標準解讀
《GB/T 11068-2006 砷化鎵外延層載流子濃度 電容-電壓測量方法》相比于其前版《GB/T 11068-1989 砷化鎵外延層載流子濃度電容-電壓測量方法》,主要在以下幾個方面進行了更新和調(diào)整:
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技術內(nèi)容的更新:2006版標準根據(jù)近二十年來砷化鎵材料及半導體測試技術的發(fā)展,對電容-電壓(C-V)測量的理論基礎、測量設備要求、以及數(shù)據(jù)處理方法等方面進行了修訂,以適應更精確、更高效的測量需求。
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測量精度提升:新標準可能引入了更嚴格的誤差控制標準和更先進的校準方法,旨在提高測量結果的準確性和重復性,從而更好地滿足現(xiàn)代微電子和光電子器件對砷化鎵外延層高質(zhì)量的要求。
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測試程序優(yōu)化:針對電容-電壓測量的具體操作步驟,2006版標準可能提供了更加詳細和規(guī)范的操作流程,包括樣品制備、測試環(huán)境控制、以及測試參數(shù)的選擇等,以確保測試過程的一致性和可靠性。
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儀器設備要求:考慮到科技進步,新標準可能會對用于測量的電容-電壓測試儀、溫度控制系統(tǒng)等設備的技術指標提出新的或更高的要求,以符合現(xiàn)代測量技術的標準。
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適用范圍調(diào)整:雖然兩版標準均聚焦于砷化鎵外延層載流子濃度的測量,但2006版可能根據(jù)新材料、新結構的應用擴展了標準的適用范圍,或?qū)μ囟愋偷纳榛壨庋訉樱ㄈ绮煌瑩诫s類型、不同厚度或特定應用領域的外延層)的測量給出了特別指導。
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術語和定義更新:為了與國際標準接軌并反映行業(yè)最新進展,2006版標準可能對相關專業(yè)術語和定義進行了修訂或增補,以增強標準的通用性和理解度。
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標準化引用文件:新版標準會更新引用的國家標準和國際標準清單,確保所采用的方法和要求與當前的標準化體系保持一致,提升了標準的權威性和兼容性。
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2006-07-18 頒布
- 2006-11-01 實施



文檔簡介
ICS77.040.01H17中華人民共和國國家標準GB/T11068-2006代替GB/T11068—1989砷化家外延層載流子濃度電容-電壓測量方法Galliumarsenideepitaxiallayer-Determinationofcarrierconcentrationvoltage-capacitancemethod2006-07-18發(fā)布2006-11-01實施中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局愛布中國國家標準化管理委員會
GB/T11068-2006本標準是對GB/T11068—1989《砷化家外延層載流子濃度電容-電壓測量方法》的修訂。本標準在原標準基礎上.參考DIN50439《電容-電壓法和汞探針測定半導體單品材料摻雜劑的濃度部面分布》編制的。本標準與原標準相比主要變動如下:-原標準規(guī)定,在制作高阻襯底樣品的歐姆電極時,要在氮氣保護及400℃下合金化5min,而經(jīng)驗表明,在350℃~450℃的溫度下合金化.都可得到好的歐姆接觸電極·故將此項要求改為在350C~400℃及氮氣保護下.合金化5min~10min;取消了原標準對環(huán)境的要求,因為在通常的實驗室條件下.所用儀器和測試方法本身對環(huán)境溫度和濕度并不十分敏感.特別是成套儀器。但由于載流子濃度與溫度有關.故應在測量報告中標明測量時的環(huán)境溫度;簡化了原標準關于電容儀校準的文字表述本標準自實施之日起代替GB/T11068—1989.本標準由中國有色金屬工業(yè)協(xié)會提出。本標準由全國有色金屬標準化技術委員會歸口。本標準起草單位:北京有色金屬研究總院。本標準主要起草人:王彤涵。本標準由全國有色金屬標準化技術委員會負責解釋。本標準所代替標準的歷次版本發(fā)布情況為:-GB/T11068-1989。
GB/T11068-2006砷化家外延層載流子濃度電容-電壓測量方法1范圍本標準規(guī)定了砷化鏢外延層載流子濃度電容-電壓測量方法.適用于砷化家外延層基體材料中載流子濃度的測量。測量范圍:1×10.cm-a~5×10!cm-a2術語和定義下列術語和定義適用于本標準2擊穿電壓breakdownvoltage當反向偏壓增加到某一值時,肖特基結就失去阻擋作用,反向電流迅速增大時的電壓值22接觸面積Contactarca汞探針與試樣表面的有效接觸面積。23剪壘電容barriercapacitance半導體內(nèi)垂直于接觸面的空間電荷區(qū)的電容。勢壘寬度barrierwvidth起勢全作用的空間電荷區(qū)的線性寬度。2.5載流子濃度縱向分布ongitudinaldistributionofcarrierconcentration自半導體表面向體內(nèi)垂直方向上載流子濃度與深度的對應關系。3原理汞探針與砷化鏢表面接觸形成肖特基勢壘.當反向偏壓增大時,勢壘區(qū)向砷化家內(nèi)部擴展。用高頻小訊號測量某一反向偏壓下的勢全電容C(F)及由反向偏壓增量V(V)引起的勢壘電容增量C(F).根據(jù)公式(1)和公式(2)可計算出勢壘擴展深度(X)和其相應的載流子濃度N(X)N(X)=ceoeA式中:
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