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域、量子信息處理和生物醫學領域等領域發展的重要力量。衍射光波導面臨的問題（一）制備技術不穩定衍射光波導的制備過程需要高度精密的控制和加工，涉及到多個步驟，例如光刻、電子束曝光、半導體外延生長等。制備技術不穩定會導致光波導器件質量不均勻以及可重復性差。（二）集成波導光損耗大在衍射光波導芯片中，集成波導光損耗是重要的性能指標之一，一般應該保持在幾分貝的范圍內。但是，實際制作中光損耗往往達到了甚至超過了10dB，這對于器件的應用造成了一定的限制。（三）通帶衰減較大通帶衰減是衡量光波導器件質量的重要參數之一，但是衍射光波導器件中通帶衰減往往較大，這意味著在信號傳輸過程中，信號會因為損耗而受到影響，影響整個系統的性能。（四）器件尺寸較大衍射光波導器件的制備過程需要高精度的光刻和電子束曝光等技術，這使得器件尺寸較大并且不容易縮小。因此，這些器件在集成光學芯片中的應用空間受到一定限制。衍射光波導面臨的策略（一）優化制備工藝優化制備工藝是解決衍射光波導存在問題的重要方向。例如，可以采用新型材料、新的制備方法和新的技術平臺，提高制備工藝的穩定性和可重復性。（二）改善材料質