射儀介紹進行X射線衍射分析的樣品通常有粉末樣品和塊體樣品兩種。樣品架通常由玻璃（有時由金屬）制成，分通孔和盲孔兩種，如圖 所示。對粉末樣品, 用玻璃板將其在樣品架孔內壓實, 確保表面平整并與樣品架前面平齊。當粉末樣品的量較少時可選用盲孔樣品架。對塊體樣品，待分析表面應足夠大，并使其與樣品架前面平齊。X射線衍射儀的核心部件有：X射線管、X射線測角儀、輻射探測器(記數器)及計算機控制部分。右圖是目前常用的熱電子密封式X射線管

11、的示意圖。陰極由鎢絲饒成螺線形，工作時通電至白熱狀態。在陰陽極間施加幾千伏的電壓，熱電子高速撞擊陽極靶面。為防止燈絲氧化并保證電子流穩定，管內抽成優于1.3310-3Pa的高真空。為使電子束集中，在燈絲外設有聚焦罩。陽極靶由熔點高導熱性好的銅制成，靶面上涂一層純金屬。常用的金屬材料為Cr、Fe、Co、Ni、Cu、Mo、W等。當高速電子撞擊陽極靶面時，電子的部分動能轉化為X射線，而絕大部分(約99%)轉變為熱。為了保護陽極靶面，X射線管工作時需用水強制冷卻。X射線管有相當厚的金屬管套，使X射線只能從窗口射出。窗口由吸收系數較低的Be片制成(操作過程中應避免觸及Be片, 一則因其有毒，一則因其較薄

12、易損壞)。結構分析X射線管通常有四個對稱的窗口。罷免上被電子轟擊的范圍稱為焦點，它是發射X射線的源泉。用螺線形燈絲時，焦點的形狀為長方形（面積為110mm2）。窗口位置的設計，使得射出的X射線與靶面成6。從長方形短邊上的窗口所看到的焦點為1mm2的正方形，稱點焦點，在另一方向則得到線焦點。一般的照相多采用點焦點，而線焦點則多用在衍射儀上。靶材與濾片的選擇見教材材料現代分析方法第六章P88。有關測角儀和探測器的結構和原理見教材材料現代分析方法第六章的衍射儀法（P94）部分，其外形圖見本指導書圖1(a)。通過計算機可設置各種( zhn)所需的掃描模式和參數，并可實現圖譜的多種分析，如自動尋峰、光滑

13、譜線、標定峰高和強度等。此外，計算機中可存儲絕大多數已知的物相的數據庫，并設有無機、有機、合金、礦物等多個分庫。指出測試時所使用的靶材，掃描范圍，實驗誤差范圍估計，試樣的元素信息，計算機系統可進行自動檢索匹配，給出試樣物相分析的定性和定量結果。三、X射線衍射(ynsh)圖分析勞埃方程(fngchng)或布拉格方程給出了可能發生X射線衍射的方向，但是否在這些方向產生衍射、強度如何還需計算相應的結構因數以及相的含量、多重性因素、角因素、溫度因素等。原則上講，目前衍射儀的計算機系統可自動完成對衍射譜圖的分析，相關原理可參見教材材料現代分析方法第六章和第七章。但在一些情況下仍需要人工分析，如一種新相的

14、衍射譜的分析或某種已知相但由于成分、溫度、應力等的影響與標準卡片的參數將發生不同程度的偏離，另外也往往需要對計算機的結果進行核實。例如，已知-TiAl具有有序正方結構。-TiAl中的原子排列類似于面心立方結構，其差別在于(002)面上為同類原子, 分別由Ti原子和Al原子構成的(002)面沿001方向交替堆垛, 使得001方向的單胞矢量長度比其他兩個方向的略長，通常c/a=1.011.03, a0.4nm, 依Ti、Al含量的比值與其化學當量比的偏離程度而變化。為此，成分不同的-TiAl其單胞常數與標準卡片可能有所偏離，需要人工核實。下圖是-TiAl的X射線衍射圖，計算或核實其相關單胞參數的具

15、體步驟包括：1. 根據已知的晶體結構, 計算其結構因數, 以確定可能產生的衍射峰; 2. 根據布拉格公式計算這些衍射峰可能出現的位置(2值); 3. 與實測衍射譜對照, 將其指標化; 4. 根據實測的衍射峰2值, 計算出相應的面間距；5. 按照晶面間距公式反推出有關單胞參數。（注：一般情況下，當測角儀精度一定后，高角度所測得的晶面間距的精度比低角度的高。故在處理涉及晶面間距精度的問題時，盡量選用高角度的測量結果。）38.731.644.445.365.366.069.32()如：已知測角儀精度為0.1，試將圖中已標2度數的衍射峰指標化，計算其單胞矢量長度和c/a值并給出誤差估計。四、對實驗報告

16、的要求1. 簡述(jin sh)X射線衍射儀的構造2. 說明(shumng)本次(bn c)實驗所用樣品的材料類型、X射線衍射儀型號、實驗參數的選擇、實驗結果及分析。實驗三材料掃描電子顯微分析及X射線能譜分析一、實驗(shyn)目的1了解掃描電鏡的結構、成像原理及樣品(yngpn)制備方法2初步(chb)掌握X射線能譜分析二、掃描電鏡的基本結構和原理掃描電鏡由電子光學系統、掃描系統、信號收集處理顯示系統、真空系統、供電控制系統和冷卻系統等六部分組成。其原理及各部分的的主要作用見教材材料現代分析方法（北京工業大學出版社，2000年）168170頁。三、電子探針X射線顯微分析電子探針是目前較為理想

17、的一種微區化學成分分析手段，包括能譜儀和波譜儀兩類。其中，能譜儀由于其結構緊湊、分析效率高已被廣泛用作為透射電鏡和掃描電鏡進行微區成分分析的附件。其工作原理和性能特點見教材材料現代分析方法（北京工業大學出版社，2000年）178180頁。四、實驗方法與步驟1 樣品制備掃描電鏡觀察的樣品必須是固體，在真空條件下能長時間保持穩定。塊狀樣品直徑一般為1015mm，厚度約為510mm。導電性好的樣品可直接切取并用導電粘膠直接粘在銅或鋁質樣品座上，直接放入掃描電鏡觀察。導電性不好的樣品用導電粘膠粘在樣品座上后，需在離子濺射鍍膜儀或真空鍍膜儀中噴一層厚度約為100的金、鋁或銅鍍膜層，再放入觀察。粉末樣品的

18、制備包括收集、固定和定位等環節，對導電性不好的材料同樣需要濺射金屬鍍膜層。2 掃描電鏡的操作(1) 開機：接通電源，打開冷卻水；抽真空；加高壓；加燈絲束流；接通顯示器、掃描系統電源。(2) 電子束合軸：燈絲電流飽和點調整和電子束對中調整。(3) 更換試樣：關斷燈絲電流、高壓、顯示器和掃描系統電源。待冷后對鏡筒放氣；打開樣品室，取下樣品座，放樣；重新抽真空。(4) 二次電子像的觀察和分析通常用電子探測器接受二次電子。為獲得立體感強、層次豐富、細節清楚的高質量圖像，在觀察過程中必須仔細選擇設定各條件參數。a. 高壓選擇：二次電子像的分辨率隨加速電壓增加而提高。b. 聚光鏡電流選擇：聚光鏡激磁電流越

19、大，電子束束流越小，提高分辨率，但試樣照射電流減小使圖像粗糙，噪音增多。c. 物鏡光欄的選擇：光欄孔徑越大，景深小，分辨率低，試樣照射電流大。在觀察二次電子像時選用300m 和200m光欄孔。d. 工作距離和試樣傾斜角的選擇：工作距離是物鏡下級靴端到試樣表面的距離，工作距離越小，分辨率越高。二次電子像的襯度與入射角有關，入射角越大，二次電子產生的越多，像襯越好。e. 聚焦和像散校正：一般(ybn)在慢速掃描時進行聚焦，在高倍下聚焦，在低倍下觀察。f. 放大倍數(bish)選擇g. 亮度和對比度選擇：當試樣表面凹凸不平時對比度應小一些(yxi)，較平坦對比度大一些。h. 二次電子像的分析：試樣的

20、棱邊，尖峰處產生的二次電子較多，則應叫亮；平臺凹坑處較暗。對于陶瓷材料可觀察晶粒形狀和大小，斷口型貌，晶粒間結合關系，夾雜和氣孔分布特點；水泥和混凝土材料可觀察或凝膠體的空間位置，相互關系及結構特點；玻璃材料可觀察分相特點；金屬材料可以觀察斷口形貌特點，揭示斷裂機理和產生裂紋原因。(5) 背散射電子像的觀察背散射電子像用背散射電子探測器接受。背散射電子像的反差比二次電子大，且有陰影效應，分辨率較低。背散射電子像的襯度也反映了試樣表面微區平均原子序數的差異，平均原子序數高的微區在圖像上較亮，小的較暗。(6) 圖像記錄(7) 關機五、實驗報告要求分別完成一個二次電子像和背散射電子像觀察的全過程，以

21、及對典型區域的能譜成分分析，并寫出實驗報告。包括：所用儀器型號、實驗參數、操作步驟、所獲結果及分析。實驗四 材料透射電子顯微分析及樣品制備一、實驗目的1. 初步了解粉末樣品、復型樣品、薄晶體樣品制備所用設備及過程；2. 掌握質厚襯度、衍射襯度的形成機理及明暗場操作，并了解與形成高分辨像操作的不同之處；3. 選區衍射分析原理和操作步驟；4. 能夠分析簡單的透射電子顯微像和電子衍射譜。二、試樣的制備在透射電鏡中電子束穿透試樣，經電磁透鏡聚焦放大成像，電子束的穿透能力比X射線弱的多，必須用足夠薄的樣品。通常(tngchng)樣品區域的觀察厚度以控制在100200nm為宜(用于高分辨觀察的樣品則更要薄

22、)。此外樣品還必須具有(jyu)代表性以真實反映所分析材料的組織結構特征。透射電鏡的樣品制備可分為間接樣品和直接樣品。這里主要介紹復型、電解雙噴、離子薄化等應用較廣的樣品制備技術。1 間接(jin ji)樣品（復型）的制備復型是將樣品表面的浮凸復制于某種薄膜而獲得。利用這種樣品在透鏡下成像可間接反映原樣品的表面形貌特征。復型材料必須具有一定的機械強度，不易損壞和變化，具有良好的導電導熱性，耐電子束轟擊，必須是非晶態的，在電鏡中觀察時不顯示自身的組織結構。按復型的制備方法，復型主要分為一級復型、二級復型、萃取復型。一級復型可為塑料一級復型或碳一級復型。較常用的是塑料-碳二級復型。以此為例說明制樣

23、過程。(1) 在擬分析的樣品表面滴一滴丙酮，將A.C.試紙（醋酸纖維素薄膜）覆蓋其上，適當按壓形成不含氣泡的一級復型。(2) 待上述一級復型干燥后，小心將其剝離，并將復制面平整地固定在玻璃片上。(3) 將固定好復制的玻璃片連同一白瓷片置于一真空鍍膜室中，先以傾斜方向投影重金屬（Cr），在以垂直方向噴碳，以制備由塑料和碳膜構成的復合復型。碳膜厚度以白瓷片顏色變化來估計，一般以淺棕色為宜（約幾十納米）。(4) 將復合復型上要分析的區域剪為略小于樣品銅網（3mm）的小方塊后，使碳膜面向里，貼在事先熔在干凈玻璃片上的低熔點石蠟層上，將其固定在玻璃片上，將玻璃片放入丙酮溶液中，A.C.試紙將逐漸被溶解，

24、同時適當加熱以溶解石蠟。(5) 待A.C.試紙和石蠟溶解干凈后。碳膜將漂浮在丙酮溶液中，用銅網勺將其轉移至干凈清潔的丙酮溶液中清洗后，再轉移至蒸餾水溶液中。碳膜會平展地漂浮，用銅網將其撈起，干燥后置于電鏡下觀察。萃取復型是使復型膜與樣品表面分離時，將樣品表面的欲分析顆粒抽取下來并黏附在復型膜上，采用這種樣品可以避免基體的干擾。2 直接樣品的制備步驟為：(1) 初減薄，樣品厚度為100200m的薄片。對于延性材料，如金屬，為避免對材料的機械損傷，利用電火花線切割機切取，或者經過軋制為薄片再通過退火消除軋制缺陷。對于脆性材料，可用刀片將其解理面解理，重復解理直到達到對電子透明的程度。(2) 從薄片

25、(bo pin)上切取3mm的圓片。對于延性材料可用特制(tzh)沖床直接沖取；對于脆性材料可用電火花切割、超聲波鉆和研磨鉆。(3) 預減薄，從圓片的一側或兩側(lin c)將圓片的中心去減薄至數m。采用專用的機械研磨機使中心區域減薄至約10m厚。(4) 終減薄，通常采用的兩種方法是電解雙噴減薄和離子減薄。三、選區電子衍射原理和操作步驟1 選區電子衍射原理當電鏡以成像方式操作時，中間鏡物平面與物鏡像平面重合。熒光屏上顯示樣品中某一微區的放大圖像。此時如果在物鏡像平面內插入一個孔徑可變的選區光欄，讓光欄孔只套住我們感興趣的那個微區，那么光欄孔以外的成像電子束被擋住，只有進入光欄孔內那個微區的像進入中間鏡和投影鏡參與成像。然后降低中間鏡的激磁電流變為衍射操作，這時只有我們感興趣的那個微區點散射的電子波可以通過選區光欄