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文檔簡(jiǎn)介
LDI曝光機(jī)設(shè)備說(shuō)明---日立DE-S2021/6/271LDI曝光制程介紹大綱1.
曝光製程定義2.HDI曝光製程流程說(shuō)明3.LDI技術(shù)說(shuō)明4.LDI曝光機(jī)設(shè)備介紹2021/6/2721.曝光製程定義曝光(Exposure)利用UVor鐳射光將客戶需要之影像轉(zhuǎn)移到基板干膜上,搭配後段處理工序,以完成客戶所需之圖形形成.影像轉(zhuǎn)移前影像轉(zhuǎn)移后2021/6/273整板電鍍灌孔整平2.HDI曝光製程流程說(shuō)明前處理貼膜曝光顯影蝕刻去膜AOI黑化2.1.1N
層
Process2.1HDI曝光製程前後流程2021/6/2742.1.2C.M.
Process前處理貼膜曝光顯影蝕刻去膜2021/6/2752.1.3Q/LProcessConformalMask蝕刻去膠渣雷射鑽孔AOI黑化整板電鍍貼膜曝光顯影去膜2021/6/2762.1.4A/L
ProcessConformalMask蝕刻去膠渣雷射鑽孔整板電鍍貼膜曝光顯影去膜鑽孔2021/6/2772.2HDI曝光製程品質(zhì)關(guān)聯(lián)圖Input品質(zhì)特性HDI曝光品質(zhì)項(xiàng)目Output生產(chǎn)影響1.曝光雜質(zhì)2.對(duì)位不良3.真空密著不良4.曝光能量異常5.底片異常1.線細(xì)、斷路、缺口2.層間對(duì)位不良3.破孔4.顯影不良,吸氣不良5.線粗、短路1.板面異物無(wú)塵室異物2.貼膜SPACE不當(dāng)3.貼膜皺紋4.板彎板翹5.干膜附著力不足2021/6/2783.LDI技術(shù)說(shuō)明3.1LDI定義3.2LDI之優(yōu)點(diǎn)說(shuō)明3.3LDI技術(shù)類型說(shuō)明3.4LDI之技術(shù)運(yùn)用在板面上之實(shí)例2021/6/2793.1LDI定義LDI是LaserDirectorImaging(鐳射直接成像)的縮寫(xiě),指的是利用新型技術(shù)直接將客戶所需之影像資料通過(guò)光的方式掃描到板面上,較之前傳統(tǒng)曝光機(jī)(需要將影像資料事先畫(huà)在D/F)在技術(shù)上進(jìn)步;板面行進(jìn)方向2021/6/2710直接成像技術(shù)LDILaserLineHead直接將圖案打印在乾膜上傳統(tǒng)曝光機(jī)利用UV光將底片上固定圖案轉(zhuǎn)移到乾膜上LDI不需底片,可節(jié)省底片成本及底片繪製時(shí)間Dryfilm3.2LDI之優(yōu)點(diǎn)說(shuō)明2021/6/2711Physicalpanel
CAMimage
Imagetargets
PaneltargetsAlignment
(Bestfit)Alignment&Scaling
(Perfectfit)AccurateRegistration;AutoAlignment&Scaling傳統(tǒng)曝光機(jī)LDI曝光機(jī)2021/6/2712材料漲縮改善Date:2009/12/29Panelsize:18"*22"Systemmodel:Paragon8800iPanelthickness:14.5milDryfilmresist:AsahiAQ-3088Exposuerenergy:25mjLDI序列號(hào)SN層別layer解析度resolutionSCALING.XSCALING.Yexposuretime1co-18000dpi1.0006291.00064226secso-11.0006001.00062826sec2co-18000dpi1.0006191.00064026secso-11.0006651.00059226sec3co-18000dpi1.0006611.00057226secso-11.0006651.00059226sec4co-14000dpi1.0005901.00063524secso-11.0006121.00067424secR(PPM)75202
LDI曝光機(jī)可采用CCD自動(dòng)量測(cè)板角靶點(diǎn),根據(jù)量測(cè)結(jié)果自動(dòng)調(diào)整影像縮放比,并可將此縮放比曝光到板子的板邊賊區(qū)。既改善對(duì)位效果,又便于後制程分類及材料漲縮數(shù)據(jù)分析,此Sample對(duì)位結(jié)果:偏移最大1.06mil,最小0mil,平均0.76mil0~2mil偏移數(shù)據(jù)CPK=1.752021/6/2713快速打樣生產(chǎn)時(shí)間縮短PORDOE2021/6/2714Pentax
(ORC)DainipponScreen3.3LDI技術(shù)類型說(shuō)明LaserPolygonMirrorPanelFeeddirectionScandirectionWaveLength:355nmPolygonMirrorSystemDMDPanelFeeddirectionLaserorLamp405nmDMD(DigitalMicroMirror)SystemFujiINPREXHitachivia
DEseriesDMD405nm
OrbotechParagonPolygonMirror355nm
MercuryLamp350-420nm2021/6/2715ExposureCAM
dataPanelfeeddirectionDirectimagingOpticalheadDMD(DigitalMicromirrorDevice)1DMD有100萬(wàn)片小鏡片組成,每個(gè)鏡片40umOpticalsystemLightLens消光板ONOFFImagingFocusLensDMDDMD405nmLDIsystemLD2021/6/27163.4.1對(duì)位能力佳3.4LDI之技術(shù)運(yùn)用在板面上之實(shí)例2021/6/271730umL/Swith40umthickness20umL/Swith25umthickness3.4.2LDI之解析能力2021/6/27184.LDI曝光機(jī)設(shè)備介紹除塵機(jī)放板機(jī)LDI主體LDI主體除塵機(jī)翻板機(jī)收板機(jī)LDI曝光機(jī)連線部位介紹2021/6/2719LDI曝光機(jī)本體動(dòng)作說(shuō)明初定位區(qū)對(duì)位系統(tǒng)曝光系統(tǒng)周邊系統(tǒng)電腦系統(tǒng)
入口1121231234CCD對(duì)位區(qū)SVWSNCCMPCNCCMWSDMD曝光區(qū)出口OK2021/6/2720LDI曝光機(jī)本體動(dòng)作說(shuō)明初定位區(qū)對(duì)位系統(tǒng)曝光系統(tǒng)周邊系統(tǒng)電腦系統(tǒng)
入口1121231234CCD對(duì)位區(qū)SVWSNCCM出口FailCMWS2021/6/27214.
LDI曝光機(jī)設(shè)備介紹4.1前置定位介紹4.2對(duì)位系統(tǒng)介紹4.3曝光系統(tǒng)說(shuō)明4.4電腦控制系統(tǒng)說(shuō)明4.5周邊設(shè)備說(shuō)明2021/6/27224.1前置定位區(qū)簡(jiǎn)介4.1.1定位區(qū)作用通過(guò)X,Y向拍板,將基板定位,以利於將板子放在LDI床臺(tái)上時(shí),CCD能通過(guò)電腦設(shè)定位置找到生產(chǎn)板的對(duì)位孔,從而完成對(duì)位曝光作業(yè)4.1.2動(dòng)作過(guò)程入料檢知X-Pin拍板
定位Y-Pin拍板移載手臂吸板移至LDI床臺(tái)基板達(dá)X-PinY-PinX-Pin2021/6/27234.1.3
感應(yīng)系統(tǒng)輿馬達(dá)Y-pin拍板馬達(dá)X-pin拍板馬達(dá)傳動(dòng)馬達(dá)入料檢知sensorY-pin移動(dòng)後限sensorY-pin移動(dòng)前限sensorX-pin移動(dòng)前限sensorX-pin移動(dòng)後限sensor基板到達(dá)檢知sensor基板尺寸極限sensor2021/6/27244.2對(duì)位系統(tǒng)說(shuō)明4.2.1對(duì)位過(guò)程定義4.2.2對(duì)位原理說(shuō)明4.2.3對(duì)位區(qū)結(jié)構(gòu)介紹
A.臺(tái)面工作結(jié)構(gòu)及原理介紹
B.CCD介紹及設(shè)定資料4.2.4對(duì)位精度確認(rèn)2021/6/27254.2.2對(duì)位原理A.對(duì)位過(guò)程基板對(duì)位孔基板移入對(duì)位臺(tái)吸著基板CCD讀對(duì)位孔(Align)
臺(tái)面X,Y項(xiàng)移動(dòng)靶點(diǎn)與CCD中心重合4.2.1對(duì)位過(guò)程定義CCD對(duì)基板上之靶點(diǎn)定位,並通過(guò)X,Y向線性馬達(dá)運(yùn)動(dòng)后產(chǎn)生的各靶點(diǎn)間間距,并通過(guò)與原始資料比對(duì)計(jì)算,補(bǔ)償出現(xiàn)在基板在X,Y項(xiàng)間距的過(guò)程
臺(tái)面X,Y項(xiàng)移動(dòng)靶點(diǎn)與CCD中心重合NO.1靶孔NO.2靶孔NO.3,42021/6/2726B.靶孔間距計(jì)算方式CCD1CCD2床臺(tái)X方向Y方向CCD間的位置固定不變?yōu)?20mm,同X方向臺(tái)面1234X1X2Y1Y21234X1X2Y1Y2X1=(420mm+Y方向馬達(dá)行走間距)+(X方向行走間距)22Y向伺服馬達(dá)向左為負(fù)值,向右為正值1234X1X2Y1Y22021/6/2727C.對(duì)位原理CCD讀取靶點(diǎn)CM模組運(yùn)算間距Juge值判定窗臺(tái)回歸CCD抓取No.1靶點(diǎn)Fail對(duì)位補(bǔ)償運(yùn)算OKDMD以運(yùn)算出來(lái)的X,Y項(xiàng)縮放比擴(kuò)大or縮小圖形進(jìn)行曝光ForExample:CCD讀取X方向靶點(diǎn)間距(mm):X1=500
X2=500.010CCD讀取Y方向靶點(diǎn)間距(mm):Y1=600
Y2=600.050CAM原始資料:X1=X2=500.000mmY1=Y2=599.950mm對(duì)位補(bǔ)償調(diào)整運(yùn)算:
(X1+X2)/500.000/2=
1.00001(Y1+Y2)/599.950/2=
1.000125DMD就會(huì)將CAM圖形以X軸放大1.00001倍,Y軸放大1.000125倍對(duì)此板進(jìn)行曝光2021/6/2728不規(guī)則圖形補(bǔ)正方式標(biāo)準(zhǔn)補(bǔ)正補(bǔ)正後加工範(fàn)圍被検出的對(duì)位靶點(diǎn)位置<標(biāo)準(zhǔn)補(bǔ)正方法概述>1.首先求出理論靶點(diǎn)和測(cè)定靶點(diǎn)的各重心坐標(biāo),再求出使兩個(gè)重心向一致方向移動(dòng)的X方向、Y方向的移動(dòng)量。2.把靶點(diǎn)的理論坐標(biāo)加上第一項(xiàng)求得的移動(dòng)量、把重心依照中心回轉(zhuǎn)、按X軸的比例,Y軸比例処理後,使其和測(cè)定坐標(biāo)接近。
這時(shí)的回轉(zhuǎn)角、X軸比例值、Y軸比例值,決定了使補(bǔ)正的坐標(biāo)和測(cè)定坐標(biāo)的距離最小的對(duì)位理論坐標(biāo)。依前記1.及2.的順序、4點(diǎn)對(duì)位的理論座標(biāo)連接線為長(zhǎng)方形時(shí),補(bǔ)正後也是長(zhǎng)方形。【特長(zhǎng)】補(bǔ)正結(jié)果
傾斜?伸縮補(bǔ)正後、剩余的偏差均等分配。局部變形的影響
對(duì)全體的影響少。測(cè)定在長(zhǎng)方形四個(gè)頂點(diǎn)位置配置的靶點(diǎn)位置、假定有一個(gè)點(diǎn)1點(diǎn)如圖示有L的偏移。標(biāo)準(zhǔn)補(bǔ)正就是把偏移的靶點(diǎn)進(jìn)行約3/4L的補(bǔ)正、有約1/4L誤差的殘留、其他3點(diǎn)也大約有1/4L的偏移。(誤差的均等分配)2021/6/27294.2.3對(duì)位區(qū)結(jié)構(gòu)對(duì)位區(qū):基板與CAM圖形對(duì)位的平臺(tái),主要分為床臺(tái)輿CCD主要機(jī)構(gòu)如下:X項(xiàng)臺(tái)面移動(dòng)CCD臺(tái)面2021/6/2730床臺(tái)X向伺服馬達(dá)驅(qū)動(dòng)控制X向伺服馬達(dá)(線性滑塊)光學(xué)尺,每個(gè)刻度可精確到0.1um通過(guò)CNC控制電腦給伺服馬達(dá)訊號(hào),1個(gè)訊號(hào)馬達(dá)會(huì)在光學(xué)尺上度10個(gè)格,即1um,從A點(diǎn)到BCNC系統(tǒng)給馬達(dá)多少個(gè)訊號(hào)馬達(dá)即可行進(jìn)多少距離,反之若馬達(dá)行走多少距離即會(huì)pass多少個(gè)訊號(hào)給CNC,用於計(jì)算A到B點(diǎn)距離,X向可操作距離為1100mmX軸兩端設(shè)有極限開(kāi)關(guān)
A.臺(tái)面工作結(jié)構(gòu)及原理介紹2021/6/2731床臺(tái)Y向伺服馬達(dá)驅(qū)動(dòng)控制Y向伺服馬達(dá)(線性滑塊)光學(xué)尺,每個(gè)刻度可精確到0.1um通過(guò)CNC控制電腦給伺服馬達(dá)訊號(hào),1個(gè)訊號(hào)馬達(dá)會(huì)在光學(xué)尺上度10個(gè)格,即1um,從A點(diǎn)到BCNC系統(tǒng)給馬達(dá)多少個(gè)訊號(hào)馬達(dá)即可行進(jìn)多少距離,反之若馬達(dá)行走多少距離即會(huì)pass多少個(gè)訊號(hào)給CNC,用於計(jì)算A到B點(diǎn)距離,Y向可操作距離為380mmY軸兩端設(shè)有極限開(kāi)關(guān)
A.臺(tái)面工作結(jié)構(gòu)及原理介紹2021/6/2732床臺(tái)Z向伺服馬達(dá)驅(qū)動(dòng)控制Z向伺服馬達(dá)通過(guò)CNC控制電腦給伺服馬達(dá)訊號(hào),1個(gè)訊號(hào)馬達(dá)則旋轉(zhuǎn)1周,對(duì)應(yīng)臺(tái)面向上or向下降1um,z向可操作距離為10mm
A.臺(tái)面工作結(jié)構(gòu)及原理介紹2021/6/2733床臺(tái)θ向伺服馬達(dá)驅(qū)動(dòng)控制θ向伺服馬達(dá)通過(guò)CNC控制電腦給伺服馬達(dá)訊號(hào),1個(gè)訊號(hào)馬達(dá)則旋轉(zhuǎn)1周,對(duì)應(yīng)臺(tái)面向上or向下降1um,θ向可操作角度為15度
A.臺(tái)面工作結(jié)構(gòu)及原理介紹2021/6/2734
A.臺(tái)面工作結(jié)構(gòu)及原理介紹床臺(tái)板面吸著控制臺(tái)面通過(guò)1臺(tái)鼓風(fēng)機(jī)的吸氣口進(jìn)行板面真空密著,臺(tái)面分為兩個(gè)作用區(qū)間分別用於不同板面尺寸控制,目的在於將板面平展的吸附在臺(tái)面上,設(shè)定真空度在-12Kpa2021/6/2735CCD固定位置不能做移動(dòng),此點(diǎn)區(qū)別於傳統(tǒng)曝光機(jī)B.CCD
介紹及設(shè)定作業(yè)作用:
擷取基板對(duì)位靶孔中心點(diǎn),為提供主機(jī)計(jì)算靶間距提供基準(zhǔn)點(diǎn)CCD2CCD1此兩個(gè)CCD和DMD固定機(jī)座上不動(dòng),CCD1與CCD2在同意X軸方向,間距為420mm+/-22021/6/2736CCD
讀取靶孔設(shè)定①①初始條件作成「文件NO.」「文件名」輸入②初始登入③保存1.初始條件設(shè)定(1)2021/6/2737①條件選擇②已登入「文件NO.」選擇③「文件NO.
」「文件名」確認(rèn)
→
選擇2.條件設(shè)定方法(2)2021/6/27383.對(duì)位孔登入
(1)①條件設(shè)定②測(cè)定模式選擇※測(cè)定模式的內(nèi)容
:面積重心:輪廓抽出:面積重心+孔型對(duì)照:輪廓抽出+孔型對(duì)照
2021/6/27394.對(duì)位孔登入
(2)
~輪廓抽出+孔型對(duì)照~①用照相機(jī)觀察對(duì)位孔
※為了能觀察到圓孔,設(shè)定擴(kuò)散&同
軸照明的光量②孔型登入畫(huà)像上按下始點(diǎn),拖動(dòng)到終點(diǎn),設(shè)定孔的區(qū)域
(粉色外框
)指定文件名(例:test001)登録選擇表示、(3)確認(rèn)登入后的孔
※根據(jù)選擇按鈕、到這一步為止,登入后的孔有可能可以被讀出2021/6/27405.對(duì)位孔登入
(3)
~輪廓抽出+孔型對(duì)照~①相關(guān)值、搜索區(qū)域的設(shè)定
相關(guān)值:設(shè)定后的値向下改動(dòng)的話,會(huì)出現(xiàn)測(cè)定失敗
搜索區(qū)域:
孔鑒別分解能的選擇(檢查)數(shù)值越大處理時(shí)間越快、只能初步的檢出孔。數(shù)值越小處理時(shí)間越慢、越能詳細(xì)的檢出孔。2021/6/27416.對(duì)位孔登入
(4)
~輪廓抽出+孔型對(duì)照~①輪廓抽出的設(shè)定(1)目標(biāo)值
(直徑)
:輸入檢測(cè)對(duì)象孔的直徑
※因?yàn)槭?/p>
pix表示、參照右測(cè)的○mm輪廓最小値:設(shè)定2值化最小值測(cè)定幅度:基于孔的直徑,設(shè)定輪廓抽出的范圍。※但是、固定為20pix半徑誤差:基于孔的直徑,把檢出后的邊緣數(shù)據(jù)作為測(cè)量對(duì)象,設(shè)定誤差范圍。認(rèn)出率
:基于孔的直徑,把檢出后的邊緣數(shù)據(jù)作為測(cè)量的對(duì)象,設(shè)定誤差范圍。
※但是、固定為10pix邊緣檢出:孔的檢出方向
從外側(cè)向內(nèi)側(cè)檢出→確認(rèn)
從內(nèi)側(cè)向外側(cè)檢出→確認(rèn)①輪廓抽出的設(shè)定2021/6/2742①輪廓抽出的設(shè)定6.對(duì)位孔登入
(5)
~輪廓抽出+孔型對(duì)照~①輪廓抽出的設(shè)定(2)「POSI」「NEGA」作為對(duì)象孔,看周圍的明暗※根據(jù)邊緣檢出方向而變化邊緣檢出外→內(nèi)的時(shí)候?qū)ο罂\(暗)→周圍白(明)「NEGA」對(duì)象孔白(明)→周圍黒(暗)「POSI」邊緣檢出內(nèi)→外的時(shí)候?qū)ο罂\(暗)→周圍白(明)「POSI」對(duì)象孔白(明)→周圍黒(暗)
「NEGA」2021/6/27437.對(duì)位孔登入
(6)
~輪廓抽出+孔型對(duì)照~①畫(huà)像處理領(lǐng)域
作為對(duì)象孔以外認(rèn)出的時(shí)候、需要設(shè)定畫(huà)像處理領(lǐng)域。領(lǐng)域的設(shè)定方法:在畫(huà)像表示上,按下始點(diǎn)拖動(dòng)到終點(diǎn)為止,按下
「選擇確定」按鈕。※「初期值」可以設(shè)定最大領(lǐng)域。
②全部設(shè)定結(jié)束后「測(cè)定」
①畫(huà)像處理領(lǐng)域的設(shè)定②測(cè)定2021/6/2744對(duì)位孔無(wú)法認(rèn)出對(duì)位孔可以認(rèn)出對(duì)位孔認(rèn)出后、「保存」2021/6/27454.2.4對(duì)位精度確認(rèn)目的:確認(rèn)LDI曝光機(jī)對(duì)位精度是否在設(shè)定範(fàn)圍內(nèi),以確保板面對(duì)位品質(zhì)基準(zhǔn)板(玻璃製作)此板21X24上每隔5cm設(shè)立環(huán)形圖標(biāo)基準(zhǔn)板貼干膜,使用LDI曝光,顯影環(huán)形圖標(biāo)內(nèi)留LDI曝出的PAD到3D機(jī)臺(tái)量測(cè)干膜PAD中心和基準(zhǔn)板環(huán)形圖標(biāo)中心,誤差不大於15um2021/6/27464.3曝光系統(tǒng)說(shuō)明4.3.1
曝光過(guò)程定義4.3.2
曝光系統(tǒng)結(jié)構(gòu)4.3.3
LD冷卻系統(tǒng)介紹4.3.4光路能量測(cè)定2021/6/27474.3.1曝光過(guò)程定義板子對(duì)位完成后回到定位位置,各個(gè)DMD開(kāi)始工作,分區(qū)塊進(jìn)行掃描曝光;DMD掃描寬度區(qū)域:86mmX4=344mm40mm2021/6/27484.3.2
曝光系統(tǒng)結(jié)構(gòu)LD光源系統(tǒng)DMD光路系統(tǒng)發(fā)光體光路整合(透鏡組)DMD反射鏡微鏡組鏡片組基板2021/6/2749LD光源系統(tǒng)LD是兩塊不同類型晶片在電壓作用下分別釋放正負(fù)離子,而產(chǎn)生光譜,通過(guò)晶片內(nèi)絕緣物整合可將光譜整合成同一種波長(zhǎng)的光路(如右圖);2021/6/2750LD光源是點(diǎn)光源透鏡組:通過(guò)一系列鏡片組將點(diǎn)光源轉(zhuǎn)變成平行的面光源2021/6/2751LightsourceHitachioriginallightsourceprovidesandsustainsuniformlightintensityforalongtime.PatentpendingSystemConfigurationAllonPatteringBeamspotsatFocuspointMicrolensDigitalMicro-MirrorDeviceDMDDMD光路系統(tǒng)2021/6/2752DMD:DigitalMicro-MirrorDeviceDMD大小3.5X4cm,其中含:1024X768,鏡面大小在40um2021/6/2753MicrolensesReducingBeamDiameterbyMicroLensesMicro-LensArray&GratingSubstrateBeamspotsatFocuspointBeamspotsdiameterDE-SLens直徑10um2021/6/2754MultipleexposureHigh-reliabilityexposuresystemUltraHigh-resolutionUltraFinepatterningExposureSystemAnglebetweenthepanelandtheArrayPanelScanningPointonpanelPanelmotiondirectionArrayMcroLens有個(gè)角度,會(huì)使打在板面的光路存在重複過(guò)程。避免某個(gè)孔的光路無(wú)激發(fā)時(shí)其他光能加以補(bǔ)充2021/6/27554.3.3
LD冷卻系統(tǒng)介紹作用:LD發(fā)光源工作過(guò)程中發(fā)熱,為保持工作溫度,使用冷卻水進(jìn)行循環(huán)以保持其恒定溫度;LDDMD透鏡組發(fā)光體冷凍水入冷凍水出分流盒2021/6/2756冷卻機(jī)冷卻水進(jìn)出管路閥門冷卻水循環(huán)管路分流盒發(fā)光體冷卻循環(huán)管路2021/6/27574.3.4光路能量測(cè)定軟體程序開(kāi)啟作業(yè)畫(huà)面2021/6/27584.4
電腦控制系統(tǒng)說(shuō)明4.4.1LDI電腦控制系統(tǒng)組成4.4.2WorkStation工作系統(tǒng)說(shuō)明4.4.3CNC工作系統(tǒng)說(shuō)明2021/6/2759ODB++4.4.1LDI電腦控制系統(tǒng)組成WorkStationCNCCameralPC2APC2BServerWorkStationPC2ALDI本體Prestage2021/6/2760[Prestage-H]Hitachioriginalsystem
LDI的資料serverODB++
Gerber
+ExposeconditionsPre-dataconversionsystemAuto-pollingDESystemEditstationCAMsystemCAM-APrestage-H2021/6/2761
工作站(DELL)
服務(wù)器
(DELL)
PC2
(元件控制器)
HUB
曝光數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換器工作站電腦HUB
南亞CAM局域網(wǎng)LD控制電腦(PC2B)工作站電腦(WS)
CNC(MARK-30)LD控制電腦(PC2A)曝光機(jī)控制箱控制界面單一顯示器連接3st電腦局域網(wǎng)數(shù)據(jù)信號(hào)傳輸示意圖WSpc2服務(wù)器數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換器2021/6/2762WorkStationCNCCameralPC2APC2BLDI本體機(jī)臺(tái)動(dòng)作指令控制系統(tǒng)工作站:設(shè)定讀取料號(hào)參數(shù)照相機(jī)控制系統(tǒng):設(shè)定CCD參數(shù)單元No.1,2LD,DMD控制主機(jī)No.3,4LD,DMD控制主機(jī)2021/6/2763CCD控制電腦LD控制電腦(PC2A)LD控制電腦(PC2B)工作站電腦(WS)
CNC(MARK-30)PowerSupply對(duì)位控制CCD照明燈CCD照明燈CCD1CCD1CCD控制器光源LD電源板DMDx2控制板RTDXBoard(RealtimeDriver)DMDx2控制板RTDXBoard(RealtimeDriver)LD控制板LDcpu界面卡
RS232
(XY:直線馬達(dá)+光學(xué)尺)(Z:螺桿馬達(dá)+編碼器)(C:螺桿馬達(dá)+光學(xué)尺)DMD同步控制板主控制板伺服控制器x4st光纖光纖定位信號(hào)I/O控制板螺桿極限sensor吸板鼓風(fēng)機(jī)真空sensor控制界面單一顯示器連接5st電腦曝光機(jī)控制原理
RS232局域網(wǎng)信號(hào)線外接物流2021/6/27644.4.2WorkStation工作系統(tǒng)說(shuō)明設(shè)定料號(hào)生產(chǎn)參數(shù)WorkStation主要為設(shè)定料號(hào)參數(shù)及鐳射能量以及依照設(shè)定參數(shù)進(jìn)行生產(chǎn)作業(yè),是機(jī)器與人對(duì)話的窗口;工作軟體軟體內(nèi)部介面2021/6/2765填寫(xiě)工作名稱,即料號(hào)名,層別名CAM程式類型,選取ODB++File進(jìn)入料號(hào)設(shè)定畫(huà)面2021/6/2766依照CAM提供新料號(hào)資料路徑選取原始資料,在Step/Layer選項(xiàng)分別選取要製作的內(nèi)容及層別(A層為SO/CO,C.M.為SO-Lar/CO-Lar,N層為SO-1/CO-1)點(diǎn)選Browse,找對(duì)應(yīng)資料選擇要曝光的內(nèi)容選擇層別2021/6/2767Front鍵為正面Back鍵為反面,選擇Front鍵曝光參數(shù)設(shè)定:參數(shù)內(nèi)各位置說(shuō)明Mirror:鏡像作業(yè)分X,Y方向和不進(jìn)行鏡像作業(yè)Rotation:翻轉(zhuǎn)作業(yè)分90,180,270度翻轉(zhuǎn)ChgPola:正負(fù)片選擇Alignment:對(duì)位設(shè)定選項(xiàng)Spot:線路線寬補(bǔ)償設(shè)定Scaling:設(shè)定自動(dòng)漲縮作業(yè)Detail:曝光機(jī)細(xì)項(xiàng)設(shè)定2021/6/2768Mirror:鏡像作業(yè)選擇X以X方向進(jìn)行鏡像(CAM)
選擇Y以Y方向進(jìn)行鏡像正常不選擇(如下圖)Rotation:旋轉(zhuǎn)作業(yè)選擇No不進(jìn)行旋轉(zhuǎn),選擇90為以原點(diǎn)(CAM)進(jìn)行順時(shí)針90度旋轉(zhuǎn),其他類推,正常作業(yè)不
2021/6/2769ChgPola:正負(fù)片選擇選擇No為負(fù)片,選擇Yes為正片Spot:線路線寬補(bǔ)償設(shè)定Normal:線寬寬窄,Reverse:線寬變寬Compensation2021/6/2770Lignment:對(duì)位設(shè)定選項(xiàng)本選項(xiàng)有No,Yes選擇,選No表示機(jī)臺(tái)不進(jìn)行對(duì)位就直接進(jìn)行曝光(用於內(nèi)層及干膜能量,
測(cè)試點(diǎn)製作)正常曝光生產(chǎn)中要選擇Yes功能,選此功能后點(diǎn)選右邊的”AlignmentPosition”按鈕,進(jìn)行細(xì)項(xiàng)目的設(shè)定選擇細(xì)項(xiàng)按鈕
進(jìn)入細(xì)項(xiàng)按鈕介面
Camera選項(xiàng)選擇Auto雙對(duì)位
設(shè)定允許公差範(fàn)圍2021/6/2771手動(dòng)設(shè)定對(duì)位孔位置(需要輸入對(duì)位孔X,Y座位位置),可使用鼠標(biāo)直接在軟體上點(diǎn)選直接將位置輸入Scaling:設(shè)定漲縮作業(yè)
Auto為自動(dòng)漲縮模式:板子漲縮多少,曝光時(shí)的圖形就會(huì)相應(yīng)的漲縮多少,總是
保持一致性,對(duì)位品質(zhì)好,生產(chǎn)時(shí)選擇此按鈕;Fixed為固定漲縮模式:無(wú)論板子
漲縮多少,曝光時(shí)的圖形就會(huì)以一種漲縮比例進(jìn)行,對(duì)位品質(zhì)不佳(不建議使用)2021/6/2772曝光機(jī)細(xì)項(xiàng)設(shè)定設(shè)定曝光檯面移動(dòng)速度0~9m/min,移動(dòng)速度越快曝光精度約差,但產(chǎn)量高,反之精度
高,但產(chǎn)量低CS為Y方向一次曝光格數(shù),每格為2.65um,S為X方向一次曝光格數(shù),
每格為2.65um,Step為
CS,S面積內(nèi)以倍率進(jìn)行曝光作業(yè)2.65um2021/6/2773輸入板厚誤差值及量測(cè)位置點(diǎn)板厚設(shè)定
根據(jù)製程卡輸入板子厚度選擇每片量測(cè)扳厚or不量or首件量測(cè)選擇對(duì)位的同時(shí)量測(cè)2021/6/2774B.生產(chǎn)操作作業(yè)切換畫(huà)面到LDI機(jī)臺(tái)側(cè)WS主機(jī):切換作業(yè)
Monitor顯示畫(huà)面2021/6/2775開(kāi)啟Exposure作業(yè)程序:開(kāi)啟中
開(kāi)啟完成介面選擇要生產(chǎn)的料號(hào)點(diǎn)Set
點(diǎn)OK確認(rèn)
完成后確認(rèn)2021/6/2776對(duì)要生產(chǎn)的料號(hào)再進(jìn)行檢查:
檢查項(xiàng)目:是否有對(duì)位設(shè)置,曝光原點(diǎn)是否和CAM一直,料號(hào)名稱是否正確,層別
對(duì)應(yīng)是否正常(依照設(shè)定料號(hào)說(shuō)明進(jìn)行)2021/6/2777生產(chǎn)資料傳入DE設(shè)備:
點(diǎn)選Start按鈕資料傳送中(曝光按鈕灰階)傳送完成(曝光按鈕可選取)
如右圖,點(diǎn)選”StartImaging”按鈕即開(kāi)始進(jìn)行生產(chǎn),第一片生產(chǎn)完通過(guò)選擇可進(jìn)行連續(xù)生產(chǎn)or
停止生產(chǎn)作業(yè);生產(chǎn)作業(yè):2021/6/2778C.LD能量調(diào)整打開(kāi)LDLightVolumeAdjustment軟體,如上圖,在此畫(huà)面Value值中輸入%即可進(jìn)行能量的設(shè)定,設(shè)定完成后需進(jìn)行干膜能量條測(cè)試,以達(dá)到最佳化設(shè)定參數(shù),具體作業(yè)如附件2021/6/2779D.LD光照度測(cè)定及校正測(cè)定LD光源能量衰減時(shí)用,直接使用能量照度計(jì)測(cè)試,測(cè)試時(shí)LD能量設(shè)定100%,當(dāng)能量測(cè)試衰減達(dá)到80%時(shí),需要進(jìn)行LD更換
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