激光制備薄膜技術學習教案_第1頁
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文檔簡介

1、會計學1激光制備激光制備(zhbi)薄膜技術薄膜技術第一頁，共16頁。第1頁/共15頁第二頁，共16頁。第2頁/共15頁第三頁，共16頁。*如何制備的呢如何制備的呢四個典型的特征階段來加四個典型的特征階段來加以描述。以描述。第3頁/共15頁第四頁，共16頁。第4頁/共15頁第五頁，共16頁。第5頁/共15頁第六頁，共16頁。* *基片的表面狀態基片的表面狀態基片的表面狀態對附著力的基片的表面狀態對附著力的影響也很大。如果基片不經影響也很大。如果基片不經過清潔處理，將在其表面上過清潔處理，將在其表面上第6頁/共15頁第七頁，共16頁。第7頁/共15頁第八頁，共16頁。第8頁/共15頁第九頁，共1

2、6頁。第9頁/共15頁第十頁，共16頁。羽輝第10頁/共15頁第十一頁，共16頁。過渡(gud)層（氧化物）第11頁/共15頁第十二頁，共16頁。可能(knng)形成盲區第12頁/共15頁第十三頁，共16頁。第13頁/共15頁第十四頁，共16頁。基片的表面狀態基片的表面狀態妨礙妨礙沉積沉積(chnj)(chnj)消除消除基片材質基片材質 界面特性界面特性擇優擇優基片溫度基片溫度 沉積沉積(chnj)(chnj)速度速度合理合理入射角度入射角度 盲區盲區 消除消除第14頁/共15頁第十五頁，共16頁。NoImage內容(nirng)總結會計學。*如何制備的呢四個典型的特征階段來加以描述。關鍵點：在薄膜對基片的附著中，普遍存在著范德華力，但這種力較弱。要形成牢固的附著，需要在薄膜和基片間形成化學鍵。因此在制膜工藝中，為了提高附著性能，必須先對基片進行清潔和活化(huhu)處理。頻率太低時,間隔時間長雜質就會進入薄膜,

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