不銹鋼鈍化鹽霧試驗原則及操作規范及測試的措施

GBT2423

不銹鋼鈍化鹽霧試驗原則及操作規范及測試H勺措施GBT2423.17鹽霧試驗

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鹽霧試驗機酸性鹽霧;腐蝕;鹽霧美國原則

ASTM/G85—1998鹽霧試驗機酸性鹽霧;腐蝕;鹽霧美國原則

改性鹽霧試驗方法

本原則已被(美國)國防部口勺機構所采用。

1范圍

1.1本措施為特殊用途日勺五種改性鹽霧試驗提出了下述環境條件，以開發的時

間次序列出：

1.1.1附錄A1:持續醋酸鹽霧試驗。

1.1.2附錄A2:循環酸性鹽霧試驗。

1.1.3附錄A3:循環酸性海水試驗(SWAAT)。

1.1.4附錄A4:循環S02鹽霧試驗。

1.1.5附錄A5:稀電解液噴霧和干燥循環試驗。

1.2對詳細H勺產品，本措施并沒有規定所用H勺改性類型、試驗樣品或暴露周

期，也沒有規定對成果H勺解釋。

1.3本措施沒有波及所有日勺安全問題，如在使用中波及安全問題，使用本措施

口勺人員有責任在使用前采用合適的安全和保健措施，制定合適的限止范圍。2參

照資料

2.1ASTM原則:

B117鹽霧試驗措施

D609用于涂料、上光涂、改性漆和有關涂裝產品試驗的冷軋鋼試片叫制備措施

DH41人造海水規范

1)1193試劑級水H勺規范

1)1654試驗后涂層和涂裝試樣H勺評價措施

E70使用玻璃電極口勺水溶液pH值測定法

3意義和用途

3.1本措施合用于黑色金屬及有色金屬；也合用于有機和無機涂層。當需要采用

與B117措施的鹽霧試驗不一樣的或更多的腐蝕環境口勺時候，本措施所簡介日勺改性

措施是有用口勺。

4設備

4.1試驗箱：

4.1.1用于鹽霧試驗H勺設備包括一種噴霧箱，一種鹽液槽，合適時電源，可調

整日勺合適日勺壓縮空氣，一種或幾種霧化噴嘴，試樣支架，試驗箱加熱裝置。設備的

大小及詳細構造是可選擇日勺，但應能提供本措施所要求的環境。所用的材料應不影

響噴霧口勺腐蝕作用。能滿足這些環境的合適設備是ASTM/B117附錄A1所述口勺設

備，再按本措施各附錄H勺簡介進行必要的改善。

4.1.2設計H勺設備，應使凝聚在試驗箱頂上的液滴不落在試驗中的樣品上。不

能將從試樣上滴下H勺溶液回收到鹽液槽中重新用于噴霧。

4.1.3試驗箱應裝有一種或者多種時間控制器，用于周期性的噴霧和定期的輸

入壓縮空氣。

4.2壓縮空氣源：

4.2.1保證傳送到一種或兒種噴嘴去霧化鹽溶液的壓縮空氣無油和污物，并保

持壓力為69kPa,172kPa(10psi,25psi)。

注1:通過一種水洗塔或通過至少長610mm日勺如石棉、云母，羊毛纖維或活性氧

化鋁等合適口勺洗滌材料可以除去油和污物。

4.2.2飽和塔（水泡塔）的溫度，隨使用的試驗措施的不一樣而不一樣。4.3鹽

霧箱的條件：

4.3.1溫度一暴露區H勺溫度隨使用H勺試驗措施的不一樣而不一樣。不一樣的措

施推薦日勺暴露區溫度見附錄。記錄試驗箱關閉時的溫度，一天至少兩次，每次至少

相隔7小時（除周末和節假日之外，因此時鹽霧試驗沒有因為放置暴露試樣、重新

放試樣、取出試樣或者檢查，和補充儲液槽溶液而中斷）。

注2:記錄溫度合適的措施是使用持續記錄溫度WJ設備或從設備外面能讀出日勺溫

度表。在關閉試驗箱時汜錄溫度，可以防止由于開箱時濕球影響引起的不可靠的低

H勺讀數。

4.3.2,噴霧和鹽霧量一在暴露區內至少放置兩個潔凈日勺鹽霧搜集器，并使其不

搜集從試驗樣品上落下H勺溶液，或者任何別H勺水源。把搜集器放在靠近試驗樣

品日勺位置，一種放在靠近噴嘴日勺地方，另一種放在遠離噴嘴的地方。保證在最，每

小時每個搜集器搜集日勺溶液在1.0,2.0mL之少16小時持續噴霧時，在搜集器的水

平面積80cm2上間。

注3:合適的搜集器可用導管完全插入到有刻度N勺量筒里，且用塞子塞好H勺玻璃

漏斗，或者定型H勺圓形容器。漏斗或圓形容器的直徑為100nlm,面積約280cm.

4.3.3,控制或阻隔噴嘴或幾種噴嘴，使鹽霧不直接噴到試驗樣品上。5試驗樣

品

5.1根據受試材料或產品日勺規范，或者根據買賣雙方共同的協議，規定使用的

試驗樣品口勺型號和數量，及評估試樣成果的準則。

5.2準備試驗樣品:

5.2.1清洗金屬日勺和有金屬覆蓋層日勺樣品，清洗措施應根據樣品表面和沾染物

的性質來選擇，但清洗時不能使用除純氧化鎂軟膏外的研磨劑，也不能使用會產生

腐蝕或保護膜H勺溶劑。使用硝酸溶液對不銹鋼試樣進行清洗或鈍化時，須經買賣雙

方同意方可進行。應注意清洗后的試樣不要由于多出的操作或粗心大意，而使表面

重新污染。

5.2.2涂料及其他有機涂層試樣應根據試驗材料H勺合用規范來制備或按買賣雙

方同意H勺措施制備。否則，試樣用鋼應符合ASTM/D609的規定，并按照D609有

關程序來制備涂裝試樣。

5.2.3當規定測定涂料或右.機涂裝表面磨損部位腐蝕發展狀況時，在試驗前，

用一種鋒利口勺工具在試樣涂層上劃痕或刻線，暴露出底金屬。劃痕的條件除買賣雙

方另有協議外，應符合ASTM/D1654的規定。

5.2.4除非另有規定，電鍍、涂裝或雙層材料的切削邊緣，以及帶有識別標識

或與支架接觸H勺表面均應用在試驗條件下保持穩定的合適的涂料，如精制地蠟，加

以保護。

注4:最佳是從部件上或從已電鍍MJ、涂漆MJ或用其他措施涂裝日勺薄鋼板上切割

試樣;切口邊緣要用油漆、石蠟、膠帶或其他有效介質加以保護，這樣可制止切口

邊緣和鄰近H勺鍍層或涂裝H勺金屬表面之間的腐蝕和電池效應的發展。

6鹽溶液

6.1除非附錄中另有規定，可按ASTM/D1141規定日勺人造海水或按ASTM/B117規

定H勺氯化鈉來制備鹽溶液。配制用水應使用符合ASTM/D1193?型的蒸儲水或去離子

水，（除非本措施中對氯化鈉的限量可不考慮）。

6.2人造海水：

6.2.1配制口勺鹽溶液，應是每升溶液中含42g符合ASTM/D1141規定口勺人造海鹽

（見注5）。

6.3氯化鈉溶液：

6.3.1鹽溶液口勺配制：以重量計，將5?1份小J氯化鈉溶解在95份的蒸儲水中或

所含固體顆粒總量不超過百萬分之200的水中（見注5）o所用的氯化鈉應基本上不

含銀和銅，以干重為基準，所含碘化鈉不超過0.盛，雜質總量不超過0.3機有些

鹽具有起腐蝕克制作用H勺添加物，對鹽的化學成分要尤其小心，根據買賣雙方的協

議，對前面義中沒有規定日勺化學成分和混合物亦可進行分析并規定限量。

注5:溶液的比重在25?時為1.0255至1.0400即符合6.2.1和6.3.1對濃度的

規定。提議每天檢測配制H勺溶液。

6.4鹽溶液日勺pH值根據使用MJ試驗措施而不一樣。溶液在霧化前不得有固體懸

浮物（見注6）。按ASTM/E70口勺措施使用pH值測定儀和帶有飽和氯化鉀電橋的玻璃

電極，在25?時測量。

注6:剛制備的鹽溶液在注入儲液槽前可以過濾或沉析，或者在溶液流向噴霧器

導管H勺尾部時用雙層干酪包布或者合適H勺非金屬濾布過濾，以免堵塞噴嘴。

7環節

7.1試驗時試樣日勺位置：

7.1.1除非另有規定，試樣應支撐或懸掛在與垂直方向成6?,45?的位置上，最

佳是使受試H勺重要表面與鹽霧在試驗箱中重要水平流動方向平行。注意，隨

著試樣與垂直方向的角度增大試驗強度提高。

7.1.2試樣之間不應互相接觸，也不應接觸任何金屬材料或任何能起吸附作用

H勺材料。

7.1.3每個試樣日勺位置應能使鹽霧自由地落到所有的試樣上。提議試樣間至少

相隔30mmo

7.1.4一種試樣上口勺鹽溶液不應滴在任何其他試樣上。

7.1.5提議同樣日勺試樣隨機放置，防止由于噴霧方式的不一樣引起偏差。同樣

的理由，各個試樣也可以每天輪換位汽。

7.1.6用于制作支架和支撐的合適材料或涂裝材料是玻璃、橡膠、塑料或合適

H勺有涂層H勺木材，不得使用裸露金屬。最佳從試樣的底部或側面支撐。平板試片最

佳用開槽H勺木材、復合塑料，或者惰性塑料條來支撐。只要能使樣品保持在規定的

位置上，可使用玻璃勾或涂蠟的繩子懸拄，必要時，在樣品底部再作輔助支撐。

7.2試驗H勺持續性：

7.2.1除試驗材料或試件H勺技術規定另有規定者外，在整個試驗過程中，試驗

應是持續進行日勺。持續試驗日勺含義是:除平常必要的檢查，重新安排放試樣，取走

試驗樣品，檢查樣品，補充液槽中的溶液短時間中斷試驗外，試驗箱是關閉的。試

驗操作過程必須安排好，使這些中斷控制在最低程度。7.3試驗時間：

7.3.1試驗時間應根據試驗材料或產品的技術規定確定或買賣雙方約定。提議

暴露時間為24小時的倍數。

7.4清洗試驗樣品：

7.4.1除試驗材料或產品日勺技術規定另有規定外，在試驗結束時，應慢慢地洗

滌樣品或者將樣品浸泡在溫度不超過38?潔凈的自來水中，以便洗去沉積在它們表

面H勺鹽份，然后立即干燥，可用潔凈的壓縮空氣流進行干燥。注7:對防腐層剝離

試驗的鋁試樣不合適使用壓縮空氣干燥。8評估成果

8.1根據試驗材料或產品日勺技術規范規定日勺規定或買賣雙方約定的規定，立即

仔細地檢查干燥試樣H勺腐蝕程度或其他缺陷。

9匯報

9.1除試驗材料或產品的技術規范另有規定之外，匯報中應記錄下述信息：

9.1.1制備鹽溶液所用鹽和水的種類。

9.1.2試驗箱暴露區所有H勺溫度讀數。

9.1.3每周記錄通過每個噴霧搜集裝置所得數據，應包括下面的內容：搜集鹽

溶液口勺毫升量。9.1.3.1每80cm2每小時

9.1.3.2搜集H勺溶液在35?時的濃度或比重，（見注8）。9.1.3.3搜集溶液H勺

pH值。

9.1.4試樣H勺類型、尺寸和數量或試件狀況的描述。

9.1.5試驗前后洗滌樣品口勺措施。

9.1.6在鹽霧箱中試樣或試件支撐或懸掛H勺措施。

9.1.75.2.4節里規定使用日勺保護方式闡明。

9.1.8暴露時間。

9.1.9試驗中斷口勺原因和時間。

9.1.10所有的檢測戌果。

注8:也可匯報沒有接觸試樣和返回儲液槽的霧化鹽溶液的濃度或比重。19關

鍵詞

酸性鹽霧;腐蝕;鹽霧

附錄

鹽霧試驗機酸性鹽霧;腐蝕;鹽霧美國原則（必須遵照的資料）A1醋酸酸性鹽

霧（霧化）試驗

Al.1鹽溶液：

AL1.1按6.3的規定配制氯化鈉溶液。

Al.1.2在此溶液中加入醋酸將溶液pH值調整到3.1,3.3,并按ASTM/E70規定

日勺措施測定。

注AL1:為使搜集口勺鹽霧口勺pH值能到達預期規定口勺程度范圍內，開始溶液pH

值調整到3.0,3.1,再在起始的pH口勺基礎上進行調整，使搜集的溶液樣本到達規

定日勺pH值。如為使到達規定的pH值,需加入冰醋酸少于0.1%或不小于0.3%,闡

明所用叫水或鹽口勺純度不能滿足規定。

A1.2飽和塔的條件：

A1.2.1飽和塔（水泡塔）的溫度應穩定在（47?1）?。

A1.3鹽霧箱的條件：

A1.3.1醋酸鹽霧箱暴露區溫度保持在35?。1.17.l+?lnone

注Al.2:本試驗尤其合用于分析、研究在鋼或鋅壓鑄件底面電鍍裝飾絡時變化

電鍍工藝參數H勺效果，以及評價產品質量。由于一般的試驗時間，最短的

也許僅16小時，一般在144至240小時或更長，提供了足夠MJ機會來觀察參

數輕微變化而產生口勺差異。

A2循環酸性鹽霧試驗

A2.1鹽溶液：

A2.1.1按6.3的規定配制氯化鈉溶液。

A2.1.2添加醋酸調整該溶液的pH值到2.8,3.0范圍內。

A2.2飽和塔的條件：

A2.2.1飽和塔（水泡塔）溫度穩定在（57?1）?。

A2.3鹽霧箱的條件：

A2.3.1溫度一鹽霧箱暴露區的溫度保持在49?o1.17.1_+

A2.3.2濕度一雖然所選用的濕度范圍不用測定，但大部分試驗時，使鹽霧箱底

部保持潮濕H勺環境（即在箱子底部保持約25.4mm深的水）。保證箱內不會變得干燥

而減少腐蝕速率。（不過，一型鋁合金和油漆涂層需要在輕微日勺腐蝕環境下試驗

時，提議試驗箱底部干燥。）

A2.3.3試驗箱一試驗箱應配置時間控制器，以便進行下述以6小時為一周期口勺

3于高濕環境。反復循環：/44小時噴霧;2小時吹干燥空氣;31小時處/

A2.3.4吹氣一在噴鹽霧后立即用空氣吹，這是本試驗獨有日勺特點。吹干樣品上

面的水滴和腐蝕產物，因此腐蝕產物是白色的，而不是潮濕時顯示的灰色。其操作

是:用電鈕使空氣在120分鐘內不通過飽和塔和虹吸噴嘴，而是以一定的角度直接

進入試驗箱，將鹽霧從試驗箱頂蓋處吹出。這樣依托室內的氣候環境使箱內濕度在

40覽70%之間。吹氣后，樣品仍放置在關閉H勺試驗箱內，直到下一種噴霧循環為

止。由于大部分試驗規定試驗箱底部潮濕，在試樣放置期間濕度逐漸

從65%升到95%。

A2.3.5霧化和噴霧量一在周期性噴霧試驗中，在持續噴霧時搜集鹽霧。通過玻

璃儲液槽里溶液口勺水位，檢查溶液合適rJ消耗量。

鹽霧試驗機酸性鹽霧;腐蝕;鹽霧美國原則A3酸性人造海水(鹽霧)試驗A3.1

鹽溶液：

A3.1.1按6.2規定配制人造海水鹽溶液，每升溶液里添加10mL冰醋酸。

A3.1.2調整鹽溶液pH值在2.8,3.0之間。

A3.2飽和塔的條件一試驗箱內溫度35?時，飽和塔溫度穩定在(47?1)?;試驗箱

內溫度49?時，飽和塔溫度為(57?1)?。

A3.3鹽霧箱的條件：

A3.3.1溫度一鹽霧箱暴露區的溫度是可變化的，以滿足試驗材料H勺規定。可按

試驗材料或產品H勺規范規定H勺溫度，或根據買賣雙方約定的溫度。注解A3.1推薦

了某些材料在暴露區日勺溫度。

注A3.1:本試驗尤其合用于，5000和7000系列鋁合金耐剝離腐蝕的熱處理的)

生產控制，同樣合用于為處理腐蝕性能變化熱處理參數的試驗研究。用于此目的的

試驗，提議暴露區溫度為49?。對于多種金屬底材的有機涂覆層試驗，暴露區溫度

在24?,35?,由于溫度超過35?后一般會導致油漆起泡。

A3.3.2濕度一盡管沒有規定最適于試驗時濕度范圍，試驗室間比對試驗成果顯

示，有必要在試驗箱底部潮濕的條件下試驗（即在試驗箱底部一直保持25.4mm深的

水）。保證試驗箱里面不會變得干燥而減少腐蝕速率。

A3.3.3試驗箱一試驗箱應配置時間控制器，以便進行下述循環:30分鐘噴霧，

接著90分鐘濕度高于98股勺環境。

鹽霧試驗機酸性鹽霧;腐蝕;鹽霧美國原則

A4鹽/S02噴霧（霧化）試驗

A4.1本試驗采用噴鹽霧與往箱子里定期地輸入SO2氣體日勺措施。

A4.2鹽溶液:

A4.2.1使用試驗材料或者試驗產品規范規定的或買賣雙方口勺協議規定口勺鹽溶

液。A4.2.2假如規定使用人造海水，按6.2的規定配制。

A4.2.3假如規定使用氯化鈉溶液，按6.3的規定配制。

A4.3飽和塔條件：

A4.3.1飽和塔的溫度保持在（47?1）?。

A4.4鹽霧箱條件：

A4.4.1溫度一鹽霧箱暴露區溫度保持在35?1.17.l+?lnoneA4.4.2SO一進行

S02試驗的試驗箱的設施與材料規定如下：2

A4.4.2.1S02氣體鋼瓶。

A4.4.2.2流量表，可以測量試驗箱內S02氣體流量35cni3,試驗箱應由耐S02

氣體H勺材料制成。/min.m3

A4.4.2.3時間控制器。

A4.4.2.4用耐■S02氣體材料制造的S02輸送管道和接頭。S02流程圖見圖

A4.1<,

注A4.1:進入試驗箱內H勺S02氣體最佳能均勻分散。假如試驗箱配置一種中

央分散塔，在塔日勺頂端日勺有機玻璃(PMMA)隔板上打孔，這樣氣體通過八個均勻

分布叫氣孔輸出。毫無疑問也可用其他措施均勻分散氣體。無論怎樣應防止氣體從

試驗箱側邊的1或2個管路進入箱子。

A4.4.3調整溶液pH值到2.5,3.2。

A4.4.4循環一按試驗材料或者試驗產品的規范規定或者買賣雙方H勺協議確定循

環條件。某些可用的循環舉例如下：

A4.4.4.1持續噴鹽霧同步通S02氣體，采用每天噴4次，每次1小時(每隔6

小時噴一次)。11A4.4.4.2/霧，/02,2小時在箱內放2小時噴鹽2小時通S

鹽霧試驗機美國原貝JA5稀電解液噴霧/干燥循環試驗

A5.1本試驗采用1小時干燥和1小時噴霧的措施。電解液是氯化鈉和硫酸鉉溶

液，比一般H勺鹽霧濃度低的多。噴霧在室溫下進行，而干燥在較高溫度下進行。此

外，噴霧霧化日勺空氣水含量不飽和。

注A5.1:本試驗尤其合用于鋼制品上H勺涂層。

A5.2鹽溶液:

A5.2.1用0.05螃勺氯化鈉和0.35%塊狀硫酸鍍制備電解液。水和氯化鈉必須符

合第6章規定口勺純度。硫酸鏤雜質總量不超過0.3缸

A5.3鹽霧箱的條件：

A5.3.1濕潤/干燥循環一1小時噴霧接著1小時干燥構成一種循環周期。注

A5.2一經驗表明循環時間越長剝蝕速度越慢。

A5.3.2噴霧溫度一在噴霧過程中試驗箱不加熱。鹽霧暴露在室溫和室內環境下

進行。

A5.3:室內環境條件應當是無異常污染的室內大氣環境，而不是由試驗箱誘發

FI勺環境。這種條件應控制溫度在(24?3)?和相對濕度低于75%。不一樣的室溫條件

產生不一樣H勺成果。

A5.3.3搜集的溶液pH值應調整在5.0,5.4之間(見4.3.2和6.4)。3A5.3.4

干燥溫度一暴露區溫度從噴霧周期轉換到干燥周期的/4小時內，應到達并保持

(35?1.5)?o3A5.3.4.1用新鮮的空氣吹入試驗箱進行干燥。這樣,在/4小時

內，樣品上H勺所有看得見的水分被

吹干。

A5.4試驗箱的改善一為了到達在附錄中規定的溫度變化，ASTM/B117所規定的

試驗設備應改善或者增長配件，所用H勺設備應包括：

A5.4.1暴露箱。

A5.4.2溫度控制器。

A5.4.3空氣流動裝置。

A5.4.4隔離層。

A5.4.5測量試驗箱內加熱空氣或管中的水的溫度的裝置。

A5.4.6與試驗箱生產商約定的設備附加裝置或提議的設備。A5.5飽和塔一這

個試驗不使用濕潤空氣，使用下列措施中的一種來防止濕潤空氣

A5.5.1排空飽和塔并確認飽和塔加熱裝住是關閉日勺。

A5.5.2調整噴霧管道使霧化空氣不通過飽和塔，而直接通過噴嘴。注A5.4:

從濕潤到干燥H勺循環使樣品經歷了一種溶液濃度變化的過程，從噴