薄膜問題討論課件_第1頁
薄膜問題討論課件_第2頁
薄膜問題討論課件_第3頁
薄膜問題討論課件_第4頁
薄膜問題討論課件_第5頁
全文預覽已結束

下載本文檔

版權說明：本文檔由用戶提供并上傳，收益歸屬內容提供方，若內容存在侵權，請進行舉報或認領

文檔簡介

FilmIssuesDougPelleymounter&KenNauman高級應用工程師1薄膜問題和其它系統的最優方案用于反應濺射的閉環控制Lambda探測儀殘余氣體分析儀（RGA）等離子體發射監控器(PEM)外部電壓控制新的Crystal?

電壓控制帶有多倍射頻供應的公共激勵振蕩器(CEX)和相移交流陽極下降氣流均勻性薄膜應力和粘著力濺射速率SiO2二氧化硅結晶控制厚度AZO氧化鋅鋁vs.ITO氧化銦錫vs.CdSte每種陶瓷的成本(合金,聯合濺射,等等.)2薄膜問題

提問與解答時間3

Nasdaq?GM:AEIS

ENG-FilmIssues-150-039/24/2008Specificationsaresubjecttochangewithoutnotice.AdvancedEnergy?,Crystal?,FlatPanelFocusSM,PVSunTimesSM,andSputterSpotlight?areU.S.trademarksofAdvancedEnergyIndustries,Inc.2008AdvancedEnergyIndustri

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明，都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等，如果需要附件，請聯系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙，網頁內容里面會有圖紙預覽，若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業或盈利用途。
  • 5. 人人文庫網僅提供信息存儲空間，僅對用戶上傳內容的表現方式做保護處理，對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯，并不能對任何下載內容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容，請與我們聯系，我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論