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文檔簡介
IntroductionofICAssemblyProcess
IC封裝工藝簡介艾?ICProcessFlowCustomer客戶ICDesignIC設計WaferFab晶圓制造WaferProbe晶圓測試Assembly&TestIC封裝測試SMTIC組裝CompanyLogoICPackage(IC的封裝形式)Package--封裝體:指芯片(Die)和不同類型的框架(L/F)和塑封料(EMC)形成的不同外形的封裝體。ICPackage種類很多,可以按以下標準分類:按封裝材料劃分為:金屬封裝、陶瓷封裝、塑料封裝按照和PCB板連接方式分為:PTH封裝和SMT封裝按照封裝外型可分為:SOT、SOIC、TSSOP、QFN、QFP、BGA、CSP等;CompanyLogoICPackage(IC的封裝形式)
按封裝材料劃分為:
金屬封裝陶瓷封裝塑料封裝金屬封裝主要用于軍工或航天技術,無商業(yè)化產品;陶瓷封裝優(yōu)于金屬封裝,也用于軍事產品,占少量商業(yè)化市場;塑料封裝用于消費電子,因為其成本低,工藝簡單,可靠性高而占有絕大部分的市場份額;CompanyLogoICPackage(IC的封裝形式)按與PCB板的連接方式劃分為:
PTHSMTPTH-PinThroughHole,通孔式;SMT-SurfaceMountTechnology,表面貼裝式。目前市面上大部分IC均采為SMT式的SMTCompanyLogoICPackage(IC的封裝形式)按封裝外型可分為:SOT、QFN
、SOIC、TSSOP、QFP、BGA、CSP等;決定封裝形式的兩個關鍵因素:封裝效率。芯片面積/封裝面積,盡量接近1:1;引腳數(shù)。引腳數(shù)越多,越高級,但是工藝難度也相應增加;其中,CSP由于采用了FlipChip技術和裸片封裝,達到了
芯片面積/封裝面積=1:1,為目前最高級的技術;封裝形式和工藝逐步高級和復雜CompanyLogoICPackage(IC的封裝形式)
QFN—QuadFlatNo-leadPackage四方無引腳扁平封裝SOIC—SmallOutlineIC小外形IC封裝TSSOP—ThinSmallShrinkOutlinePackage薄小外形封裝QFP—QuadFlatPackage四方引腳扁平式封裝BGA—BallGridArrayPackage球柵陣列式封裝CSP—ChipScalePackage芯片尺寸級封裝CompanyLogoICPackage
Structure(IC結構圖)TOPVIEWSIDEVIEWLeadFrame
引線框架GoldWire
金線DiePad
芯片焊盤Epoxy
銀漿MoldCompound環(huán)氧樹脂CompanyLogoRawMaterialinAssembly(封裝原材料)【Wafer】晶圓……CompanyLogoRawMaterialinAssembly(封裝原材料)【LeadFrame】引線框架提供電路連接和Die的固定作用;主要材料為銅,會在上面進行鍍銀、
NiPdAu等材料;L/F的制程有Etch和Stamp兩種;易氧化,存放于氮氣柜中,濕度小于40%RH;除了BGA和CSP外,其他Package都會采用LeadFrame,
BGA采用的是Substrate;CompanyLogoRawMaterialinAssembly(封裝原材料)【GoldWire】焊接金線實現(xiàn)芯片和外部引線框架的電性和物
理連接;金線采用的是99.99%的高純度金;同時,出于成本考慮,目前有采用銅
線和鋁線工藝的。優(yōu)點是成本降低,
同時工藝難度加大,良率降低;線徑決定可傳導的電流;0.8mil,
1.0mil,1.3mils,1.5mils和2.0mils;CompanyLogoRawMaterialinAssembly(封裝原材料)【MoldCompound】塑封料/環(huán)氧樹脂主要成分為:環(huán)氧樹脂及各種添加劑(固化劑,改性劑,脫
模劑,染色劑,阻燃劑等);主要功能為:在熔融狀態(tài)下將Die和LeadFrame包裹起來,
提供物理和電氣保護,防止外界干擾;存放條件:零下5°保存,常溫下需回溫24小時;CompanyLogoRawMaterialinAssembly(封裝原材料)成分為環(huán)氧樹脂填充金屬粉末(Ag);有三個作用:將Die固定在DiePad上;
散熱作用,導電作用;-50°以下存放,使用之前回溫24小時;【Epoxy】銀漿CompanyLogoTypicalAssemblyProcessFlowFOL/前段EOL/中段Plating/電鍍EOL/后段FinalTest/測試CompanyLogoFOL–FrontofLine前段工藝BackGrinding磨片WaferWaferMount晶圓安裝WaferSaw晶圓切割WaferWash晶圓清洗DieAttach芯片粘接EpoxyCure銀漿固化WireBond引線焊接2ndOptical第二道光檢3rdOptical第三道光檢EOLCompanyLogoFOL–BackGrinding背面減薄Taping粘膠帶BackGrinding磨片De-Taping去膠帶將從晶圓廠出來的Wafer進行背面研磨,來減薄晶圓達到
封裝需要的厚度(8mils~10mils);磨片時,需要在正面(ActiveArea)貼膠帶保護電路區(qū)域
同時研磨背面。研磨之后,去除膠帶,測量厚度;CompanyLogoFOL–WaferSaw晶圓切割WaferMount晶圓安裝WaferSaw晶圓切割WaferWash清洗將晶圓粘貼在藍膜(Mylar)上,使得即使被切割開后,不會散落;通過SawBlade將整片Wafer切割成一個個獨立的Dice,方便后面的
DieAttach等工序;WaferWash主要清洗Saw時候產生的各種粉塵,清潔Wafer;CompanyLogoFOL–WaferSaw晶圓切割WaferSawMachineSawBlade(切割刀片):LifeTime:900~1500M;
SpindlierSpeed:30~50Krpm:FeedSpeed:30~50/s;CompanyLogoFOL–2ndOpticalInspection二光檢查主要是針對WaferSaw之后在顯微鏡下進行Wafer的外觀檢查,是否有出現(xiàn)廢品。ChippingDie
崩邊CompanyLogoFOL–DieAttach芯片粘接WriteEpoxy點銀漿DieAttach芯片粘接EpoxyCure銀漿固化EpoxyStorage:
零下50度存放;EpoxyAging:
使用之前回溫,除去氣泡;EpoxyWriting:
點銀漿于L/F的Pad上,Pattern可選;CompanyLogoFOL–DieAttach芯片粘接芯片拾取過程:
1、EjectorPin從wafer下方的Mylar頂起芯片,使之便于
脫離藍膜;
2、Collect/Pickuphead從上方吸起芯片,完成從Wafer
到L/F的運輸過程;
3、Collect以一定的力將芯片Bond在點有銀漿的L/F
的Pad上,具體位置可控;
4、BondHeadResolution:
X-0.2um;Y-0.5um;Z-1.25um;
5、BondHeadSpeed:1.3m/s;CompanyLogoFOL–DieAttach芯片粘接EpoxyWrite:
Coverage>75%;DieAttach:
Placement<0.05mm;CompanyLogoFOL–EpoxyCure銀漿固化銀漿固化:175°C,1個小時;
N2環(huán)境,防止氧化:DieAttach質量檢查:DieShear(芯片剪切力)CompanyLogoFOL–WireBonding引線焊接利用高純度的金線(Au)、銅線(Cu)或鋁線(Al)把Pad
和Lead通過焊接的方法連接起來。Pad是芯片上電路的外接
點,Lead是LeadFrame上的連接點。W/B是封裝工藝中最為關鍵的一部工藝。CompanyLogoFOL–WireBonding引線焊接KeyWords:Capillary:陶瓷劈刀。W/B工藝中最核心的一個BondingTool,內部為空心,中間穿上金線,并分別在芯片的Pad和LeadFrame的Lead上形成第一和第二焊點;EFO:打火桿。用于在形成第一焊點時的燒球。打火桿打火形成高溫,將外露于Capillary前端的金線高溫熔化成球形,以便在Pad上形成第一焊點(BondBall);BondBall:第一焊點。指金線在Cap的作用下,在Pad上形成的焊接點,一般為一個球形;Wedge:第二焊點。指金線在Cap的作用下,在LeadFrame上形成的焊接點,一般為月牙形(或者魚尾形);W/B四要素:壓力(Force)、超聲(USGPower)、時間(Time)、溫度(Temperature);CompanyLogoFOL–WireBonding引線焊接陶瓷的Capillary內穿金線,并且在EFO的作用下,高溫燒球;金線在Cap施加的一定壓力和超聲的作用下,形成BondBall;金線在Cap施加的一定壓力作用下,形成Wedge;CompanyLogoFOL–WireBonding引線焊接EFO打火桿在磁嘴前燒球Cap下降到芯片的Pad上,加Force和Power形成第一焊點Cap牽引金線上升Cap運動軌跡形成良好的WireLoopCap下降到LeadFrame形成焊接Cap側向劃開,將金線切斷,形成魚尾Cap上提,完成一次動作CompanyLogoFOL–WireBonding引線焊接WireBond的質量控制:WirePull、StitchPull(金線頸部和尾部拉力)BallShear(金球推力)WireLoop(金線弧高)BallThickness(金球厚度)CraterTest(彈坑測試)Intermetallic(金屬間化合物測試)SizeThicknessCompanyLogoFOL–3rdOpticalInspection三光檢查檢查DieAttach和WireBond之后有無各種廢品CompanyLogoEOL–EndofLine后段工藝Molding注塑EOLLaserMark激光打字PMC高溫固化De-flash/Plating去溢料/電鍍Trim/Form切筋/成型4thOptical第四道光檢Annealing電鍍退火Note:JustForTSSOP/SOIC/QFPpackageCompanyLogoEOL–Molding(注塑)為了防止外部環(huán)境的沖擊,利用EMC
把WireBonding完成后的產品封裝起
來的過程,并需要加熱硬化。BeforeMoldingAfterMoldingCompanyLogoEOL–Molding(注塑)MoldingTool(模具)EMC(塑封料)為黑色塊狀,低溫存儲,使用前需先回溫。其特
性為:在高溫下先處于熔融狀態(tài),然后會逐漸硬化,最終成型。Molding參數(shù):
MoldingTemp:175~185°C;ClampPressure:3000~4000N;
TransferPressure:1000~1500Psi;TransferTime:5~15s;
CureTime:60~120s;CavityL/FL/FCompanyLogoEOL–Molding(注塑)MoldingCycle-L/F置于模具中,每個Die位于Cavity中,模具合模。-塊狀EMC放入模具孔中-高溫下,EMC開始熔化,順著軌道流向Cavity中-從底部開始,逐漸覆蓋芯片-完全覆蓋包裹完畢,成型固化CompanyLogoEOL–LaserMark(激光打字)在產品(Package)的正面或者背面激光刻字。內容有:產品名稱,生產日期,生產批次等;BeforeAfterCompanyLogoEOL–PostMoldCure(模后固化)用于Molding后塑封料的固化,保護IC內部結構,消除內部應力。
CureTemp:175+/-5°C;CureTime:8HrsESPECOven4hrsCompanyLogoEOL–De-flash(去溢料)BeforeAfter目的:De-flash的目的在于去除Molding后在管體周圍Lead之間
多余的溢料;
方法:弱酸浸泡,高壓水沖洗;CompanyLogoEOL–Plating(電鍍)BeforePlatingAfterPlating利用金屬和化學的方法,在Leadframe的表面
鍍上一層鍍層,以防止外界環(huán)境的影響(潮濕
和熱)。并且使元器件在PCB板上容易焊接及
提高導電性。電鍍一般有兩種類型:
Pb-Free:無鉛電鍍,采用的是>99.95%的高純
度的錫(Tin),為目前普遍采用的技術,符合
Rohs的要求;
Tin-Lead:鉛錫合金。Tin占85%,Lead占
15%,由于不符合Rohs,目前基本被淘汰;CompanyLogoEOL–PostAnnealingBake(電鍍退火)目的:讓無鉛電鍍后的產品在高溫下烘烤一段時間,目的在于
消除電鍍層潛在的晶須生長(WhiskerGrowth)的問題;
條件:150+/-5C;2Hrs;晶須晶須,又叫Whisker,是指錫在長時間的潮濕環(huán)境和溫度變化環(huán)境下生長出的一種須狀晶體,可能導致產品引腳的短路。CompanyLogoEOL–Trim&Form(切筋成型)
Trim:將一條片的LeadFrame切割成單獨的Unit(IC)的過程;
Form:對Trim后的IC產品進行引腳成型,達到工藝需要求的形狀,
并放置進Tube或者Tray盤中;CompanyLogoEOL–Trim&Form(切筋成型)CuttingTool&FormingPunchCuttingDieStripperPadFormingDie1234CompanyLogoEOL–FinalVisualInspection(第四道光檢)FinalVisualInspection-FVI在低倍放大鏡下,對產品外觀進行檢查。主要針對EOL工藝可能產生的廢品:例如Molding缺陷,電鍍缺陷和Trim/Form缺陷等;CompanyLogoTheEndThankYou!IntroductionofICAssemblyProcessCompanyLogo每一次的加油,每一次的努力都是為了下一次更好的自己
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