1、鍍銘生產(chǎn)工藝流程圖鍍銘生產(chǎn)工藝NO工程名使用設(shè)備工作條件質(zhì)量要求備注1鍍銘前 拋光8 Head Buffing M/C1) Head Wheel1）拋光厚度：0.010.02mm-1 Head : #240 Flap Wheel2）表面粗糙度-2 Head : #240 Flap Wheel-拋光前：Rmax 6.0 以下-3 Head : #320 Flap Wheel-拋光后：Rmax 1.4 以下-4 Head : #400 Flap Wheel3）表面狀態(tài)-5 Head : #500 Flap Wheel-Buffing后不能有印痕，抓痕等 痕跡-6 Head : #600 Flap

2、Wheel-7 Head : #800 Flap Wheel-8 Head : Sisal Wheel2) Feeding : 2 5M /分2H-Cr全自動鍍銘生產(chǎn)線(2-1)RackingTilt Loading 設(shè)備1）根據(jù)產(chǎn)品使用專用掛 具1） Racking 時避免產(chǎn)品碰撞(2-2)EtchingEtching Tank1）反刻液成分1）產(chǎn)品的反刻效果一定要均勻整流器(15V, 10,000A)-銘酸：200 gr/ ?-H2SO4:1.5 gr/?2)溫度：48 50 3）時間：58分4)電流：20 25 A/dm2(2-3)Plating鍍方t 1-6號1）鍍銘液成分1）鍍銘厚度

3、：3040 ?整流器(15V, 10,000A)-銘酸：200 230 gr/ ?2）鍍銘層表面狀態(tài)-H2SO4:2 2.3 gr/?-鍍銘層顏色應(yīng)該是淡青色，-Cr3 + 0.5 2 gr/ ?要有光澤-Fe & Cu:4gr/? 以下-表面要光滑，用手觸摸時2)溫度：50 54 不能有粗糙的感覺.3）時間：80100分-表面不能有銷孔，碰撞痕跡4)電流：25 35 A/dm23）工件兩側(cè)封閉處理要做好(2-4)清洗清洗Tank1）清洗水：純水2）溫度：常溫3）次數(shù)：3次(2-5)De RackingTilt Loading1) De Racking時避免碰撞2）掛具上的鍍銘液清洗干

4、凈3鍍銘后 拋光8 Head Buffing M/C1) Head Wheel1)拋光厚度：0.0010.005mm-1 Head : #240 Flap Wheel2）表面粗糙度：Rmax 1.2 以下-2 Head : #240 Flap Wheel3）表面狀態(tài)-3 Head : #320 Flap Wheel-Buffing后不能有印痕，抓痕等痕 跡-4 Head : #400 Flap Wheel-5 Head : #500 Flap Wheel-產(chǎn)品表面不能有碰撞痕跡， 銷孔等-6 Head : #600 Flap Wheel-7 Head : #800 Flap Wheel-8 Head : Sisal Wheel2) Feeding : 1 3M /分生產(chǎn)工藝控制規(guī)程第4頁共4頁4檢查鍍銘厚度測量儀1）鍍銘厚度測量1）鍍銘厚度：30? 以上粗糙度測量儀2）表面粗糙度測量2）