1、 2015 年 秋 季學(xué)期研究生課程考核（研究報(bào)告）考核科目:材料相變與相結(jié)構(gòu)分析實(shí)踐 學(xué)生所在院（系）:材料科學(xué)與工程學(xué)院學(xué)生所在學(xué)科:材料工程（鍛壓）學(xué) 生 姓 名: 學(xué) 號(hào):15S學(xué) 生 類 別:應(yīng)用型考核結(jié)果閱卷人實(shí)驗(yàn)一 X射線光電子能譜儀的工作原理及基本操作實(shí)驗(yàn)地點(diǎn)：新教學(xué)樓（格物樓）108實(shí)驗(yàn)儀器：Thermo 250 Xi X射線光電子能譜儀實(shí)驗(yàn)?zāi)康模?、學(xué)習(xí)X光電子能譜儀的結(jié)構(gòu)和分析原理2、學(xué)習(xí)定性分析元素的方法3、學(xué)習(xí)定量分析成分的方法4、熟悉X光電子能譜儀的操作5、掌握X光電子能譜譜圖的識(shí)別與解析能力操作方法：一、開機(jī)1、開總電源ON2、開設(shè)備電源ON3、開冷卻循環(huán)水的電源

2、開關(guān)ON4、設(shè)備控制柜電源開關(guān)ON5、開計(jì)算機(jī)電源，進(jìn)入設(shè)備控制程序6、將機(jī)械泵和分子泵開啟，氣壓降至8E-8 mbar7、開啟進(jìn)樣倉倉門，放入測(cè)試樣品，抽氣至真空度低于E-6 mbar8、開啟準(zhǔn)備倉倉門，將進(jìn)樣倉的樣品通過轉(zhuǎn)樣臺(tái)送入準(zhǔn)備倉9、關(guān)閉準(zhǔn)備倉倉門，隨后打開分析倉倉門，將樣品推入分析倉，關(guān)閉分析倉門10、開啟X射線槍，中和槍等相關(guān)測(cè)試槍進(jìn)行測(cè)試二、關(guān)機(jī)1、關(guān)閉X射線槍、中和槍電源2、開啟分析倉倉門，將樣品移至準(zhǔn)備倉，并關(guān)閉分析倉倉門3、轉(zhuǎn)移樣品至送樣臺(tái)，并開啟準(zhǔn)備倉倉門，將樣品拉回進(jìn)樣倉4、關(guān)閉準(zhǔn)備倉倉門，開啟進(jìn)樣倉倉門，取出樣品，同時(shí)抽真空5、利用電腦控制系統(tǒng)，關(guān)閉分子泵，手動(dòng)關(guān)閉

3、機(jī)械泵6、關(guān)閉冷卻循環(huán)水電源OFF7、關(guān)閉控制電源柜電源8、關(guān)閉總電源OFF主要原理：X-射線光電子能譜儀，是一種表面分析技術(shù)，主要用來表征材料表面元素及其化學(xué)狀態(tài)。其基本原理是使用X-射線，如Al Ka=1486.6eV，與樣品表面相互作用，利用光電效應(yīng)，激發(fā)樣品表面發(fā)射光電子，利用能量分析器，測(cè)量光電子動(dòng)能(K.E)，根據(jù)B.E=hv-K.E-W.F，進(jìn)而得到激發(fā)電子的結(jié)合能（B.E)。有原理公式：EK=h-Eb-sp（Eb：電子結(jié)合能；sp：譜儀的功函數(shù)，一般為常數(shù)；EK：電子動(dòng)能，可實(shí)驗(yàn)測(cè)得；h：X射線能量，已知）可見，當(dāng)入射X射線能量一定，測(cè)出功函數(shù)和電子的動(dòng)能，即可求出電子的結(jié)合能

4、。由于每種元素的電子結(jié)構(gòu)是獨(dú)特的，計(jì)算出Eb就可以判定元素的類型。由于只有表面處的光電子才能從固體中逸出，因而測(cè)得的電子結(jié)合能必然反應(yīng)了表面化學(xué)成份的情況。主要用途：固體樣品的表面組成分析，化學(xué)狀態(tài)分析，取樣訊息深度為10nm以內(nèi)。功能包括：1、表面定性與定量分析. 可得到小於10um空間分辨率的X射線光電子能譜的全譜資訊。2、維持10um以下的空間分辨率元素成分包括化學(xué)態(tài)的深度分析（角分辨方式,氬離子或團(tuán)簇離子刻蝕方式）。3、線掃瞄或面掃瞄以得到線或面上的元素或化學(xué)態(tài)分布。4.、成像功能。5、可進(jìn)行樣品的原位處理AES：1）可進(jìn)行樣品表面的微區(qū)選點(diǎn)分析（包括點(diǎn)分析，線分析和面分析）；2）可進(jìn)

5、行深度分析適合：納米薄膜材料，微電子材料，催化劑，摩擦化學(xué)，高分子材料的表面和界面研究。主要研究領(lǐng)域包括：1、TiO2納米光催化以及在空氣和水凈化方面的應(yīng)用；2、汽車尾氣凈化催化劑新型金屬載體的研究；3、納米藥物載體及靶向藥物的研究；4、納米導(dǎo)電陶瓷薄膜材料的研究；5、納米雜化超硬薄膜材料及摩擦化學(xué)的研究；6、納米發(fā)光材料及納米分析化學(xué)研究；7、有機(jī)電致發(fā)光材料的表面化學(xué)研究；8、納米材料在香煙減毒凈化上的應(yīng)用研究；9、無機(jī)納米殺菌與抗菌材料及其在飲用水凈化上的作用；10、電解水制氧電極材料的研究實(shí)驗(yàn)二 X射線衍射儀的工作原理及基本操作實(shí)驗(yàn)地點(diǎn)：材料樓204實(shí)驗(yàn)儀器：D/max-Rb X射線衍

6、射儀實(shí)驗(yàn)?zāi)康模?、了解D/max-Rb X射線衍射儀的構(gòu)造和工作原理2、掌握實(shí)驗(yàn)樣品的制備和衍射儀實(shí)驗(yàn)參數(shù)的選擇方法3、熟悉X射線衍射儀的操作4、掌握金屬、非金屬材料的X射線物相定性分析方法和步驟操作方法：一、開機(jī)1、開墻上電源開關(guān)2、開循環(huán)水3、點(diǎn)擊Light on按鈕，打開設(shè)備內(nèi)燈4、按擊Power on按鈕，打開XRD電源，等待設(shè)備顯示是0kV，0mA5、順時(shí)針旋轉(zhuǎn)HT（高壓）鑰匙，自動(dòng)加載到30kV，10mA6、開電腦，電腦用戶名user-1，密碼galaxy7、打開軟件Data Collector，點(diǎn)擊InstrumentConnect8、MeasureProgrammeturn o

7、nOK，自動(dòng)加載到40kV，40mA，準(zhǔn)備完成待測(cè)試二、關(guān)機(jī)1、measureprogrammeturn offOK（電壓15kV，電流5mA）2、instrumentdisconnect3、關(guān)程序data collector，關(guān)電腦4、逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)HT（高壓）鑰匙5、按擊stand by按鈕，關(guān)閉電源6、點(diǎn)擊light off按鈕，關(guān)閉設(shè)備內(nèi)燈7、關(guān)循環(huán)水8、關(guān)墻上主電源開關(guān)原理：x射線的波長和晶體內(nèi)部原子面之間的間距相近，晶體可以作為X射線的空間衍射光柵，即一束X射線照射到物體上時(shí)，受到物體中原子的散射，每個(gè)原子都產(chǎn)生散射波，這些波互相干涉，結(jié)果就產(chǎn)生衍射。衍射波疊加的結(jié)果使射線的強(qiáng)度在某些

8、方向上加強(qiáng)，在其他方向上減弱。分析衍射結(jié)果，便可獲得晶體結(jié)構(gòu)。對(duì)于晶體材料，當(dāng)待測(cè)晶體與入射束呈不同角度時(shí)，那些滿足布拉格衍射的晶面就會(huì)被檢測(cè)出來，體現(xiàn)在XRD圖譜上就是具有不同的衍射強(qiáng)度的衍射峰。對(duì)于非晶體材料，由于其結(jié)構(gòu)不存在晶體結(jié)構(gòu)中原子排列的長程有序，只是在幾個(gè)原子范圍內(nèi)存在著短程有序，故非晶體材料的XRD圖譜為一些漫散射饅頭峰。X射線衍射儀是利用衍射原理，精確測(cè)定物質(zhì)的晶體結(jié)構(gòu)，織構(gòu)及應(yīng)力，精確的進(jìn)行物相分析，定性分析，定量分析。廣泛應(yīng)用于冶金，石油，化工，科研，航空航天，材料生產(chǎn)等領(lǐng)域。主要部件：1、高穩(wěn)定度X射線源：提供測(cè)量所需的X射線, 改變X射線管陽極靶材質(zhì)可改變X射線的波長

9、, 調(diào)節(jié)陽極電壓可控制X射線源的強(qiáng)度。2、樣品及樣品位置取向的調(diào)整機(jī)構(gòu)系統(tǒng)：樣品須是單晶、粉末、多晶或微晶的固體塊。3、射線檢測(cè)器：檢測(cè)衍射強(qiáng)度或同時(shí)檢測(cè)衍射方向, 通過儀器測(cè)量記錄系統(tǒng)或計(jì)算機(jī)處理系統(tǒng)可以得到多晶衍射圖譜數(shù)據(jù)。4、衍射圖的處理分析系統(tǒng)：現(xiàn)代X射線衍射儀都附帶安裝有專用衍射圖處理分析軟件的計(jì)算機(jī)系統(tǒng), 它們的特點(diǎn)是自動(dòng)化和智能化。樣品要求：1、金屬樣品如塊狀、板狀、圓拄狀要求磨成一個(gè)平面，面積不小于10X10毫米，如果面積太小可以用幾塊粘貼一起。2、對(duì)于片狀、圓拄狀樣品會(huì)存在嚴(yán)重的擇優(yōu)取向，衍射強(qiáng)度異常。因此要求測(cè)試時(shí)合 理選擇響應(yīng)的方向平面。3、對(duì)于測(cè)量金屬樣品的微觀應(yīng)力（晶

10、格畸變），測(cè)量殘余奧氏體，要求樣品不能簡單粗磨，要求制備成金相樣品，并進(jìn)行普通拋光或電解拋光，消除表面應(yīng)變層。4、粉末樣品要求磨成320目的粒度，約40微米。粒度粗大衍射強(qiáng)度低，峰形不好，分辨率低。要了解樣品的物理化學(xué)性質(zhì)，如是否易燃，易潮解，易腐蝕、有毒、易揮發(fā)。5、粉末樣品要求在3克左右，如果太少也需5毫克。6、樣品可以是金屬、非金屬、有機(jī)、無機(jī)材料粉末。主要用途：微量物相定性定量分析、點(diǎn)陣參數(shù)測(cè)定、晶粒尺寸與結(jié)晶狀態(tài)測(cè)定等。實(shí)驗(yàn)三 熱分析儀的工作原理及基本操作實(shí)驗(yàn)地點(diǎn)：材料樓520A實(shí)驗(yàn)儀器：TAG/SDTA 851e熱分析儀實(shí)驗(yàn)?zāi)康模?、學(xué)習(xí)熱差-熱重分析儀的結(jié)構(gòu)和工作原理2、了解熱分

11、析方法在材料科學(xué)中的應(yīng)用3、了解熱分析樣品的要求和樣品的制備方法4、熟悉熱分析儀的操作方法5、學(xué)習(xí)熱分析儀數(shù)據(jù)的處理和解析方法6、了解熱分析儀使用中的注意事項(xiàng)操作方法：1、打開儀器開關(guān)、恒溫水浴、保護(hù)氣瓶及計(jì)算機(jī)，待儀器校正平衡2、調(diào)整保護(hù)氣及反應(yīng)氣體輸出壓力分別為20和40ml/min，并待其穩(wěn)定。如做靜態(tài)空氣條件下的測(cè)試，需將氣體流量表中反應(yīng)氣的輸出壓力調(diào)為03、檢查并保證測(cè)試樣品及其分解物不揮發(fā)且不與測(cè)量坩堝、樣品支架、熱電偶發(fā)生反應(yīng)，以及測(cè)試用坩堝與儀器設(shè)置中所選用的坩堝類型相同4、進(jìn)入測(cè)試運(yùn)行程序，在計(jì)算機(jī)上進(jìn)行溫度控制編程，將坩堝輕置支架托盤上，待穩(wěn)定后清零，儀器開始測(cè)量基線，測(cè)試

12、完畢清零并取出坩堝放入樣品，天平穩(wěn)定后在程序中記錄樣品質(zhì)量，儀器開始測(cè)量樣品曲線5、測(cè)試完畢，打開程序評(píng)價(jià)窗口分析曲線并保存。待爐溫降至室溫打開爐體，更換樣品或取出樣品、關(guān)閉氣體、恒溫水浴及儀器開關(guān)，在程序窗口點(diǎn)exit推出后關(guān)閉計(jì)算機(jī)熱分析的主要優(yōu)點(diǎn)：1、可在寬廣的溫度范圍內(nèi)對(duì)樣品進(jìn)行研究；2、可使用各種溫度程序（不同的升降溫速率）；3、對(duì)樣品的物理狀態(tài)無特殊要求；4、所需樣品量可以很少（0.1mg-10mg）；5、儀器靈敏度高（質(zhì)量變化的精確度達(dá)10-5）；6、可與其他技術(shù)聯(lián)用；7、可獲取多種信息。實(shí)驗(yàn)的注意事項(xiàng)：1、坩堝的選擇根據(jù)樣品的成分、類別等確定其是否與坩堝反應(yīng)2、實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象的初步預(yù)

13、測(cè)判斷實(shí)驗(yàn)是否有相變、反應(yīng)的劇烈程度、是否有氣體放出、揮發(fā)等3、加熱速度選擇根據(jù)相變或是反應(yīng)的快慢選擇4、氣氛的選擇禁忌使用易揮發(fā)物質(zhì)應(yīng)用領(lǐng)域與測(cè)試范圍：廣泛應(yīng)用于塑料、橡膠、涂料、食品、醫(yī)藥、生物有機(jī)體、無機(jī)材料、金屬材料與復(fù)合材料等領(lǐng)域。測(cè)量與研究材料的如下特性： 第 18 頁 （共 17 頁）熔融與結(jié)晶過程玻璃化轉(zhuǎn)變相容性熱穩(wěn)定性結(jié)晶度比熱固化純度氧化穩(wěn)定性氧化誘導(dǎo)期 O.I.T.多晶形反應(yīng)熱特征溫度相轉(zhuǎn)變液晶轉(zhuǎn)變反應(yīng)動(dòng)力學(xué)材料鑒別實(shí)驗(yàn)四 電子背散射衍射技術(shù)的數(shù)據(jù)采集及分析實(shí)驗(yàn)地點(diǎn)：科學(xué)園B1棟SEM1實(shí)驗(yàn)儀器：Quanta 200F環(huán)境掃描電鏡實(shí)驗(yàn)?zāi)康模?、學(xué)習(xí)電子背散射衍射技術(shù)的原理

14、2、學(xué)習(xí)電子背散射衍射花樣的采集和標(biāo)定3、學(xué)習(xí)電子背散射衍射技術(shù)的數(shù)據(jù)處理和分析方法主要性能指標(biāo)：加速電壓：200V30kV二次電子像分辨率：高真空模式1.2nm（30kV），3.0nm（1kV）低真空模式1.5nm（30kV），3.0nm（1kV）環(huán)境真空模式（ESEM）1.5nm（30kV）背散射電子像分辨率2.5nm（30kV）放大倍率：12X1,000,000X主要附件：EDS與EBSD一體化分析系統(tǒng)EDS分析元素范圍：BUEDS能量分辨率：128eVEBSD花樣指標(biāo)化速率：150點(diǎn)（花樣）/秒工作原理：在掃描電子顯微鏡（SEM）中，入射于樣品上的電子束與樣品作用產(chǎn)生幾種不同效應(yīng)，其中

15、之一就是在每一個(gè)晶體或晶粒內(nèi)規(guī)則排列的晶格面上產(chǎn)生衍射。從所有原子面上產(chǎn)生的衍射組成“衍射花樣”，這可被看成是一張晶體中原子面間的角度關(guān)系圖。衍射花樣包含晶系（立方、六方等）對(duì)稱性的信息，而且，晶面和晶帶軸間的夾角與晶系種類和晶體的晶格參數(shù)相對(duì)應(yīng)，這些數(shù)據(jù)可用于EBSD相鑒定。對(duì)于已知相，則花樣的取向與晶體的取向直接對(duì)應(yīng)。EBSD系統(tǒng)中自動(dòng)花樣分析技術(shù)的發(fā)展，加上顯微鏡電子束和樣品臺(tái)的自動(dòng)控制使得試樣表面的線或面掃描能夠迅速自動(dòng)地完成，從采集到的數(shù)據(jù)可繪制取向成像圖OIM、極圖和反極圖，還可計(jì)算取向（差）分布函數(shù)，這樣在很短的時(shí)間內(nèi)就能獲得關(guān)于樣品的大量的晶體學(xué)信息，如：織構(gòu)和取向差分析；晶粒

16、尺寸及形狀分布分析；晶界、亞晶及孿晶界性質(zhì)分析；應(yīng)變和再結(jié)晶的分析；相簽定及相比計(jì)算等，EBSD對(duì)很多材料都有多方面的應(yīng)用也就是源于EBSP所包含的這些信息。特色及用途：該環(huán)境掃描電鏡采用肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍，具有束流密度高、束流穩(wěn)定和分辨率高的特點(diǎn)。該設(shè)備有高真空（<6×10-4Pa）、低真空（10130Pa）和環(huán)境真空（104000Pa）等3種工作模式，除了可用于導(dǎo)電樣品分析外，還適用于其他樣品（非導(dǎo)電、表面含水、污染樣品）的觀察和分析。附件EDS與EBSD一體化分析系統(tǒng)可用于微區(qū)成分的定性、定量分析及晶體取向和微觀織構(gòu)分析等。應(yīng)用領(lǐng)域：廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、納米技術(shù)、生物醫(yī)學(xué)

17、、物理、化學(xué)、地質(zhì)、機(jī)械加工、微電路質(zhì)量檢驗(yàn)、失效分析等領(lǐng)域。實(shí)驗(yàn)五 高溫潤濕實(shí)驗(yàn)地點(diǎn)：材料樓320實(shí)驗(yàn)儀器：VAF-30高溫接觸角測(cè)量儀實(shí)驗(yàn)?zāi)康模?、學(xué)習(xí)潤濕角測(cè)量儀的結(jié)構(gòu)和工作原理2、了解潤濕角測(cè)量在材料科學(xué)中的應(yīng)用3、了解潤濕角測(cè)量樣品的要求和樣品制備方法4、熟悉潤濕角測(cè)量儀的操作方法5、學(xué)習(xí)潤濕角測(cè)量數(shù)據(jù)的處理和解析方法6、了解潤濕角測(cè)量儀使用中的注意事項(xiàng)操作方法：1、打開計(jì)算機(jī)、開啟真空加熱爐，接通配置在爐體上的接觸角測(cè)量裝置的電源，將CCD USB連接線連接在計(jì)算機(jī)與接觸角測(cè)量裝置上的CCD攝像頭處。2、點(diǎn)擊jc2000-usb.exe 啟動(dòng)接觸角測(cè)量儀應(yīng)用程序。3、然后將液滴滴入

18、陶瓷片的表面，然后放入真空爐內(nèi)的測(cè)試平臺(tái)上，關(guān)閉爐門，調(diào)節(jié)接觸角測(cè)量儀移動(dòng)平臺(tái)及CCD攝像頭調(diào)焦系統(tǒng)，同時(shí)觀察顯示器直到圖像清晰。4、圖像保存，如果只采一幀圖，按凍結(jié)圖像，在文件菜單中中選“保存圖片”選項(xiàng)存儲(chǔ)圖像，會(huì)有提示選擇儲(chǔ)存的文件名和所在的文件夾。如果要連續(xù)采樣，使用“設(shè)置”中的選項(xiàng)來設(shè)定總幀數(shù)和間隔時(shí)間。5、圖像分析常用的測(cè)定接觸角的方法如下：(1)量角法按量角法按鈕，進(jìn)入量角法主界面，按開始鍵，打開文件夾，選中需要計(jì)算的圖形文件。開始：調(diào)用保存圖片；量角器：顯示測(cè)量尺角度，其精度：選擇0.05與0.25兩個(gè)精度之一；量取角度：顯示測(cè)量尺。接觸角：顯示接觸角角度。其中，W：測(cè)量尺向上，

19、S：測(cè)量尺向下，A：測(cè)量尺向右，D：測(cè)量尺向左，<：測(cè)量尺左旋，>：測(cè)量尺右旋量取角度顯示測(cè)量尺，顯示測(cè)量尺角度為45度，然后使測(cè)量尺與液滴邊緣相切。然后下移測(cè)量尺到液滴頂端，再將旋轉(zhuǎn)測(cè)量尺，使其與液滴左端相交，即得到接觸角的數(shù)值。另外，也可以使測(cè)量尺與液滴右端相交，求出接觸角，最后求兩者的平均值。注：當(dāng)測(cè)量尺與液滴右端相交時(shí)，用180°減去所見的數(shù)值方為正確的接觸角數(shù)據(jù)。(2)量高法量高法主界面即應(yīng)用程序主界面，按文件菜單，選擇打開圖片選項(xiàng)，選取圖象文件，然后用鼠標(biāo)左鍵點(diǎn)擊液滴的左、右兩端和液滴的頂端，如果點(diǎn)擊錯(cuò)誤，可以點(diǎn)擊鼠標(biāo)右鍵，取消選定。量角器角度為，接觸角為2&

20、#215;(90-)(3) 擬合分析法用于測(cè)量斜面上的接觸角。首先打開圖片，用鼠標(biāo)點(diǎn)擊平面處兩點(diǎn)畫出基準(zhǔn)線，即液滴與固體交界處，再根據(jù)測(cè)量前進(jìn)角或后退角，點(diǎn)擊液滴一側(cè)的底部，中部，和頂部（因?yàn)闉槭謩?dòng)點(diǎn)取，盡量靠近即可，軟件會(huì)自動(dòng)標(biāo)出）。即圖片液滴右側(cè)的紅十字。軟件自動(dòng)擬合圓，算出接觸角。圖中的藍(lán)點(diǎn)和綠點(diǎn)為軟件計(jì)算出的頂部和底部。實(shí)驗(yàn)過程：在拍攝液滴的靜態(tài)圖像后，先后采用了量高法、擬合分析法和量角法三種測(cè)量方法。首先是量高法：在凍結(jié)圖像后，分別在液滴影像的下平面兩側(cè)兩點(diǎn)處各點(diǎn)擊一次，再在液滴最高點(diǎn)處點(diǎn)擊一次，在這三點(diǎn)點(diǎn)擊后可以看到，接觸角的數(shù)據(jù)框中顯示出接觸角為61.15°。再使用擬合

21、分析法：點(diǎn)擊擬合分析法按鈕后，打開之前保存的靜態(tài)圖像文件，依次在液滴的輪廓邊緣點(diǎn)擊五次，系統(tǒng)將自動(dòng)擬合出一條沿著液滴輪廓的曲線，如果曲線擬合的不夠理想，可以重新繪制，當(dāng)曲線較為理想時(shí)，可以看到接觸角度數(shù)據(jù)框中的數(shù)據(jù)即為所需的數(shù)據(jù)，為62.72°。最后采用量角法：量角法的操作相對(duì)來說較為復(fù)雜，準(zhǔn)確性也相對(duì)較低。在點(diǎn)擊量角法按鈕后，通過W、A、S、D按鍵將標(biāo)尺的下部兩條線分別與液滴的兩側(cè)重合，再按S鍵將標(biāo)尺的中點(diǎn)與液滴上部重合，再分別旋轉(zhuǎn)標(biāo)尺，使其分別與液滴左右兩端重合，可得兩個(gè)接觸角值，再取平均值。圖中的接觸角度值為61.5°。實(shí)驗(yàn)六 透射電子選區(qū)電子衍射分析技術(shù)實(shí)驗(yàn)地點(diǎn)：科

22、學(xué)園B1棟TEM實(shí)驗(yàn)儀器：Tecnai G2 F30透射電鏡實(shí)驗(yàn)?zāi)康模?、學(xué)習(xí)透射電鏡選區(qū)電子衍射原理2、學(xué)習(xí)透射電鏡選區(qū)衍射的特點(diǎn)3、學(xué)習(xí)透射電鏡選區(qū)衍射花樣的分析和應(yīng)用儀器主要性能指標(biāo)：主機(jī)：點(diǎn)分辨率：0.205nm信息分辨率：0.14nm線分辨率：0.102nm加速電壓：300kV（最高）；50kV（最低）附件：CCD數(shù)字成像系統(tǒng)：像素：2048×2048高角環(huán)形暗場(chǎng)探測(cè)器（HAADF）：STEM模式分辨率：0.17nmX射線能譜儀（EDS）：能量分辨率：136eV；分析元素范圍：BU電子能量損失譜儀（EELS）：能量分辨率：0.7eV；分析元素范圍：HUTEM系統(tǒng)組成：電子槍