標準解讀
《GB/T 32282-2015 氮化鎵單晶位錯密度的測量 陰極熒光顯微鏡法》是一項國家標準,專門針對氮化鎵(GaN)單晶材料中位錯密度的測定方法進行了規(guī)定。該標準采用了陰極熒光顯微鏡技術作為主要手段來實現(xiàn)對位錯密度的定量分析。陰極熒光顯微鏡能夠通過觀察樣品在電子束激發(fā)下發(fā)出的熒光強度分布情況,從而間接反映出晶體內(nèi)部缺陷的狀態(tài)。
標準首先明確了適用范圍,指出其適用于采用金屬有機化學氣相沉積法或氫化物氣相外延法制備的氮化鎵單晶片。接著,詳細描述了實驗所需設備條件,包括但不限于陰極熒光顯微鏡、掃描電鏡等,并且對這些儀器的具體參數(shù)提出了要求。此外,還列舉了進行測試時所需要的輔助工具和試劑。
對于樣品準備過程,《GB/T 32282-2015》給出了具體指導,包括取樣位置的選擇、表面處理方式等,以確保所測得的數(shù)據(jù)具有代表性。同時,標準也強調(diào)了如何正確設置陰極熒光顯微鏡的工作參數(shù),比如加速電壓、電流密度等,以便獲得清晰準確的圖像信息。
在數(shù)據(jù)采集與處理方面,文件說明了如何從陰極熒光圖像中識別出代表位錯的特征信號,并提供了計算位錯密度的方法。這通常涉及到統(tǒng)計一定區(qū)域內(nèi)亮點的數(shù)量,并將其轉(zhuǎn)換為單位面積上的位錯數(shù)目。最后,為了保證測量結(jié)果的一致性和可比性,《GB/T 32282-2015》還制定了一系列的質(zhì)量控制措施,包括重復性試驗、再現(xiàn)性試驗等,以及相應的評判標準。
該標準為氮化鎵單晶材料的研究開發(fā)及質(zhì)量控制提供了科學依據(jù)和技術支持。
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2015-12-10 頒布
- 2016-11-01 實施



文檔簡介
ICS77040
H21.
中華人民共和國國家標準
GB/T32282—2015
氮化鎵單晶位錯密度的測量
陰極熒光顯微鏡法
TestmethodfordislocationdensityofGaNsinglecrystal—
Cathodoluminescencespectroscopy
2015-12-10發(fā)布2016-11-01實施
中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布
中國國家標準化管理委員會
GB/T32282—2015
前言
本標準按照給出的規(guī)則起草
GB/T1.1—2009。
本標準由全國半導體設備和材料標準化技術委員會與全國半導體設備和材料標準
(SAC/TC203)
化技術委員會材料分會共同提出并歸口
(SAC/TC203/SC2)。
本標準起草單位中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所蘇州納維科技有限公司
:、。
本標準主要起草人曾雄輝張燚董曉鳴牛牧童劉爭暉邱永鑫王建峰徐科
:、、、、、、、。
Ⅰ
GB/T32282—2015
氮化鎵單晶位錯密度的測量
陰極熒光顯微鏡法
1范圍
本標準規(guī)定了用陰極熒光顯微鏡法測試氮化鎵單晶位錯密度的方法
。
本標準適用于位錯密度在3個28個2之間的氮化鎵單晶中位錯密度的測試
1×10/cm~5×10/cm。
2規(guī)范性引用文件
下列文件對于本文件的應用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所用的修改單適用于本文件
。,()。
硅晶體完整性化學擇優(yōu)腐蝕檢驗方法
GB/T1554
半導體材料術語
GB/T14264
微束分析掃描電鏡圖像放大倍率校準導則
GB/T27788
3術語和定義
界定的以及下列術語和定義適用于本文件
GB/T14264。
31
.
陰極熒光cathodoluminescence
材料在陰極射線電子束激發(fā)下產(chǎn)生發(fā)光的一種物理現(xiàn)象
()。
32
.
輻射復合radiativerecombination
電子從高能態(tài)到低能態(tài)的躍遷過程中電子和空穴復合時會釋放一定的能量能量以光子的形式
,,
釋放
。
33
.
非輻射復合nonradiativerecombination
電子從高能態(tài)到低能態(tài)的躍遷過程中電子和空穴復合時會釋放一定的能量能量以除光子輻射之
,,
外的其他形式釋放
。
4方法提要
通常待測發(fā)光材料樣品在電子束的作用下會被激發(fā)出各種信號如二次電子信號背散射電子信
,,,、
號射線信號陰極熒光信號等采用特定的探測器對上述信號進行分別接收便可得到反映樣品相
、X、。,
應特征的圖像對陰極熒光信號主要采用光電倍增管來探測將光信號轉(zhuǎn)換成電流最后以圖像輸出
。,,。
陰極熒光圖像上的襯度反映了樣品不同區(qū)域發(fā)光的強弱
。
位錯通常是氮化鎵單晶中的非輻射復合中心因此會在陰極熒光圖像上表現(xiàn)為暗點陰極熒光顯微
,,
鏡的空間分辨率可達到幾十納米
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