1、現代表面技術 1. 表面技術與工程 現代表面技術，綜合采用了最新的電子技術、真空技術、冶金、物理、化學、材料等各學科的最新知識和等離子體、離子束、電子束、激光束、微波研究的最新成果。把材料表面與基體視作一個統一的系統進行設計與改性，以最經濟和最有效的方法改變材料表面及近表面區的形態、化學成分和組織結構，賦予其新的復合性能，從而獲得許多新構思、新材料、新器件和新應用。這種多功能綜合化的用于提高材料表面性能的各種現代表面新技術稱為現代表面技術。1.1 表面技術分類表面技術涂鍍技術表面改性處理表面檢測和評估p物理氣相沉積(PVD)p化學氣相沉積(CVD)p電鍍及陽極氧化p化學鍍p熱噴涂噴焊p電刷鍍p

2、電泳鍍層p涂鍍(噴塑油漆)p活性氣體離子處理p氣體擴滲p液體擴滲p固體擴滲p機械強化p激光表面處理p電子束表面改性p離子束表面改性p表面分析技術p表面物化特征p表面幾何特征p表面力學特征p質量標準與質量評估n隨著表面科學技術的迅速發展與工程應用，表面工程學也已逐漸形成，成為正在發展中的新興學科。在國外和國內的有關高等院校，相繼設立了 “表面工程專 業。n目前，表面工程學科的體系，正在不斷的進行探索和完善。表面工程這一概念，在20世紀80年代初，最早由英格蘭伯明翰大學Tom Bell教授提出。表面工程是把材料表面與基體一起作為一個系統進行設計，利用表面改性技術，薄膜技術和涂鍍層技術，使材料表面獲

3、得材料本身沒有而又希望具有的性能的系統工程。 現代表面工程基礎理論工程技術(設計)分析與檢測p腐蝕與防護理論p表面摩擦與磨損理論p表面界面理論p表面強化與失效理論p表面結合與復合理論p多層表面與界面結合p表面膜層的電遷移p低維材料結構理論p表面涂鍍層 成分結構設計p表面復合 功能膜層設計p表面涂鍍層 的選擇和應用設計p施工設計p設備設計p車間生產線的設計 p表面涂鍍層的材料 加工技術p表面分析與檢測p試驗方法與標準p表面質量的評估 與工藝控制p表面工程的管理 與經濟分析p工程化、規模生產的 成套表面工程技術 1.2 表面工程內容1.2 表面工程學涵義現代表面工程學表面工程基礎理論表面檢測技術表

4、面工程應用表面工程技術設計表面工程技術p腐蝕與防護理論p表面摩擦與磨損理論p表面完整性與界面理論p表面物理化學p表面工程基礎理論p表面裝飾與美學p表面機/力/熱/光/聲/電/ 磁等功能膜層設計理論p表面功能特性間耦合 轉換復合性能理論p表面失效理論p低維材料的結構理論p表面微觀結構分析p表面化學分析p表面物理性能測試p表面力學性能測試p表面幾何特性測試p表面無損檢測p表面層成分結構設計p表面復合功能層設計p表面選擇與應用設計p表面工程施工設計p表面工程設備與工藝 流程設計p表面工程車間設計 p表面層特性及其綜合利用 p表面層材料及加工技術p表面層標準及檢驗p表面界面維修與再造p表面質量與工藝過

5、程控制p表面工程管理與經濟分析 表面工程技術表面改性技術薄膜技術涂層技術p表面形變強化p表面相變強化p表面擴散滲入p表面改性技術p化學轉化p電化學轉化p等離子表面強化p離子束、電子束 激光束表面改性p電子學薄膜沉積技術p光電子薄膜沉積技術p集成光學薄膜沉積技術p傳感器用薄膜沉積技術p金剛石薄膜沉積技術p耐蝕，耐磨，p抗高溫氧化、防潮、 高強高硬、裝飾 薄膜沉積技術p光學薄膜沉積技術p涂層技術p熱浸鍍技術p電化學沉積技術p無機涂層技術p熱浸鍍技術p防銹技術表面形變強化 噴丸強化噴丸強化 噴丸強化過程是彈丸流不斷沖擊金屬材料表層并使表層材料發生循環塑性變形, 從而形成變形強化層的過程。經受噴丸循環

6、塑性變形的表層, 其材料的組織結構發生變化, 亞晶粒極大細化, 位錯密度增高, 晶格畸變增大; 形成很高的宏觀殘余壓應力; 表面粗糙度和表面形貌也都發生變化。材料表層發生的各種變化, 將明顯地提高材料的抗疲勞和應力腐蝕性能, 使材料表面性 能得到強化。 噴丸強化不僅用于汽車工業領域的彈簧、連桿、曲軸、齒輪、搖臂、凸輪軸等承受交變載荷的部件，還廣泛用于其他工業領域。如噴丸強化可以提高電鍍零件的疲勞強度和結合力；各種合金鋼經過任何一種電鍍處理后，一般均會導致疲勞強度下降10 %60 % ，而噴丸強化則可有效提高疲勞強度, 同時還可以增加電鍍層的結合力， 防止起泡。n測評強化丸質量有三個基本參數：n

7、強度n覆蓋率n表面粗糙度。噴丸強度n影響噴丸強度的工藝參數主要有：彈丸直徑、彈流速度、彈丸流量、噴丸時間等。彈丸直徑越大，速度越快，彈丸與工件碰撞的動量越大，噴丸的強度就越大。噴丸形成的殘余壓應力可以達到零件材料抗拉強度的60，殘余壓應力層的深度通常可達0.25mm，最大極限值為1mm左右。噴丸強度需要一定的噴丸時間來保證，經過一定時間，噴丸強度達到飽和后，再延長噴丸時間，強度不再明顯增加。噴丸覆蓋率n覆蓋率是指工件上每一個點被鋼丸打到的次數。n影響覆蓋率的因素有零件材料硬度、彈丸直徑、噴射角度和距離、噴丸時間等。n在相同的彈丸流量下，噴嘴與工件的距離越長、噴射的角度越小、彈丸直徑越小，達到覆

8、蓋率要求的時間就越短。噴丸強化時，應選擇大小合適的彈丸、噴射角度及距離，使噴丸強度和覆蓋率同時達到要求值。表面粗糙度n由于鋼丸的噴射，對工件表面的粗糙度產生一定的變化。影響表面粗糙度的因素有零件材料的強度和硬度、彈丸直徑、噴射的角度和速度、零件的原始表面粗糙度。在其他條件相同的情況下，零件材料的強度和表面硬度值越高，塑性變形越困難，彈坑越淺，表面粗糙度值越小；彈丸的直徑越小，速度越慢，彈坑就越淺，表面粗糙度值就變小；n噴射的角度大，彈丸速度的法向分量越小，沖擊力越小，彈坑越淺，彈丸的切向速度越大，彈丸對表面的研磨作用就越大，表面粗糙度值就越小；零件的原始表面粗糙度也是影響因素之一，原始表面越粗

9、糙，噴丸后表面粗糙度值降低越小；相反，表面越光滑，噴丸后表面變得粗糙。當對零件進行高強度的噴丸后，深的彈坑不但加大表面粗糙度值，還會形成較大的應力集中，嚴重削弱噴丸強化的效果。 激光噴丸強化n激光噴丸是用超短脈沖的激光束代替有質彈丸,用它誘導的沖擊波來強化金屬零件的表面其成形機理：短脈沖的強激光透過透明約束層(水簾) 作用于覆蓋在金屬板材表面的吸收層(黑漆層) 上。激光噴丸示意圖 汽化后的蒸氣急劇吸收激光能量并形成等離子體而爆炸產生沖擊波,由它引起在金屬零件內部傳播的應力波，當應力波峰值超過零件動態屈服強度極限時，板料表面發生塑性變形，同時由于表面的塑性變形使表層下發生的彈性變形層難以恢復，因

10、此在表層產生殘余壓應力。離子束表面強化技術離子注入離子注入n離子注入是把氣體或金屬元素蒸氣，通入電離室電離形成正離子,經高壓電場加速，使離子獲得很高速度后打入固體中的物理過程.已在表面非晶化、表面冶金、表面改性和離子與材料表面相互作用等方面取得了十分可喜的研究成果。n用離子注入的方法，可獲得高度的過飽和固溶體、亞穩相、非晶態和平衡態合金等不同組織的結構，大大改善工件的使用性能。n目前離子注入已在微電子技術、宇航、生物工程、醫療、核能等高技術領域獲得應用，特別是在工具、刀具、模具制造業的應用效果突出。n早期對離子注入的研究和應用是模擬核反應堆中的燃料元件、結構部件材料，受中子、核裂變的碎片及其他

11、荷能粒子的長期照射,使材料發生腫脹，表層剝落等輻照損傷。n20世紀60年代離子注入又作為一項專門技術在半導體工業中找到了重要的應用，特別是在發展集成電路的精細摻雜工藝中，推動了集成電路的迅速發展，引發了微電子、計算機和自動化領域的革命。n離子注入在半導體工業的應用成功，激發了人們將離子注入技術應用于金屬、陶瓷、高分子聚合物等材料的改性。n20世紀70年代中期，發展了純束流氮離子注入技術，并開始走向一定規模的工業生產。用離子束混合研究出幾十種亞穩態合金相和玻璃金屬(非晶態金屬)，還提出了相應的模型。強束流脈沖注入，金屬蒸發真空弧離子源(MEVVA源)和其他離子源的問世，為離子束材料的表面改性提供

12、了強金屬離子束技術，為基礎研究和新材料及其應用研究提供了先進的技術工具并取得了許多離子注入實際應用的可喜進展，顯示了誘人的應用前景。n離子束增強沉積技術(IBED)和全方位離子注入新技術以及離子束表面分析技術，離子束刻蝕等技術在實際應用上都具有重要的價值。n離子源(電離室、供電裝置、引出電極)、聚焦電極(系統)、加速電極(系統)分析磁鐵、掃描裝置(系統)、靶室、真空及排氣系統。 n從離子源發出的離子由幾萬伏電壓引出，按其電荷質量的差異，將一定質量/電荷比的離子分選出來，在幾萬伏至幾十萬伏的離子加速管中進行加速，并獲得高的動能，經聚焦透鏡，使分析束聚于要轟擊的靶面上，再經過掃描系統掃描轟擊工件表

13、面。1-離子源;2-放電室(陽極);3-等離子體;4-工作物質;5-燈絲(陰極);6-磁鐵; 7-引出離子預加速;8-質量分析檢測磁鐵;9-質量分析縫;10-離子加速管;11-磁四極聚焦透鏡;12-靜電掃描;13-靶室;14-密封轉動馬達;15-滾珠夾具離子注入機實物照片 在離子進入工件表面后，與工件內原子和電子發生一系列碰撞，在離子進入工件表面后，與工件內原子和電子發生一系列碰撞，這一系列的碰撞包括三個獨立的過程：這一系列的碰撞包括三個獨立的過程： (1)電子碰撞：荷能離子進入工件后，與工件內圍繞原子核運動的電子電子碰撞：荷能離子進入工件后，與工件內圍繞原子核運動的電子或原子間運動的電子非彈

14、性碰撞。其結果，可能引起離子激發原子中或原子間運動的電子非彈性碰撞。其結果，可能引起離子激發原子中的電子或原子獲得電子、電離或的電子或原子獲得電子、電離或X射線發射等。射線發射等。 (2)核碰撞：荷能離子與工件原子核彈性碰撞核碰撞：荷能離子與工件原子核彈性碰撞(又稱核阻止又稱核阻止)，碰撞的結，碰撞的結果是使工件中產生的離子大角度散射和晶體中產生輻射損傷等。果是使工件中產生的離子大角度散射和晶體中產生輻射損傷等。 (3)離子與工件內原子作電荷交換：碰撞會損失離子自身能量，使荷能離子與工件內原子作電荷交換：碰撞會損失離子自身能量，使荷能離子的能量減弱，經次碰撞后，能量耗盡而停止運動，并作為一種雜

15、離子的能量減弱，經次碰撞后，能量耗盡而停止運動，并作為一種雜質原子留在工件材料中。質原子留在工件材料中。 離子注入表面改性的特點u是一個非熱平衡過程，任何元素都可注入任何基體材料；u注入元素的種類、能量、劑量可控，以得到不同的新合金相；u注入層相對于基體沒有界面，因而不存在結合問題；u常在真空中進行；u能精確控制注入離子的密度及濃度；u表面形成殘余壓應力。離子注入提高材料表面硬度、耐磨性和疲勞強度 n(1)超飽和離子注入和間隙原子固溶強化，使注入層體積膨脹，注入層應力增大，阻止了位錯運動，提高了材料表面硬度和抗磨性能。n(2)超飽和離子注入和替位原子固溶強化改善了材料表面的耐磨和抗氧化性能。如

16、注入超飽和的Y離子，使不銹鋼的抗磨損壽命提高100倍，并具有抗氧化性能。n(3)析出相的彌散強化。如注入非金屬元素，其與金屬元素形成各種氮化物、碳化物、硼化物的彌散相，這種硬化物的析出效果，使材料表面硬度提高，耐磨性增強。n(4)高的位錯強化。如把Ti離子注入H13鋼中，形成了高密度的位錯網，同時還在位錯網中出現析出相，這種位錯網和析出相，使材料表面硬度和耐磨性得到提高。n(5)位錯釘扎。大量的注入雜質聚集在因離子轟擊產生的位錯線周圍，形成柯氏氣團，并在位錯上形成許多位錯釘扎點，阻止位錯運動，改善了抗磨性能。n(6)替位原子與間隙原子對強化。可阻止位錯，提高材料的表面硬度和耐磨性。 如N，C，

17、B離子注入鋼，這些小尺寸的原子易與Fe原子形成原子對，這種結構在晶格位置上形成更高勢壘，阻止了位錯運動，使鋼得到強化。 n(7)間隙原子對強化。若選取替位率低的兩種元素注入鋼中,這兩種元素有很強的化合能，并在鋼中形成間隙原子對，這種結構容易綴飾位錯，使鋼得到強化，提高了耐磨性和表面硬度。n(8)晶粒細化強化。離子轟擊導致晶粒細化，引起晶界增加,而晶界又是位錯移動的障礙，使位錯更加困難， 使材料表面硬度明顯提高。 n(9)輻射相變強化、結構差異強化、濺射強化等機理都提高了材料表面的耐磨性能。離子注入提高材料表面表面耐腐蝕性能 主要是注入元素改變材料的電極電位，改變陽極或陰極的電化學反應速率，從而

18、提高粳抗蝕特性。 (1)離子注入元素在材料的表面形成穩定致密的氧化膜，從而改變了表面的性能，提藹料表面的耐蝕性能。 (2)離子注入使一些不互溶的元素形成表面合金，亞穩相合金，非晶態合金，從而提高了表面的耐蝕性能。 例如：核反應堆用包套的耐蝕鍍層，因輻照腫脹而剝落，露出新鮮表面又進一步氧化。離子注入后，防止了氧化物的脫落并減少了氧化；用鉻離子注入銅中，形成新的亞穩態表面高了銅的耐蝕性能；用3.5的鉛離子注入到純鈦材料中(約100nm深)，在濃度為1mol/L的H2S04中耐蝕電位接近于鉛，大大提高了鈦材料耐還原性介質的性能；鉛離子注人鈦材：在表面形成鈍化狀態，可防止鈦的縫隙腐蝕；在鋼鐵中注入硼或

19、磷離子，能產生非晶態表層性溶液中可有效阻止陽 極腐蝕。 離子注入提高材料抗氧化性能的機理 (1)離子注入元素在晶界富集，阻塞了氧的短程擴散通道，把鍶、銪或鑭注入鈦材料，自擴散50mm深，填充了晶界，形成SrTi03，LaTi02或EuTi03，填塞了氧原子通道，從而防止進一步向內擴散。 (2)離子注入形成致密的氧化阻擋層，如A1203，Cr203，Si02等某些氧化物形成致密薄，他元素難以擴散通過這層薄膜，從而起到抗氧化的作用。 (3)離子注入改善了氧化物的塑性，減少了氧化產生的應力，防止了氧化膜的開裂。 (4)離子注入元素進入氧化膜后，改變了膜的導電性，抑制了陽離子向外擴散，從而降低氧化速率

20、。離子注入的應用n在微電子工業中的應用n在核反應堆材料模擬實驗中的應用n在冶金學中的應用n在機械工業中的刀具、工具、模具等重要零部件中n在生物醫學中的應用n在軍事工業中的應用n在提高材料性能上的應用在微電子工業中的應用 離子注入技術在微電子工業中，是應用最早、最為廣泛、最為有效、最為成功的先進技術。 主要集中在集成電路和微電子加工上。引發了從集成電路(IC)發展到大規模集成電路(VLSI)、超大規模集成電路(ULSI)和吉規模集成電路(GSI)的一場微電子革命。它的微細加工，對發展離子注人淺結工藝和快速退火技術等實現了集成電路的騰飛。特別在集成電路的摻雜中，不僅滿足了離子注入工藝的多樣化，更實

21、現了淺結工藝、超淺結工藝的微細化，使淺摻雜和細線條工藝，隨芯片尺寸的增大，線條的變細，在最小圖形尺寸，對準精度和有效溝道長度；結深、柵氧化層厚度、電容器厚度變薄，不斷地刷新提高了集成度。在微電子的應用中，其意義極為深遠。離子注入在核反應堆材料模擬試驗中的應用n在原子反應堆中，材料都受到中子束和離子照射，而引起核反應堆中材料體積的變化， 特別是堆中的核心燃料元件包殼材料和核燃料的腫脹，給反應堆的安全運行帶來很大的影響。n要想確定材料在反應堆中能否經受得住考驗，需用大量中子輻照幾年以上才能有結果。由于離子的質量比中子大，注入離子于金屬上可以產生與注人大量中子狀態相同或相當的變化，即通過離子注入向核

22、反應堆材料進行大量的中子束輻照模擬試驗，在很短時間模擬出材料的損傷和輻照腫脹。工件名稱被加工材料效果工件名稱被加工材料效果1裁紙刀1.6Cr1C鋼2倍9齒輪插刀WC-6%Co2倍2橡膠切刀WC-6%Co12倍10薄鋼板切割刀WC-6%Co3倍3醋酸纖維板切刀鉻鋼板增產11面包切刀高速合金鋼6-8倍4酚醛樹脂切刀M2高速鋼5倍12手術刀404不銹鋼數倍5螺紋銑刀M2高速鋼5倍13罐頭頂切刀不銹鋼3倍6塑料切刀鉻鋼筒增產14剃須刀不銹鋼抗氧化7牙科鉆頭WC-6%Co2-7倍15樹脂版鉆頭SKD11鋼5倍8電路板鉆頭WC-6%Co2倍注：氮離子注入，注入量為(3-4)1017/cm2在刀具n氮的強離

23、子束易于獲得，在用氮離子注入加工較輕質的工具，可使壽命提高2-12倍，而且注入件的刀口鋒利，加工效率高。下表為美、英、日等國的氮離子注入在刀具方面的應用實效。模具n離子注入在模具上的應用，不僅保持了模具的精度(金屬拉絲模精度2.5微米)，延長模具的壽命，可降低模具與金屬絲之間的摩擦系數，降低拉力，金屬絲表面光滑等。模具名稱離子被加工材料效果模具名稱離子被加工材料效果反向擠壓模NWC-6%Co延壽2倍凹槽模NWC-6%Co延壽18倍銅拉絲模NWC-6%Co延壽4-6倍注塑模NWC-6%Co延壽5-8倍銅桿拉模CWC-6%Co增產5倍硅鋼片沖頭NWC-6%Co延壽6-8倍壓延模COWC-6%Co增

24、產5倍平面鐓鍛模B,N 40CrMnV51磨損下降30汽車環形沖壓模N工具鋼延壽3倍大型注塑桿N工具鋼延壽18倍罐頭壓痕模ND2鋼延壽3倍反向罐頭擠壓模N,Sn AlSI磨損下降30金屬絲導槽N硬鉻鋼延壽3倍工具插塊N4Ni1Cr鋼磨損下降67鋼絲拉模NWC-6%Co延壽3倍塑料擠壓模NP-20工具鋼延壽2倍在冶金學中的應用n離子注入是物理冶金的一種研究手段，是一門新興的學科。注入冶金，就是用離子注入技術制備新的表面合金。這種注入的表面合金具有常規方法得不到的冶金參量和基體性質。這些參量包括：注入原子晶格位置擴散，增強擴散，溶解度，沉淀等。為制備新的金屬間合金提供了新的途徑。n在低溫范圍內，離

25、子注入技術主要用于亞穩定相。因為實驗的低溫，原子擴散速度極小，可忽略不計，使得亞穩定相持續存在，超過固溶度而析出的第二相在低溫范圍并不析出。平衡的熱力學在此時并不適用。離子注入可以在互不溶解的元素間形成置換式固溶體和非晶態合金等。n在溫度較高范圍時，過程中發現有明顯的擴散，注入條件下的亞穩定態通過擴散向著熱力學平衡狀態變化。此時的表面合金實為平衡態合金。用離子注入技術在較高的溫度范圍中，主要研究擴散動力學和第二相的形核與長大。n在研究亞穩定相中，把3的原子濃度的Au沿100方向注入到單晶Cu中，Au對Cu有100的置換性；Au注入到Ag，Pd也得到100的置換性。n在常規下互不相溶的二組元，如

26、3原子濃度的W注入Cu中，90的W占據Cu的晶格位置，隨后進行高溫退火，W將沉淀出來，就如同平衡時互不相溶一樣。n把Mo，Ru（釕），Te，Bi注入Cu中，Mo，Cu注入Al中，都具有很高的溶解度，而且紊亂程度很高。這類亞穩定置換式固溶體的注入成功，為制備研究新合金、新型材料提供了有效的手段。n在非晶態合金方面把30原子濃度的鏑注入到鎳中，分析發現，有厚度大于1nm的非晶表面層。用大于10原子濃度的大劑量注入離子，可制備非晶表面合金，如用10原子濃度的W注入Cu中，可得非晶表層。n如把Sb注入Al中，由于Sb在A1中溶解度很小(0.1原子濃度)，發現在低注入劑量下即可有A1Sb第二相沉淀，Al

27、，Sb熔點接近650，而沉淀的A1Sb的熔點卻為l050；A1Sb又是金剛石結構，與Al的Sb結構在電子衍射圖上很容易區分。結果表明，在300將Sb注A1中，出現A1Sb沉淀相。n材料中的化學成分變化會引起相變。18-8不銹鋼在77K用1017/cm2的氮離子注入，可產生黑色的小板條馬氏體，使不銹鋼表面硬化，而未注入的18-8不銹鋼在77K進行深冷處理不會產生馬氏體，離子注入法可以來研究低溫下奧氏體變成馬氏體的機理。化學氣相沉積n化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition，簡稱CVD)是利用氣態物質在固體表面上進行化學反應，生成固態沉積物。n實際上，它是在一定溫度條件下，

28、混合氣體與基材表面相互作用，使混合氣體中某些成分分解，并在基材表面上形成金屬或化合物的固態膜或薄膜鍍層。化學氣相沉積化學氣相沉積原理n氣相元素或化合物被輸運到基體(襯底)表面附近，在一定條件下使它們發生化學反應，并在基體表面發生固相反 應成膜。n化學反應大致可分為分解反應(熱分解)、還原反應、氧化反應、水解反 應、聚合反應和輸運反應等。n使化學反應激活的方法包括加熱、高頻電壓、激光、X射線、等離子體、 電子碰撞和催化等。CVD法原理示意圖化學氣相沉積設備的工藝流程 1-加熱爐;2-反應爐; 3-工件; 4-加熱元件; 5-高純度氣體; 6-金屬鹵化物; 7-蒸發器; 8-氣體洗凈裝置; 9-中

29、和劑; 10-排水n先把預先清洗干凈的被處理工件裝爐；抽真空后，使工件處于高純度氫氣中；通過加熱，去除殘余在工件表面的氧化物，使工件表面進一步活化；工件表面活化后，通保護氣體人工作室，并升溫,加熱達到預定沉積溫度時，即進行反應沉積處理。n處理中，控制氣體流量與導入的金屬鹵化物之間的混合、反應溫度、處理時間等工藝參數。在膜層沉積過程中，排出的氣體(如 HCl )經淋水氣體洗凈裝置中和、除水后達到排放標準后再排放。n沉積處理完后，通過水冷，使工作室冷卻，達到卸爐溫度后便可取出被涂覆處理好的工件。CVD沉積反應條件混合氣體反應能力激活工藝條件涂層與基體結合 從沉積反應條件看，要實現沉積反應，初始的混

30、合氣體相與基材界面的作用和在沉積反應過程中必須有一定的激活能量。也就是說，產生氣相沉積的化學反應必須有足夠高的溫度作為激活條件(采用等離子體、激光輔助作為激活，可使沉積反應溫度降低)。 化學氣相沉積(CVD)基本組成有初始氣源及其供給系統、沉積反應加熱室、真空及廢氣排放系統和電源控制系統等。 混合氣體，主要是惰性氣體(如Ar)、還原氣體(如H2)和反應氣體(如N2、CH4、CO2、水蒸氣、NH3)等。有時在室溫下也常用高蒸氣壓的液體，諸如TiCl4、SiCl4、CH3 SiCl3等，把這類液體，加熱到一定溫度(60)通過載體氫、氬與起泡的液體，從供氣系統中把上述蒸氣帶入沉積反應室 。CVD沉積

31、反應條件反應溫度反應能力激活反應類型涂層與基體結合 沉積化學反應溫度可分為低溫沉積(1200，如SiC陶瓷)。 從沉積化學反應能量激活看，化學氣相沉積技術可分為熱CVD技術、等離子輔助化學氣相沉積技術(PACVD)、激光輔助化學氣相沉積技術(LCVD)和金屬有機化合物沉積(MOCVD)等技術。 可分為覆蓋表層與擴滲表層； 反應類型，有固相擴散型、熱分解型、氫還原型、反應蒸鍍型和置換反應型。 化學反應舉例CVD應用耐磨鍍層高溫應用鍍層開發新材料摩擦學鍍層 以氮化物、氧化物、碳化物和硼化物為主，主要應用于金屬切削刀具。在切削應刷中，鍍層性能上主要包括硬度、化學穩定性、耐磨性、低摩擦系數、高導熱與熱

32、穩定性和與基體酬結合強度。這類鍍層主要有TiN、TiC、TaC、HfN、Al2O3、TiB2等，都已得到應用。 降低接觸的滑動面或轉動面之間的摩擦系數，減少粘著、摩擦或其他原因造成的磨損。這類鍍層主要是難熔化合物。在鍍層性能上主要是硬度、彈性模量、斷裂韌性、與基體的結合強度、晶粒尺寸等。 鍍層的熱穩定性。高分解溫度的難熔化合物，比較適合予高溫環境應用。涉及到反應性氣氛，就須考慮它的氧化和化學穩定性，可選用難熔化合物和氧化物的混合物。此外有相容的熱膨脹特性和強度，如環境有經常性的熱震，選擇難熔金屬硅化物和過渡金屬鋁化物。這類應用包括火箭噴嘴、加力燃燒室部件、返回大氣層的錐體、高溫燃氣輪機熱交換部

33、件和陶瓷汽車發動機缸套、活塞等。 陶瓷材料中增韌的化合物晶須可用CVD來生產，已有的Si3N4、TiC、Al2O3、TiN、Cr3C2、SiC、ZrC、ZrO2等。化學氣相沉積是一種在沉積金屬和化合物涂鍍層中極為有用的薄膜沉積技術，具有：n設備簡單，操作維護方便，靈活性強，只要把原料 改變，便可沉積制備性能各異的單一或復合鍍層；n適合涂鍍各種復雜形狀的部件，特別對涂鍍帶有盲孔、溝、槽的工件；n涂鍍層致密均勻，可以較好地控制鍍層的密度、純度、結構和晶粒度。n因沉積溫度高，涂鍍層與基體結合強度高。CVD工藝溫度太高(一般900-1200)，被處理的工件在如此高的溫度下，產生變形和出現基體晶粒長大，

34、降低一般CVD法的沉積工藝溫度，一直是CVD法改進提高的重要方向。目前主要的方法有：n等離子體活化：即利用電磁的激發作用，使進入等離子區的反應氣體經電子和分子之間的碰撞而分裂成原子狀態，其中一部分被離化。這種利用電磁激發的能量取代熱能活化，明顯地降低了沉積過程的反應溫度。如用TiCl4和CH4在加熱活化沉積TiC涂鍍層是在900-1050，而采用等離子活化，可降低沉積溫度至500-6 00。這樣就可沉積制備帶涂鍍層的高速鋼刀具。n通過光和激光產生化學激發：光化學激發是反應氣體吸收了該氣體分子特征波長的光和光子向處于受激發狀態或發生光照分解，促使沉積反應溫度下降。如用C02激光來激發反應氣體BC

35、l3，可使工件的沉積溫度降低，而且沉積速率提高。n選擇合理的反應氣體：如沉積SiN涂鍍層時，用SiH4-N2H4-H2比用SiH4-NH3-H2的沉積溫度低。沉積WC涂鍍層時，用WF6-C6H6-H2比用WCl-C6H6-H2的沉積溫度低。n采用有機金屬化合物：因有機金屬化合物具有金屬和非金屬原子間的化學結合力較弱的特點，能在比較低的溫度下分解沉積。如用Ni(CO)4、W(CO)6等金屬羰基化合物，可在600以下沉積出金屬和金屬碳化物。用二烴基胺沉積Ti、Zr、Nb、TiN、ZrN、NbN和用釔的四甲基庚二烷的化合物等沉積Y2O3涂鍍層都可降低沉積溫度。 正因為化學氣相沉積溫度的下降，使用化學

36、氣相沉積的工藝應用范圍就不斷擴大。從目前情況看，適宜高溫化學氣相沉積(HTCVD)方法的材料是超硬材料、高鉻工具鋼、高速鋼、不銹鋼和耐熱鋼等。適宜中溫化學氣相沉積(MTCVD)方法的材料是超硬材料、各種鋼、陶瓷材料、金屬間化合物、銅和銅合金、耐熱耐磨硬質合金、燒結金屬等。當然，對于600以下的低溫CVD沉積，其適宜的材料更為寬廣。常見CVD薄膜和涂層物理氣相沉積n 物理氣相沉積(physical vapor deposition，PVD)是利用某種物理過程，如物質的熱蒸發或在受到粒子轟擊時物質表面原子的濺射等現象，實現物質原子從源物質到薄膜的可控轉移的過程。相對于化學氣相沉積而言，具有以下幾個

37、特點：(1)需要使用固態的或者熔融態的物質作為沉積過程的源物質；(2)源物質經過物理過程而進入氣相；(3)需要相對較低的氣體壓力環境；(4)在氣相中及在襯底表面并不發生化學反應。物理氣相沉積最為基本的兩種方法：蒸發法和濺射法。物理氣相沉積蒸發法 利用物質在高溫下的蒸發現象，可以制備各種薄膜材料。與濺射法相比，蒸發法的顯著特點之一是其較高的背底真空度。在較高的真空度條件下，不僅蒸發出來的物質原子或分子具有較長的平均自由程，可以直接沉積到襯底表面上，而且還可以確保所制備的薄膜具有較高的純凈程度。蒸發沉積裝置示意圖電子束物理氣相沉積 電子束技術與物理氣相沉積技術相結合產生的電子束物理氣相沉積(Ele

38、ctron Beam-PVD,簡寫為EB-PVD)技術。這一新的材料加工工藝，被廣泛應用于航空、航天、船舶和冶金等工業領域。 電子束物理氣相沉積是利用高速運動的電子轟擊沉積材料表面，使材料升溫變成蒸氣而凝聚在基體材料表面的一種表面加工方法。電子束物理氣相沉積原理圖離子束濺射 離子槍產生一定束強度、一定能量的離子流，以一定的入射角度轟擊靶材并濺射出其表層的原子，后者沉積到襯底表面形成薄膜。離子束濺射薄膜沉積裝置示意圖離子束濺射n高真空度下進行，氣體雜質污染小，容易提高薄膜的純度；n離子束濺射在襯底附近沒有等離子體存在，不會產生等離子體轟擊導致襯底溫度上升、電子和離子轟擊損傷等問題；n可以精確控制

39、離子束能量、束流的大小和方向，濺射出來的原子可以直接沉積，很適合作為一種薄膜的沉積研究手段。 電子束蒸發法提供沉積的源物質，同時以襯底作為陰極、整個真空室作為陽極組成一個類似于二極濺射裝置的系統。在沉積前和沉積中采用高能量的離子流對襯底和薄膜表面進行濺射處理。由于在這一技術中同時采用了蒸發和濺射兩種手段，因而從裝置的設計上，可以認為它就是由直流二極濺射以及電子束蒸鍍兩部分結合而成的。二極直流放電離子鍍裝置的示意圖離子鍍（等離子體增強物理氣相沉積） 離子鍍是將鍍層材料氣化并電離成離子，通過擴散和電場作用， 沉積于制件表面，形成與基體牢固結合的滿足所需性能的鍍覆層。離子鍍n離子鍍的主要優點在于它所

40、制備的薄膜與襯底之間具有良好的附著力，并且薄膜結構致密。這是因為，在蒸發沉積之前以及沉積的同時用離子轟擊襯底和薄膜表面，可以在薄膜與襯底之間形成粗糙潔凈的界面，并形成均勻致密的薄膜結構和抑制柱狀晶生長，前者可以提高薄膜與襯底間的附著力，而后者則可以提高薄膜的致密性、細化薄膜微觀組織。n離子鍍的另一個優點是它可以提高薄膜對于復雜外形表面的覆蓋能力，或稱為薄膜沉積過程的繞射能力。離子鍍具備這一特性的原因是因為，與純粹的蒸發沉積相比，在離子鍍進行的過程中，沉積原子將從與離子的碰撞中獲得一定的能量，加上離子本身對薄膜的轟擊，這些均會使得原子在沉積至襯底表面時具有更高的動能和遷移能力。n 離子鍍已廣泛用

41、于機械、電子、航空、航天、輕工、光學和建筑等部門，用以制備耐磨、耐蝕、耐熱、超硬、導電、磁性和光電轉換等鍍層。激光表面處理激光發生器n激光具有高能密度及良好的相干性能，是一種均勻的、接近單色的電磁輻射束，它易被不透明材料如金屬表面幾個原子層所吸收。n激光作為一種新型的表面熱源，與傳統熱源相比，具有獨特優點：易于傳播；熱穿透、熱分布可控；聚焦后可得到極細光斑；具有極高的功率密度。 （理論上可達1012W/cm2）激光表面處理激光表面處理n使用激光進行表面處理：安全、清潔、無污染；可快速、局部加熱材料并實現局部急熱、急冷，獲得特殊的表層組織結構與性能；n易于加工高熔點材料、耐熱材料、高硬度材料等；

42、n可在大氣、真空及各種氣氛中進行加工；n可使用大體上相同的激光設備，通過改變激光波長及其他工藝參數進行不同工藝處理。n一種非接觸性加工方法，適合自動化生產且具有生產率高、工件變形小、可精確控制質量等特點。n自自20世紀世紀70年代年代CO2大功率激光器問世以來，激光表面處大功率激光器問世以來，激光表面處理工藝不斷發展，并陸續進入制造業。例如激光淬火工藝理工藝不斷發展，并陸續進入制造業。例如激光淬火工藝的應用在國內外都比較廣泛，且技術比較成熟。的應用在國內外都比較廣泛，且技術比較成熟。n目前正在加速研究開發的激光表面合金化、激光熔覆及激目前正在加速研究開發的激光表面合金化、激光熔覆及激光增強鍍覆

43、等技術，也不同程度地得到工業應用，成為目光增強鍍覆等技術，也不同程度地得到工業應用，成為目前材料科學研究的前沿熱點。前材料科學研究的前沿熱點。激光表面處理激光表面處理工藝工作原理與特點主要用途 高能激光束表面快速加熱，通過固態自激冷卻淬火(固態相變重結晶)，改變表面組織結構而產生強化效果。 與普通淬火比較，具有加熱、冷卻速度快、工藝簡單，無需外加淬火介質、不受工件形狀幾何尺寸影響等特點，具有比普通淬火更高的硬度與耐磨性能。 激光功率密度：103-105W/cm2 冷 卻 速 度：104-105/s 處 理 深 度: 0.2-0.35mm 鋼和鑄鐵的表面強化，提高工件表面疲勞強度，提高工件表面疲

44、勞與磨損抗力。（激光相變硬化）激光淬火（激光晶粒細化）激光熔凝工藝工作原理與特點主要用途 利用比激光淬火更高的激光能量，通過表面熔化及熔化薄層快速凝固(重熔再結晶)，改變表面組織結構而產生強化效果。與激光淬火相比，能形成更深的硬化層，顯著提高硬度與耐磨性，可以均化、細化組織、消除表面鑄造缺陷(氣孔及鑄造的不連續面等)。n激光功率密度：103-105W/cm2n冷 卻 速 度：105-107/s 適應于鑄鐵、工具鋼、不銹鋼、Al-Si合金等材料的表面強化，提高表面硬度與耐磨性能激光表面處理激光表面處理工藝工作原理與特點主要用途 （激光非晶化）激光上釉 處理工藝參數與熔凝有差別，激光能量密度很高，

45、快速掃描時，表面熔化薄層(110微米)與基體形成陡峭的溫度梯度，急冷(通常冷卻速度超過熔層金屬的臨界冷卻速度)使表面熔層形成非晶態組織。是一種快速方法，具有成本低容易控制等特點。n激光功率密度：107-108W/cm2n冷 卻 速 度：107-1010/sn處 理 深 度：0.001-0.1mm 適用于Fe基、Ni基、Co基、Al基合金等材料表而非晶化處理，顯著提高其耐腐蝕、抗氧化、耐磨損性能，同時具有優良的電、磁特性及力學性能。工藝工作原理與特點主要用途 激光合金化 材料的表面加入其他合金成分(預置涂層或吹送粉末) ，高能激光輻照下，添加的成分和基體同時快速熔化，凝固改變表層化學成分及組織結

46、構，形成新合金層新合金層(液態合金化)，具有工件變形小，能使難以接近的和局部區域進行合金化等特點，合金層晶粒細小、成分均勻，對于不規則零件亦可得到深度均勻合金層。n激光功率密度: 104-106W/cm2n冷 卻 速 度: 104-106/s(急冷達1011/s )n處 理 深 度: 0.01-2mm 適用于普通碳鋼、合金鋼、不銹鋼、鑄鐵和有色金屬等材料表面合金化，在廉價的普通基體材料表面，制備具有預期性能如：耐磨、耐熱、耐蝕或其他性能的表面合金層代替整體合金材料制造。激光表面處理激光表面處理工藝工作原理與特點主要用途 （激光包覆）激光熔覆 材料表面加上熔覆材料(預置涂層或吹送粉末)進行激光輻

47、照，其熔覆過程和工作原理與激光合金化類似，不同的是，熔覆激光功率比合金化低，且基體僅微熔，對熔覆成分稀釋很少（通常低于10）熔覆層與基體呈冶金結合且能保持熔覆材料原來的成分與性能，其特點是：可在低熔點材料上熔覆一層高熔點的合金，能控制稀釋，可局部熔覆，微觀結構細致，熱影響區小，熔覆層均勻。n激光功率密度：104-106W/cm2n冷 卻 速 度：104-106/sn處 理 深 度：0.01-2mm 適用于廉價材料包覆Co基、Cr基、Ni基、WC基、TiC陶瓷等材料，提高其表面硬度，耐磨、耐蝕、耐高溫抗疲勞等性能，適合于激光熔覆的基體材料有碳鋼、鑄鐵、不銹鋼、鋁、鐵合金等。激光表面處理工藝工作原

48、理與特點主要用途 激光沖擊硬化 采用高峰值功率密度的激光束輻照工件，表面薄層迅速氣化，在表面原則逸出期間，發生動量脈沖，產生強機械沖擊波或應力波，沖擊金屬表面，使其產生塑性變形，表層顯微組織中位錯密度增加。n激光功率密度：109-1012W/cm2n冷 卻 速 度：104-105/sn處 理 深 度：0.02-0.2mm 適用于鋼、鈦合金表面強化，提高合金強度、硬度及疲勞極限。激光表面處理工藝工作原理與特點主要用途（激光電鍍）激光增強電沉積 將激光與電鍍結合起來采用高能激光束輻照陰極液一固物質分界面，造成局部溫升與微區攪拌，從而誘發或增強其化學反應，引起液體物質的分解并在固體表面沉積出反應生成

49、物。 其特點是：其沉積速率比普通電鍍可高出三個數量級，可改善鍍層組織結構，提高鍍層結合力。 可電鍍Cu、Ni及貴金屬，主要用于無屏蔽電鍍，通過計算機控制激光束的運動軌跡而得到預期的復雜幾何圖形的無屏蔽鍍層，亦可用于電路修復。工藝工作原理與特點主要用途（激光化學鍍）激光誘導自催化沉積 金屬、半導體或高聚物基體浸于自催化沉積水溶液中，采用脈沖激光照射，誘發或增強自催化反應，提高沉積速率與結合力。 用 于 微 電 子電路和器件制造，如在Si、InP、CaAs等半導體上選擇性沉積Pt、A u 、 P b - N i等。激光表面處理工藝工作原理與特點主要用途激光物理氣相沉積 用激光束直接照射位于真空室的

50、靶材，使靶材蒸發，蒸汽在基體上冷凝沉積成膜層，其特點是清潔度高，沉積層與靶材成分完全相同。 用 于 沉 積 超導合金和軟基體上制備硬度可達HV2000-5000的非晶BN層等。激光表面處理工藝工作原理與特點主要用途激光化學氣相沉積 用一定波長的激光束輻照待沉積的基體。基體置于金屬有機化合物或其他有機或無機分子中，由于激光的熱分解作用，使該氣體分解并沉積在基體上形成薄層，其特點是膜層分布均勻，與基體結合牢固。或用激光照射相應氣體，利用激光的光分解作用，在基體上形成薄膜。 用 于 金 屬 或金剛石薄膜沉積，已在幾十種金屬元 素 中 實 現薄膜沉積。激光表面處理工藝工作原理與特點主要用途（表面織構化

51、）激光微精處理 利用激光掃描(導向)，使零件表面產生有規律的微凸體或微凹體圖案或織構紋路，改變其原有表面形貌。處理后表面粗糙度發生變化，掃描區微凸體(或微凹體)相關的組織及硬度也發生了變化，可達到設計預期效果。 該技術具有經濟、節能、收效快，便于推廣應用等特點。 用于汽車發動機摩擦副或軋輥等零部件表面形貌改造，改進摩擦磨損性能或滿足其他表面要求，如提高涂層附著力、外觀要求等，日本將此技術用于軋制薄板生產(軋輥表面激光掃描形成特殊紋路形貌)，改善板材沖壓成型性：能 與 有 機 涂 層 的附著力。 激光表面處理工藝工作原理與特點主要用途激光無接觸彎曲 將材料激光加熱到超過塑性屈服極限，激光照射期間

52、，由于極其快速的加熱和冷卻產生熱應力，引起彎曲，通過控制熱變形，不需機 械 接 觸 就 可 進 行 V 形 和 U 形 彎 曲 ， 彎 曲的程度與激光通過的次數成正比。 用于無接觸彎曲加工。激光表面處理工藝工作原理與特點主要用途激光退火 用激光加熱，使材料的溫度超過退火臨界溫度，典型操作條件為： 功率密度：2.3104W/cm2 移動速度：0.5m/min 用于硬化材料激光軟退火,主要是半導體材料，在離子注入破壞了晶體結構后，需進行局部退火，以軟化需進一步彎曲的部位 。激光表面處理 綜上所述，不難看出，由于激光技術本身所具有的優越性而使激光表面處理工藝的發展顯示出旺盛的生命力。目前國內外正在不

53、斷完善和推廣已在生產中獲得應用的工藝，同時新工藝也在不斷發展之中，特別是激光與其他工藝的復合技術，已成為激光表面處理發展的新動向。激光表面處理電子束表面改性技術電子束表面改性技術n電子束表面改性技術與激光技術一樣是在最近十幾年來迅速發展起來的表面加工技術。n由于應用了聚焦線圈和偏轉線圈，使得電子束加工技術在使用中更為方便，可以較靈活地調節加熱面積、加熱區域和材料表面的能量密度，并且電子束能量利用率更高，可以達到95。激光由于在材料表面有85-95的反射率能量利用率較低。電子槍由加熱燈絲、電子槍由加熱燈絲、陰極、陽極、聚束陰極、陽極、聚束極、電磁透鏡、偏極、電磁透鏡、偏轉系統和合軸系統轉系統和合

54、軸系統等組成等組成電子束表面淬火n 利用電子束加熱材料表面使其溫度超過奧氏體轉變溫度，通過其內部冷態的金屬進行自淬火，達到表面淬火的目的。由于加熱能量密度高、速度快，溫度梯度大，冷卻速度快，相變過程中鋼鐵材料的奧氏體化時間短，奧氏體晶粒來不及長大，可以獲得超細晶粒組織而使表層具有較高的強硬性或得到較高耐磨性。NCl0鋼的電子束表面淬火層及硬度隨深度的變化關系電子束表面合金化n 根據所需將具有特殊性能的合金粉末涂覆在金屬表面，利用電子束加熱熔化進行表面合金化處理，雖然時間較短，但是在控制好工藝參數的條件下，可以使變成液體的各種合金元素與基體元素得到充分混合并重新分布凝固，獲得所需的表面結構和性能

55、，滿足其耐磨、耐蝕和耐熱等要求。CrB在Ti6Al4V表面的合金化結構電子束熔覆n利用電子束熔化技術，根據需要向基體表面預先涂覆，并將其材料熔化，在表面形成具有某些特殊作用的覆蓋層。與表面合金化不同，熔化層必須準確控制，防止涂覆層與基體過分地混合熔融而得不到滿足需要的涂層。電子束表面熔覆的微觀組織制造非晶態表層n將電子束能量密度提高，使加在基體表面上的能量可以快速熔化表面層而形成小熔池，其它部分受熱較小，在冷基體的作用下可以獲得較快的冷卻速度。表層熔化深度為0.025mm時，冷卻速度可達10-6/s這樣可以在材料的表面形成良好的非晶層，該組織具有高的耐腐蝕和抗疲勞的性能。 Ti6A14V的表面

56、非晶層電子束表面熔凝 將所需材料的表面重新熔化，在冷基體的作用下快速凝固而形成與基體的組織結構和性能不一樣但成分一樣的表面層，提高表面的耐磨性。與非晶化不同，表面熔凝的冷卻速度相對較低，并且獲得的組織一般為鑄態。AlSi合金的熔凝的微觀組織等離子滲氮離子束表面處理n等離子轟擊滲擴處理是傳統的固、液、氣態滲擴工藝的新發展，所不同的是利用了物質的第四態等離子態，即利用低真空稀薄氣體輝光放電產生的離子束轟擊金屬或合金表面，使工件加熱到所需溫度，在金屬表面滲入一種或幾種化學元素并向其內部擴散，改變表層的化學成分與組織結構，達到強化目的。n使用不同的氣體介質，可獲得不同的滲擴層，如滲碳、滲氮、滲金屬等。

57、n等離子轟擊滲擴處理利用了輝光放電激活氣體源，具有： (1) 能夠較好地控制工件表面的最終成分、結構和性能。如：等離子滲氮處理可以不形成混合相和化合物區、材料也不發生脆化。 (2) 輝光放電可使處理在較低的表面溫度下進行，同時具有較高的沉積速率。 (3) 可在低壓混合氣體源中得到所需的活化元素，因而能省去后清洗工序和排除清洗過程中帶來的環境問題，如等離子滲硼處理，可以不用熔鹽和免去了帶來污染的熔鹽后處理清洗工藝。 (4) 等離子滲擴處理爐釋放的氣體一般是無毒和非爆炸性的，能直接排放室外，所以不存在氣體環境污染問題。 (5) 利用輝光放電中異常輝光屏蔽的特點，在等離子滲擴處理中，對于工件不需處理

58、的部位可采用簡便的機械屏蔽，不需采用氣密遮蔽、鍍銅遮蔽或刷涂掩膜等復雜工序。等離子滲氮原理 在低于一個大氣壓的滲氮氣氛中，利用工件(陰極)和陽極之間產生輝光放電進行 滲氮的工藝。 在真空室內(133-1330Pa)，陰極(工件)與陽極(容器)之間通高壓(400-1100 V)電，可使通入真空室中的氨(或氮、氫混合氣)電離，并在工件周圍產生輝光放電。此時氮離子向工件(陰極)表面沖擊，加熱工件并在 表面富集FeN，分解后滲入鋼鐵材料。離子轟擊陰極表面的反應離子滲氮過程表面的反應：n載能電子產生電離和中性氮原子：n氮離子轟擊工件表面，濺射鐵及表面污物，加熱和清潔活化表面的作用。n濺射的鐵原子與氣相中

59、性氮原子在鄰近工件表面發生反應，生產FeNnFeN在工件表面的沉積和分解。 eNNNe22FeNNFe等離子滲氮設備n離子滲氮設備已形成了系列產品，其爐型可分為井式爐、鐘罩式爐、臥式爐三類。n等離子滲氮主要工藝參數：滲氮溫度、保溫時間、滲氮介質和爐內壓力。1-油旋轉泵；2-冷卻水入口；3-氣壓測量；4-冷卻水出口； 5-處理零件；6-供氣；7-溫度測量；8-電源；9-控制離子滲氮設備示意圖臥式離子滲氮爐結構簡圖1-水冷管；2-陰極底盤；3-間隙調整螺母；4-觀察孔；5-陰極支承；6-托板；7-陰極輸電裝置；8-出水管；9-支座；10-陰極引線；11-測真空裝置；12-自動充氣裝置； 13-抽氣

60、管；14-輸氣管；15-爐體；16-隔熱屏；17-進水管；18-爐門；19-爐門鉸鏈；20-支承板；21-測溫熱電偶；22-工件；23-水冷管；24-排氣閥n簡述化學氣相沉積的原理與應用。n試述離子注入的原理及特點。 熱噴涂技術一般原理熱噴涂是將金屬或非金屬材料加熱熔化，靠壓縮氣體連續吹噴到制件表面上，形成與基體牢固結合的涂層，從制件表層獲得所需要的物理化學性能。基本過程（1）噴涂材料的加熱熔化；（2）熔化的噴涂材料被霧化；（3）熔融或軟化的微細顆粒的噴射飛行；（4）粒子在基體表面發生碰撞、變形、凝固和堆積。熱噴涂火焰熱噴涂普通火焰熱噴涂粉末火焰熱噴涂線材火焰熱噴涂 噴涂的涂層厚度為幾十微米至