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文檔簡介
鋁合金材料如何制備成如下零件用材料:
1)耐蝕零件,如高壓鍋、鋁合金門窗等;
2)耐磨零件,如發動機活塞,紡織機械零件等;
3)自潤滑零件,食品、縫制機械行業的摩擦零件。鋁合金復合硬質陽極氧化
及其機理
目錄緒論實驗材料及研究方法硬質陽極氧化研究熱處理對陽極氧化膜層的影響研究鋁合金復合硬質陽極氧化研究結論一、緒論研究背景鋁合金:導熱性好、容易加工、低噪音,是制備機械摩擦零件的重要材料之一;但硬度低,需要表面處理;表面陽極氧化技術:在鋁合金表面制備耐磨的Al2O3氧化膜提高耐磨性能;傳統氧化技術存在的問題:工業直流氧化的膜的硬度在320-380HV范圍,耐磨性差,需要研究新的制備技術。圖1.1鋁合金表面陽極氧化制備的耐磨零件一、緒論陽極氧化成膜過程及膜層結構鋁合金作為陽極,Al、Pb或其它金屬作為陰極,通電后生如下反映:陽極:
2Al+3H2O→Al2O3+6H++6e
(成膜過程)
Al2O3+6H+→2Al3++3H2O
(膜溶解過程)陰極:6H2O+6e→3H2↑+6OH-氧化膜層結構為靠近鋁基體的阻擋層和多孔層組成,成分主要為非晶態的Al2O3。圖1.2鋁多孔型陽極氧化膜的單元胞結構模型陽極氧化普通陽極氧化硬質陽極氧化復合陽極氧化膜層薄、硬度低民用鋁材防護與裝飾硬度>300HV硬質耐磨功能膜復合硬質及潤滑顆粒增強功能膜層耐磨性能一、緒論
研究目的和意義
1)研究鋁合金表面陽極氧化制備新技術及其相關機理;
2)提高氧化膜表面硬度、耐磨性和自潤滑性,為無油潤滑應用奠定研究基礎。
研究內容優化混合酸氧化溶液;研究直流、直流疊加脈沖、正負脈沖和單脈沖四種電源在硬質陽極氧化中的應用技術;對氧化后樣品進行熱處理,分析熱處理后氧化膜層硬度、韌性、耐磨性能的變化情況;研究分別在氧化槽液中添加納米SiC和PTFE難溶顆粒制備復合氧化膜的技術。
一、緒論二、實驗材料及研究方法
實驗中的合金材料與其它藥品材料,如表2.1與2.2所示銅錳鎂鐵鎳鈦鋅鉛錫鋁3.8~4.90.3~0.91.2~1.80.50.5~1.2≤0.1≤0.1余量表2.12024鋁合金的成分表2.2實驗藥品與材料硫酸(化學純)磷酸(化學純)草酸(化學純)去離子水(化學純)氨基磺酸(化學純)十二烷基苯磺酸鈉(化學純)硫酸鋁(化學純)烷基酚聚氧乙烯醚(化學純)氫氧化鈉(化學純)SiC納米顆粒硝酸(化學純)PTFE濃縮分散液實驗設備檢測設備氧化槽:自制PVC陽極氧化槽冷卻裝置:新飛128冰柜電源:H2—P2脈沖/直流電源攪拌裝置:電動攪拌器數顯顯微維氏硬度計光學顯微鏡,場發射掃描電鏡X射線衍射儀摩擦磨損試驗機
二、實驗材料及研究方法
+_CoolingInstallationPowersupplyAluminumallyleadingdasherelectrolytePVCgroove圖2.1實驗裝置示意圖二、實驗材料及研究方法
表2.3陽極氧化溶液配方組成成分含量硫酸220~250g/L草酸15~20g/L氨基磺酸3~5g/L鋁離子3~5g/L氧化槽液配制二、實驗材料及研究方法
陽極氧化實驗工藝過程制作鋁合金試樣脫脂堿蝕除灰硬質陽極氧化裝掛具化學拋光檢測硬度厚度形貌二、實驗材料及研究方法
陽極氧化工藝流程三、硬質陽極氧化研究
硬質陽極氧化技術路線2024鋁合金試樣硬質陽極氧化不同工藝參數設定氧化后試樣金相、SEM分析微觀結構、膜層厚度、硬度分析工藝參數得出結論硬度分析機械預處理化學預處理A.線切割鋁合金試樣45mm×40mm×8mm
B.砂紙打磨,機械拋光A.15%的硫酸溶液室溫處理3~5分鐘(脫脂處理)
B.5%的氫氧化鈉溶液,50~70℃處理4分鐘(堿蝕處理)
C.25%硝酸溶液,室溫處理4分鐘(除灰處理)D.磷酸、硫酸、草酸溶液,110~120℃處理3~5分鐘(化學拋光處理)三、硬質陽極氧化研究
優化前預處理圖3.1150g/L和250g/L硫酸濃度電解液槽電壓的變化曲線圖
圖3.2硫酸濃度與導電率關系電解液的影響因素三、硬質陽極氧化研究
Time/SJ/A/dm2Time/SJ/A/dm2T1T2J/A/dmT1T2Time/STime/SJ/a/dm2T1T2直流單脈沖正負脈沖直流疊加脈沖圖3.3電源波形示意圖三、硬質陽極氧化研究
直流電源氧化中電流密度與溫度對膜層厚度和硬度的影響圖3.4電流密度影響(40min、0℃)
圖3.5氧化溫度影響(2A/dm2、40min)
三、硬質陽極氧化研究
直流電源的應用圖3.6不同占空比對膜層硬度和厚度度影響(J1=3J2=3A/dm2
,周期120ms,氧化溫度為5℃)圖3.7溫度對膜層硬度和厚度影響(J1=3J2=3A/dm2
,T1=3T2=90ms、40min)占空比影響溫度影響420HV426HV直流疊加脈沖電流的應用單脈沖電源正負脈沖電源403HV432HV400HV圖3.6不同溫度比對膜層硬度和厚度度影響(單脈沖)圖3.7不同溫度對膜層硬度和厚度度影響(雙脈沖)單脈沖和正負脈沖的應用b結構單元微孔微孔的直徑小于20nm左右,氧化膜的厚度大于40μm,微孔的長度是直徑的2000倍,直通孔低的阻擋層。
圖3.8氧化膜層表面微觀結構(直流)氧化膜微觀結構與形貌直流直流疊加脈沖單脈沖正負脈沖長細直管長細直管圖3.9不同電源波型氧化膜層截面SEM照片四、熱處理對陽極氧化膜層的影響研究
熱處理方案直流條件制得硬度約400HV樣品在電阻爐內進行加熱處理和隨爐冷卻處理溫度選擇100~400℃
保溫時間1小時微觀形貌對比分析物相分析顯微硬度測試分析宏觀形貌對比分析摩擦性能測試分析
熱處理后檢測熱處理條件和研究方法熱處理溫度與氧化膜層硬度的關系
圖4.1熱處理溫度與膜層硬度變化曲線(通氫氣保護)圖4.2熱處理溫度與膜層硬度變化曲線(無氫氣保護)486HV452HV
熱處理溫度對外觀形貌的影響1#2#3#4#5#6#7#圖4.2不同處理溫度時樣品宏觀形貌(處理溫度分別為:1#100℃、2#150℃、3#200℃、4#250℃、5#300℃、6#350℃、7#400℃)突起
熱處理溫度對外觀形貌的影響AnodingfilmSubstrateAnodingfilmSubstrateaAnodingfilmSubstrateAnodingfilmSubstrate20μm20μm20μm20μm圖4.3熱處理后樣品橫截面的金相照片(a-100℃;b-200℃;c-300℃;d-400℃)
dcbCrack100μmCrack
熱處理溫度對外觀形貌的影響圖4.4熱處理后樣品表面微觀照片(A:200℃熱處理、B:300℃熱處理)AB
熱處理后氧化膜層韌性分析FilmaSubstrateSubstrate20μmFilm20μm100N25N50N100NCrackb圖4.5熱處理樣品韌性分析照片(硬度壓痕分析)(a-200℃;b-300℃)熱處理對氧化膜層摩擦性能的影響
圖4.7不同熱處理溫度時樣品的磨損量圖4.6不同處理溫度的摩擦系數曲線熱處理后樣品XRD物相分析
圖4.8熱處理溫度為100℃(A)和300℃(B)時氧化膜層XRD圖譜(A)(B)熱處理后樣品SEM微觀形貌分析
b圖4.9熱處理樣品氧化膜層表面SEM掃描照片(a-未經熱處理;b-100℃;c-200℃;d-300℃)acdadcb熱處理后樣品SEM微觀形貌分析a圖4.10熱處理樣品氧化膜層截面SEM掃描照片(a-未經熱處理;b-100℃;c-200℃;d-300℃)dcb五、鋁合金復合硬質陽極氧化研究
電化學方法電泳電沉積電解電滲起主要沉積作用對沉積起負作用其它方法顆粒直接進入多孔層
顆粒在膜中的機械夾雜
顆粒在膜層表面的吸附
復合陽極氧化的基本原理
添加納米SiC顆粒的復合硬質陽極氧化
ba圖5.1添加納米SiC顆粒氧化膜表面掃描電鏡照片(a-8g/L;b-15g/L)SEM微觀形貌分析添加納米SiC顆粒的復合硬質陽極氧化Intensity/CountsEnergy/KeVIntensity/CountsEnergy/KeVIntensity/CountsEnergy/KeV(未復合SiC氧化)(復合SiC8g/L氧化)(復合SiC15g/L氧化)復合條件Si含量/wt%C含量/wt%未復合SiC0.2637.287復合nano-SiC8g/L氧化1.04712.190復合nano-SiC15g/L氧化1.36813.866圖5.2EDS能譜分析圖(復合nano-SiC)添加納米SiC顆粒的復合硬質陽極氧化圖5.3添加15g/Lnano-SiC顆粒復合陽極氧化氧化膜XRD射線圖添加納米SiC顆粒的復合硬質陽極氧化圖5.5nano-SiC不同添加量氧化膜層厚度變化圖5.4nano-SiC不同添加量氧化膜層硬度變化440HV46μm氧化膜層硬度和厚度的變化添加納米SiC顆粒的復合硬質陽極氧化圖5.6nano-SiC添加量對氧化膜耐磨性能的影響8mg
氧化膜層耐磨性能變化添加PTFE復合硬質陽極氧化
復合條件F含量/wt%復合PTFE5ml/L0.34復合PTFE15ml/L1.08復合PTFE25ml/L1.89(復合PTFE5ml/L)(復合PTFE25ml/L)(復合PTFE15ml/L)圖5.7EDS能譜分析(復合PTFE)氧化膜SEM能譜分析添加PTFE復合硬質陽極氧化圖5.8PTFE不同添加量膜層硬度(A)和厚度(B)變化(A)(B)氧化膜層厚度和硬度的變化添加PTFE復合硬質陽極氧化圖5.9PTFE不同添加量時膜層的磨損量變化7mg氧化膜層耐磨性能變化摩擦系數的變化圖5.10氧化膜層不同處理條件摩擦系數SlidingdirectionCollectiveparticles(b)Fig.5.11Wearlossesoftheoxidefilmswiththe5g/LAl2O3and17ml/LPTFEparticlesandwithoutaddinganyparticles(a)andSEMimageoftheworesurfaceofthecompositeoxidefilmwiththe5g/LAl2O3and17ml/LPTFEparticles(b)Alalloy(+)(anode)
porouslayer---
Al3+-O2-electrolyteParticlesbarrierlayerfilmFig.6.1Growthbehaviorandconstructionofthecompositeoxidationfilm六、鋁合金復合硬質陽極氧化機理分析
Thefilmiscomposedofbarrierlayerandporouslayer.Duringoxidationprocess,firstly,barrierlayerwith0.01~0.1μmthicknesswasformedontheinterfacebetweenoxidationfilmandelectrolyte,thenporouslayergrewonthebarrierlayer.ThefilmwasformedbyO2-(orOH-)migratingtotheinterfacebetweenAlalloysubstrateandoxidationfilm,andbyAl3+migratingtotheinterfacebetweenoxidationfilmandelectrolyte4)Themechanismofformingcompositeanodeoxidefilmreinforcedbytwosuperfineparticlesisthattheuseofanionicsurfactants(C12H25C6H4NaO3S)hadmodifiedtheparticles’surface,hencethesurfaceofbetterdispersionofparticleswithnegativecharge,undertheactionoftheelectricfieldandmixing,theparticleswithnegativechargeinelectrolytecouldreachthesurfaceoffilm(anode)throughtheanodemovementintheprocessofanodicoxidation.(A)(B)ab5)Atthesametime,becausesuchasmechanicalthefilmhasexcellentadsorption,theAl2O3andPTFEparticlescouldbekeptinthefilmwithsomemethodsentrapment,adsorptionandcoactionsWethinkthattheformsoftheparticleskeptinfilmareasfollows:(1)SomeadsorbedparticlesareenwrappedinfilmasshowninFig.6.2and6.3.
(c)(b)Al2O3particles(a)(d)sFig.6.2Cross-sectionOMimage(a)andsurfaceSEMimages(b)oftheanodicoxidefilmswith5g/LAl2O3powders,surfaceSEMimages(c)andEDSpattern(d)oftheanodicfilmswith17ml/LPTFE.(a)film(b)
Fig.6.3Cross-sectionOMimage(a),surfaceSEMimage(b)andXRDpattern(c)oftheanodicoxidefilmwith5g/LAl2O3powdersand17ml/LPTFE.(2)Someparticlesaresurgedintolargesizeholes(inFig.6.4)ofthefilm.
Hole(a)Fig.6.4SEMimages(a)oftheanodicoxidefilmwith5g/LAl2O3powdersand17ml/LPTFEand(b)enlargedSEMimageofFig.8(a)(3)afewsmallsize(lessthan40nm)particlesaremigratedintothenano-sizeholesofthefilmasshowninFig.6.5
(c)七、結論配制比例為硫酸為220~250g/L、草酸為15~20g/L、氨基磺酸為3~5g/L、鋁離子為3~5g/L,應用此種配方溶液,直流電源的條件下,電流密度在2~4A/dm2
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