1、鋁及鋁合金的陽極氧化工藝與參數指導1鋁及鋁合金陽極氧化處理的起因鋁及其合金在大氣中其表面會自然形成一層厚度為 40 50 A薄的氧化膜。 雖然能使金屬稍微有些鈍化，但由于它太薄，孔隙率大，機械強度低，不能有 效地防止金屬腐蝕。經過陽極氧化處理，可以使鋁及其合金表面獲得一層比自然氧化膜厚得多的 致密膜層（從幾十微米甚至到幾百微米）。這層人工氧化膜再經過封閉處理，無品 型的氧化膜轉變成結晶型的氧化膜，孔隙也被封閉,因此使金屬表面光澤能長久 不變，抗蝕性能、機械強度都有所提高，經染色還可獲得裝飾性的外觀。由于鋁 及其合金制品經過陽極氧化后具有許多特點， 所以鋁陽極氧化工藝在鋁制品表面 處理中廣為應用

2、。經過陽極氧化后的鋁制品耐蝕能力很好。 硫酸陽極氧化法所得 的氧化膜厚度可在5 - 20微米之間，硬度較高，孔隙率大，吸附性強，容易染 色和封閉。而且具有操作簡便、穩定、成本低等特點，故應用最為廣泛。2鋁及鋁合金陽極氧化上膜原理當把零件掛在陽極上，陰極用鉛棒，通入電流后，發生如下反應:陰極上陽極上2H+ + 2e- H2 TAl-3e- A13+6OH 3H2O+3O2-2A13+ + 3O2- - A12O3 + 399 （ 卡）硫酸還可以與Al、A12O3發生反應2Al + 2H2SO4 - Al2（SO4）3 + 3H2 TA12O3 + H2SO4 一 AL2（SO4）3 + 3H3O

3、鋁陽極氧化膜的生長是在“生長”和“溶解”這對矛盾中產生和發展的。通 電后的最初數秒鐘首先生成無孔的致密層（叫無孔層，或阻擋層），它雖只有0.01 0.015Am,可是具有很高的絕緣性。硫酸對膜產生腐蝕溶解。由于溶解的不均 勻性，薄的地方（孔穴）電阻小，離子可通過，反應繼續進行，氧化膜生長，又伴 隨著氧化膜溶解。循環往復。控制一定的工藝條件特別是硫酸濃度和溫度可使膜 的生長占主導地位。2.1鋁及鋁合金陽極氧化過程機理:a. 膜的電化學生成過程b. 膜的化學溶解過程。必須使膜的生成速度大于溶解速度。2.2 陽極氧化膜的結構：a. 多孔的外層氧化膜外層主要是由非晶型的氧化鋁及小量的水合氧化鋁所組成，

4、 此外還含有電解液的陰離子。當電解液為硫酸時，膜層中硫酸鹽含量在正常情況下為13%-17%。 氧化膜的大部分優良特性都是由多孔外層的厚度及孔隙率所決定，與陽極氧化條件密切相關。b.阻擋層阻擋層是由無水的A12O3所組成，厚約0.03-0.05 m為總膜厚的 0.5%-2.0%，薄而致密, 具有高的硬度和阻止電流通過的作用。3 鋁及鋁合金陽極氧化膜的特點3.1. 硬度較高：普通氧化膜在300HV右，硬質氧化膜達500HV3.2. 較高的耐蝕性：經陽極氧化后得到的膜必須進行封閉處理3.3. 較好的吸附能力：陽極氧化膜為多孔結構3.4. 很好的絕緣性能：絕緣擊穿電壓大于30V/ m3.5. 絕熱抗熱

5、性能強：陽極氧化膜可耐溫1500左右，純鋁為6603.6. 有機涂層和電鍍層附著性強3.7. 功能性好：利用陽極氧化膜的多孔性，在微孔中沉積功能性微粒，可以得到各種功能性材料4 鋁及鋁合金陽極氧化的工藝按照使用性質分類，可以分為普通陽極氧化（著色）工藝、光亮陽極氧化（加著色）工藝、硬質陽極氧化4.1. 普通陽極氧化工藝：鋁工件一上掛具-脫脂-水洗-陽極氧化-水洗（去離子水洗）一染色或電解著色-水洗一去離子水洗一封孔-水洗一下掛具。備注： 普通陽極氧化脫脂水洗后如果鋁工件表面氧化嚴重，可以增加堿蝕水洗工序再進行陽極氧化，不過這道工序本身會對鋁制品有腐蝕作用，特別是堿腐更加嚴重些；對新出來的鋁工件

6、樣品，如沒必要 （鋁制品表面自然氧化膜少） ，最好可不做。4.2. 光亮陽極氧化加著色工藝：機械拋光 -上掛化學除油-熱水清洗-清洗（三道）-硫酸中和-清洗（三道）-化學拋光-清洗（三道）-出光-清洗-陽極氧化-清洗-封閉染色-清洗-封孔-水洗-干燥-檢查4.3. 硬質陽極氧化工藝硬質陽極氧化在工藝工序中并沒有明顯改變，只是在某些工藝工序的參數中做了不一樣的改變。4.4. 以上工序輔助工藝點備注：1) 機械拋光：噴砂、研磨、滾磨，機械加工處理工件表面較大缺陷或整平工作2) 化學除油：堿洗脫脂清除表面有機油脂和無機碳化物，清潔作用。工藝要求：氫氧化鈉：5070g/L添加適量的表面活性劑溫度：50

7、70c時間：0.52min堿洗時間應視工件表面油污除凈為止3) 熱水清洗：熱水清洗的作用主要是脫脂和清洗堿液。堿洗后的沖洗最好先用熱水沖洗，有利于洗凈工件表面上的堿性物質。有盲孔、 狹縫的工件要加強對該部位的沖洗，并甩凈其中的殘留溶液, 為后序清水作準備。4) 硫酸中和：酸洗本身的作用是腐蝕、溶解金屬表層、與表面疏松的氧化物發生還原反應，同時它還具有強脫脂和酸堿中和作用工藝要求：10-20 %的硫酸 常溫 2-10S5) 化學拋光：在特定的溶劑中，利用化學浸蝕的作用，使產品達到整平、光亮的效果。工藝要求：硫酸：10-15%、 時間：3-7分鐘磷酸：70-80 %、溫度：90-110度硝酸：5-

8、6 %6) 出 光：硝酸出光清除表面的氧化皮或不溶物，使表面露出結晶層。工藝要求：硝酸：200300ml/L溫度：室溫時間：視黑膜退凈為止(正常5-10S)若處理雜鋁、鑄鋁還應在此配方的基礎上添加50ml/L 氫氟酸，以加速除去堿洗時粘附在鋁件表面的不溶物。7) 清 洗： 以上清洗作用，清洗產品表面因前工序所攜帶的酸堿跟隨離子,避免帶入后工序槽中破壞槽液成分平衡，導致不良現象產生，在酸洗后最好是用超聲波清洗，特是在鈍化后的清洗，超聲波清洗時要注意一個頻率的問題， 鋁材是比較柔軟的材料，頻率過大或次數過多都很容易被打傷，如有打傷在鈍化后非常明顯，須機械加工才能掩蓋其缺陷。8) 氧 化： 經前處理

9、后要立即轉入氧化工序，以防因工件在大氣中擱置過久而又生成自然氧化膜而影響氧化層的質量。再度浸泡在清水中雖優于曝露在大氣中，但也不宜浸泡過久。氧化過程中溶液的溫度是至關重要的工藝條件，溶液溫度過高，成膜速度加快，氧化膜容易出現粉化；溶液溫度過低，成膜速度緩慢，所生成的膜色調偏淡，附著力差。在氧化染色整個流程中，因為氧化工藝原因造成染色不良是比較普遍的。氧化膜的膜厚和孔隙均勻一致是染色時獲得均勻一致顏色的前提和基礎，為獲得均勻一致的氧化膜，保證足夠的循環量，冷卻量，保證良好的導電性是舉足輕重的，在同一型號鉛材為求得表面基本一致的色彩，應在同一溶液溫度下處理同樣時間硫酸陽極氧化的工藝成分及要求：硫酸

10、：15-28%溶液通常成熟的工業工藝為18-20% ( 180-200g/L )溫度：13-26 電壓：12-24V電流：0.8-2.5A/dm時間：30-50min5鋁及鋁合金陽極氧化工藝參數的影響5.1鋁及鋁合金不同因素對其表面氧化膜的影響： 表1鋁及鋁合金氧化膜厚度表氧化膜生成條件氧化膜厚度純鋁或Al-Mg合金的自然氧化膜（300 C）13nm純鋁的自然氧化膜（30 C）<30nm常規化學氧化膜2.55um常規陽極氧化壁壘膜0.250.75um常規保護性陽極氧化膜（如硫酸陽極氧化）530um硬質陽極氧化膜25150um5.2人工氧化膜的分類和特征1） .電流形式：a.直流電陽極氧化

11、b.交流電陽極氧化c.脈沖陽極氧化2） .電解液形式：a.硫酸b.草酸c.銘酸d.混合酸e.以磺基有機酸為主溶液的自然著色陽極氧化（各氧化膜各種見表 2）3） .膜層性質：a.普通膜b.硬質膜c.瓷質膜d.光亮修飾層e.半導體作用的阻擋 層表2典型的陽極氧化電解液、電解條件和膜特征表主要成分含量（質量 分數/%）溫度/C電流密度/A*氧化膜特征10<200.52無色透明，可染色1200.52乳白色，適合作底層35253523黃褐色，硬質，有熒光特性7.525351乳白色，硬質2.53400.10.5灰色，不透明，優質的耐蝕性N5>90穩壓耐高電壓2580150v穩壓白色，不透明，質

12、軟混合熔融 物20028白色，不透明，結晶性膜層5.3氧化膜結構跟不同氧化液的關系氧化槽液成分對鋁及鋁合金氧化膜的影響比較明顯，不同氧化槽液得到的氧化膜特征力J差很大，見表 3:電解液濃度/%溫度/C阻擋層厚度/nm V-1一,._-1孔壁厚/nm V孔徑/nm磷酸4241.191.133草酸2241.180.9717銘酸3381.251.0924硫酸15101.00.8125.4 合金成分對氧化膜的影響1） .鎂含量大于5%寸，陽極氧化膜會暗啞2） .含鈕及銘量即使低至僅1%氧化膜便帶黃色，超過此含量時，金屬色調便 會變的暗黑3） .硅有使氧化膜帶灰色的趨向。不過很大程度上取決于它存在于合金

13、中的形式。 如果以固溶圖形式存在而含量低于 1%寸，它不會使氧化膜明顯暗啞。超過此 含量及以非固溶體形式存在時，金屬就會呈渾濁的灰色。有一種特別的含硅 3-6%的鋁合金就被稱為“灰色調和令”4） .含銅量不超過0.2%左右的鋁合金對陽極氧化膜的顏色、透明度或硬度均無 甚影響。以其通常在一些合金（如鋁、銅、鎂類及其他）所用含量，銅往往會 給合金帶來不規則斑點、呈微棕色及微灰色外觀。止匕外，鋁銅合金在染色過程 中比其他合金更易于發生原電池腐蝕（點狀腐蝕）5） .鋅對氧化膜質量不產生影響。倘若含量在2前右或稍大，又假如合金不含其他成分，則在染色中不會產生明顯的色調變化，也不會令染色膜變暗啞。6）可以

14、用程度形容詞來表示不同合金成分對各類氧化膜的適應性好壞，例如見 下表表4部分不同鋁合金對于陽極氧化的適應性合金保護陽極氧化陽極氧化和著色光亮陽極氧化硬質陽極氧化1080極好極好極好:極好1060極好很好很好極好2011中-好中-好/、口好4043好中/、口區5005極好很好好極好5083好好中好6063極好很好好極好5.5 電流密度和通電氧化時間對氧化膜的影響氧化時間和膜厚：在一定溫度和槽液下，氧化膜厚度取決于電流密度和氧化時 間。在一定時間內厚度與形成氧化膜的時間成正比。 計算陽極氧化生成的氧化 膜厚度公式如下：（r=kit k=1.57 4 / T其中，為陽極氧化膜厚度，pm1 為電流密度

15、，A/dm2t為氧化時間，minK 為系數，為使K值更切合實際，將電流效率和在這種工藝條件下所 生成膜的密度或孔隙度考慮在內，則：刀為電流效率（電極上實際析出的物質 量與總電量換算出的析出物質量之比）。K值美國有時候取0.328、0.285、0.355 , 日本有時候取0.352、0.364、0.25,中國、俄羅斯取0.25 （我們有時候也取 0.3）.電流密度過高，會導致制品各部分的膜厚不同，會使氧化膜的膜孔增大， 從而在著色時產生顏色不均勻且封孔效果差，甚至會產生燒蝕，表面生成可以用手擦去的疏松大膜孔層，。普通適當的電流密度范圍是 0.5-2.5A/dm之,可使膜厚變化保持在最小值。5.6

16、 其它關鍵因素對氧化膜的影響影響陽極氧化膜層特征或質量效果的關鍵因素還有槽液濃度，槽液溫度，鋁 離子濃度，雜質含量等，具關鍵因素的影響在后面的硫酸陽極氧化有詳盡介 紹。綜上因素，可以列出如下關系表格：表5陽極氧化條件變化對膜層性質的影響條件的變化膜厚極限硬度附著與吸 附能力耐蝕性鋁的溶解性孔隙率電壓增加溶液溫度T增加電流密度T減少處理時間-降低溶液濃度T使用交流電TT 1增加合金的均 勻性T采用浸蝕性較 小的電解液注：T表示增加；，表示減少；一表示條件變化不對其產生影響6硫酸陽極氧化工業上用得最多的是硫酸陽極氧化，而且我們實驗室用的就是硫酸陽極氧化 電解液，故在這里重點探討研究。6.1 硫酸陽

17、極氧化的種類和其工藝參數（見表 6）表6典型的硫酸陽極氧化工藝參數表名稱電解液組成/%電流密度，A，-2/A dm電壓/V溫度/ C時間/min顏色膜厚/um備注Alumilite（美）硫酸，1020DC12102020 ±21030透明525易著色，耐蝕， 作油漆表面底 層，耐磨隔熱硫酸交流法硫酸，1215AC34.5172813252040透明1025硫酸硬質法硫酸，1020BC24.510230± 260以上灰色341506.2 工業上我們用的最多是硫酸直流陽極氧化，其詳細參數控制如下表7:表7硫酸直流陽極氧化的工藝參數表工藝項目指標范圍備注氧化電壓1278v電流密度

18、_211.6A/dmAA10銀白 1.151.3 ;1.31.5 ;AA15銀白可取1.6 ,過低氧化膜易封 閉；過高易產生起粉槽液溫度1822 C硫酸濃度15200g/L土 5g/L鋁離子濃度<20g/L光氧化v 12g/L氧化時間2030min6.3 影響硫酸陽極氧化的因素A.硫酸濃度：當使用較高濃度的硫酸進行氧化時，初始階段由于氧化膜的成長速 度較大，氧化膜的孔隙率高，故容易染色，但膜的硬度、耐磨性較差。在稀硫 酸溶液中獲得的陽極氧化膜堅硬耐磨， 反光性能好，但孔隙率較低，適用于染 成各種較淺的淡色。B.鋁離子濃度：當Al3+含量小于20g/L時，對氧化膜表面質量沒有顯著影響（在

19、112g/L范圍內，反而對陽極氧化的速度和膜層表面質量起有利作用）。當A13+ 含量超過20g/L后，形成的膠態離子吸附在膜表面，使鋁制件表面呈現出白點 或塊狀白斑C.電流密度與電流分布：電流密度過高，會導致制品各部分的膜厚不同， 會使氧 化膜的膜孔增大，從而在著色時產生顏色不均勻且封孔效果差。適當的電流密度范圍是100150A/m,可使膜厚變化保持在最小值。對于厚膜料的氧化（如 1525um,電流密度要取上限并減少綁料面積，有利于膜的生長。見表8:表8電流密度對耐蝕性、耐磨性的影響（膜厚相同，時間不同）一一一 -2電流號度/A dm0.81.01.21.62.0氧化時間/min6048403

20、024陽極氧化電壓/V12.113.614.315.316.2膜厚/: m12.312.212.411.913.1耐蝕性/s4244737484比耐蝕性/s 科m13.43.65.96.26.4落砂量/g61266500683074008720耐磨性/g -m-1502.1532.8550.8621.8665.6D.氧化電壓：陽極氧化的氧化電壓決定氧化膜孔徑大小， 低壓生成的膜徑小，孔 數多，而高壓使膜孔徑大，孔數少（可以參照電壓大，電流密度也大可明顯預 見）。見表9表9四種不同酸溶液中各種電壓下陽極氧化膜的孔數表陽極氧化溶液外加電壓/V- -2孔數/個 cm15蜥酸溶液，10C1576 x1

21、0 92052 x1093028 x1092%：酸溶液，25 C20_ 935 x104211 x109606 x1093%&酸溶液，50 C20_ 922 x10408 x109604 x1094麻酸溶液，25 c20_919 x10408 x109604x109E.槽液溫度和槽液的循環攪拌：為使產生于膜層表面的熱量迅速擴展， 防止局部 過熱，一定要進行強制冷卻和攪拌電解液。一般溫度控制在1820c時獲得的氧化膜多孔、吸附性能好、富有彈性、抗腐蝕性能較好，但耐磨性能一般。表10陽極氧化溫度對耐蝕性、耐磨性的影響溫度/c10151820222530陽極氧化電壓/V16.515.314.

22、313.612.611.29.6膜厚/um12.211.812.412.012.011.811.2耐蝕性/s60717378654742比耐蝕性/s um14.96.05.96.55.44.03.8落砂量/g8370750068306100540333002296耐磨性/g - uni1686.1635.6550.8508.3450.3279.7205.0F.雜質含量：雜質含量高則被吸附填充到膜孔中，使氧化膜透明度下降，膜層 的反光率受到阻擋，影響氧化膜的光亮度。G膜厚的均勻性：1） .改善氧化槽液的循環方式，使槽液溫度和濃度均勻，有助于膜厚均勻。2） .控制氧化槽液溫度和濃度的波動范圍，對于

23、捆綁型多工件的同時陽極氧化， 有必要控制好每掛料的氧化表面積。若掛與掛之間膜厚不同，則是工藝條件 波動太大或掛與掛料面積相差太多引起的。3） .型材到兩邊的陰極間距要相等， 增大陰極面積，使陰極面積大于工藝掛料面 積。4）控制好電流密度，若電流密度過高，膜也會不均勻。7硬質厚膜陽極氧化鋁及鋁合金表面生成一種厚而堅硬的氧化膜的一種工藝方法。7.1 硬質厚膜陽極氧化工藝參數和膜層特征跟普通膜相比較如下表11:表11普通膜和硬質膜分析比較類別普通陽極氧化硬質陽極氧化溫度18-22 C左右（有添加劑可達30C）一般在5 c以下（相對來說溫度越低硬質越 高）濃度20%£ 右15%更低電流密度_

24、 _ _20.5-2.5A/dm _21.5-5A/dm電壓< 18V有時高達120V膜層厚度厚度相對較薄膜層厚度15um （若過低則達不到硬度300HV的要求）表向狀態較光滑較粗糙（微觀，和基體表面粗糙度有關）孔隙率高低（20%表面膜狀 態透明膜，厚度幾微米到幾十微 米膜厚可達250微米、為不透明膜，色澤有褐 色，深褐色，灰色到黑色，膜層越厚，電解 溫度越低，顏色越深硬度300HV左右鋁合金上 300-600HV ,純鋁上更高可達 1500HV,抗熱耐熱1500 c熔點高達 2500 C,導熱系數低至60KW/（m*K）,是極好耐熱材料。絕緣性能硫酸直流擊 穿電壓35V/ 科 m絕緣電

25、阻率極大，氧化膜 35-55 m時絕緣 阻值達1000KQ,擊穿電壓最小 450V,經過 絕緣封孔后，擊穿電壓可達 2000V。交流擊 穿電壓25V/ 科 m草酸直流擊 穿電壓10-20V/ 科 m交流擊 穿電壓5-8V/ 科 m結合力附著力強與基體結合力很牢固，附著力更強適用場合以裝飾為主以功能為主（一般用于耐磨、耐熱、耐電的 場合）7.2 硬質厚膜陽極氧化工藝分析目前應用較廣的有以下類型：硫酸硬質陽極氧化脈沖電流法和混合酸硬質陽極氧化交直流疊加法。常用的硬質陽極氧化工藝見表12:表12硬質陽極氧化法和工藝參數表編R電解液溫度/C電流密度，A，-2/A , dm始末電壓/V時間/min膜厚/

26、um始電 壓末電 壓115陶酸+4.4+1422.1261209050215%1 酸+60+700.40.610030024020034%NaHGH。+10250W/dn21525806010130410陶酸-1+4.522.5253040606024028150515%|肖酸10陶酸+8+102560602560610%15減酸0+45交流1024 607024010076%8%1水合草酸條件視合金而改變中插直流202412014086%7減酸3%6嗝機添加劑+4.5+181.32101504065910%20減酸-6+10302801601151501010%15減酸+8420246060

27、5580115.5甲酸8%Z水合草酸+15+253645901002507.2.1 硬質陽極氧化的電解液是在-10 C+5C左右的溫度下電解。由于硬質陽 極氧化所生成的氧化膜層具有較高的電阻， 會直接影響到電流強度的氧化作 用。為了取得較厚的氧化膜，勢必要增加外電壓，其目的是為了消除電阻大 的影響，而使電流密度保持一定。所以為了保證電流密度，后面電壓要比開 始高。7.2.2 為了防止加工件局部過熱燒損，獲得良好質量的產品，可以采取：1 ）冷卻加攪拌，一般是用物理方法讓整體電解液降溫，攪拌以壓縮空氣管孔2 ）銳角倒園，防止零件棱角過熱燒損零件7.3 硬質陽極氧化的性能規定最小合格值表13硬質陽極

28、氧化膜ISO10074-1994規定的性能最小合格值鋁合金表面密度，八，-2/A , dmTABER寸磨性能/mg顯微硬度HV0.052000系以外的合金1100154002000系鋁合金95035250鎂含量2%勺5000、7000系鋁合金95025300銅含量2煙硅含量8%勺鑄造鋁合金950250其他鑄造鋁合金合同規定合同規定7.4 硫酸硬質陽極氧化7.4.1 工藝鋁件一化學除油一清洗一中和一清洗一硬質陽極氧化一清洗一封孔一成品檢驗7.4.2 常見的影響因素1）電解液濃度 一般在10%20%濃度低時，膜層硬度高（對純鋁更為明顯）, 對含銅量高的鋁合金（2A12）例外。2）溫度 通常溫度下降

29、，硬度和耐磨性增強，電解液控制在較低溫度，以土2c溫差為宜。3）陽極電流密度 提高電流密度，氧化膜生成速度加快，氧化時間縮短，膜層 受到硫酸化學溶解的時間相應減少，膜層硬度和耐磨性也相應提高。4）合金成分 合金元素和雜質對鋁合金硬質陽極氧化膜的品質影響很大，影響膜層的均勻性和完整性等。7.4.3部分使用添加劑對硫酸陽極氧化的參考工藝添加劑就是在電解液中加入適量的有機酸，如丙二酸、乳酸、蘋果酸、硫基 水楊酸、檸檬酸等。有添加劑就可以不用把氧化溫度控制得那么低，便于生產、降低成本，還可以提高膜層質量表14有添加劑氧化膜膜厚跟硫酸濃度，溫度，電流密度的關系硬質膜厚度/um添加劑濃度/體積分數硫酸濃度

30、 /g/L溫度/ c電流密度/A/dm 2電壓/V時間/min2253%5%12020015221.92.62024545503%563.92832根據硬度 需要而7E1003%5%180210365.26.550605065注：1).隨著溫度的提高，根據表15降低硫酸濃度2 ).膜厚的增長受到處理時間和電流密度共同影響，根據表16來估算膜厚表15硫酸濃度與溫度的關系硫酸濃度g/L槽液溫度/ c18020021241651852124150170242713515524271201402729表16膜厚與氧化時間電流密度關系電流密度膜厚/um大致時間/min_21.9

31、A/dm_ _22.3A/dm_ _22.6A/dm59871323201718322824254540358 陽極氧化膜的封孔技術鋁合金陽極氧化膜呈多孔層結構，有較強的吸附能力和化學活性，尤其處 在腐蝕性環境中，腐蝕介質容易滲透膜孔引起基體腐蝕。因此，經陽極氧化后的皮膜不管著色與否，均需經過封閉處理，以提高氧化膜的抗蝕、絕緣、和耐 磨等性能，并減弱它對雜質或油污的吸附。8.1 常用的封孔方法有：高溫封孔、冷封孔、中溫封孔處理法。8.1.1 高溫封孔：包括沸水封孔和常壓、加壓蒸汽封孔。其中，蒸汽封孔所處理的氧化膜抗蝕性、耐蝕性與蒸汽壓力和封孔時間有關，一般隨壓力升高，時間延長，抗蝕性提高，耐蝕

32、性降低。1)高溫封孔的工藝及影響因素沸水封孔、蒸汽封孔工藝見表17表17沸水、蒸汽封孔工藝參數表工藝條件封孔方法參爹參數值加壓蒸汽壓力/MPa0.40.5時間/min2030常壓蒸汽壓力/MPa0.050.15溫度/ c100110時間/min45沸純水壓力/MPa95110PH6 ±0.5 （用醋酸調節）時間/min20302）影響沸水封孔的因素及工藝操作要點分析:A.槽液（封孔液）PH值：PH值為5.56.5時膜層有良好的抗蝕性，耐磨性最 好；PH值小于4.5時封孔效果明顯下降，氧化膜會受到浸蝕；PH值大于7.5 時影響封孔質量，若PH值過高，封孔液中易產生氫氧化合物絮狀沉淀物，

33、 容易在制品表面產生“粉霜”（可在封閉液中加入適量的“粉霜”抑制劑， 如多羥基竣鹽、芳香族竣鹽酸、磷酸鹽等）。若溶液的PH值總是向堿性方向 變化，則可采用添加緩沖劑來進行控制。B.入槽封孔的制品必須清洗干凈，為避免氧化膜產生裂紋，封孔前的清洗可使 用溫水。C.封孔制品應與槽體金屬絕緣，為防止封孔液的大量蒸發，可用小5070mm勺耐溫尼龍塑料球覆蓋液面。D.時間、溫度：封孔溫度低于78 C, 丫-Al 2Q與水反應生成鋁膠（Al （OH 3）, 達不到封孔目的；溫度過高易產生“粉霜”。封孔溫度一般控制在9598C。E.添加劑：在沸水中加入添加劑可增強封孔效果，提高膜層的抗蝕性，具工藝見表18表18有添加劑的封孔處理方法及工藝參數表方法處理溶液成分/g L-1PH值溫度/C時間/min特點醋酸饃法醋酸饃4.5 ±0.5 硫酸 0.72.055.56931002030常規工藝醋酸饃5 硼酸55.56758055醋酸饃55.8醋酸鉆1 硼酸85670901520有機染料著色制品 的封孔穩定性好重銘酸法重銘酸15碳酸鈉46057.59095210適合于2000系列鋁 合金，黃色的氧化膜重需酸鉀 10%6057.590以上1020硅酸鈉法硅酸鈉（Na。Si