一：真空檢漏概述1:實際真空系統(tǒng)達不到預定真空度的原因：①泵的有效抽速不夠；②存在放氣；③存在漏氣。2：靜態(tài)升壓法：把容器抽到一定的壓力后，關閉閥門，隔離真空室和真空泵，測量容器內的壓力變化。（由靜態(tài)升壓法可以確定上述哪種因素其主導作用）3：檢漏的冃的就是判斷有無漏孔，確定漏孔位置，測量漏孔漏率，以及堵漏。4：漏孔漏率：露點低于一25°C的空氣，入口壓力為標準大氣壓，出口壓力低于103Pa,溫度為23±3°C時，空氣通過漏孔的流量。5：最大允許漏率：真空裝置或系統(tǒng)正常工作允許的最大漏氣率。用仇表示。對于動態(tài)真空系統(tǒng)Q/p=0.1Xpwmaxxse,對于靜態(tài)真空系統(tǒng)0廠命X竺嚴XV。6：真空檢漏方法：①壓力檢漏法；②真空檢漏法；③背壓檢漏法。①壓力檢漏法一一將被檢漏的真空容器中充入一定壓力的示漏物質，如有漏孔存在，示漏物質將從漏孔中漏岀。②真空檢漏法一一將被檢漏真空容器和敏感元件，抽成真空狀態(tài)，然后將示漏物質依次施加在可疑部位，若有漏孔，示漏物質將進入容器內，被敏感元件所發(fā)現(xiàn)。③背壓檢漏法一—有三個步驟：充壓，凈化，檢漏。—:各種檢漏方法?靜態(tài)升壓法一一把容器抽到一定的壓力后，關閉閥門，隔離真空室和真空泵，測量容器內的壓力變化。一般常用的靜態(tài)升壓法有以下兩種：①輔助真空罩法一一可以排除放氣的干擾；②壓力平衡法一一可以測量那些不能安裝真空規(guī)管的被檢件的漏率。?氣泡檢漏法一一在被檢件中充入一定壓力的示漏氣體后放入水中，氣體將通過漏孔進入水中，形成氣泡，從而判斷漏孔的有無及其位置和大小。屬于壓力檢漏法。一般有以下兩種：①水槽法一一適用于小型器件；②皂膜法一一適用于尺寸較大的器件。3?氨氣檢漏法一一把被檢件抽真空，在其外壁可疑位置上貼上顯影帶，然后在其內部充入高于大氣壓的氨氣，當有漏孔時，氨氣會漏出并進入顯影帶，使其變色。具體步驟為：清潔處理一一貼顯影帶一一充氨一一排氨。4?真空計檢漏法一一相對真空計的讀數(shù)不但與壓力有關，還與氣體的種類有關，利用這一性質，可以進行真空檢漏。常用的有：①熱傳導真空計法一一選用熱傳導系數(shù)與空氣相差較大的氣體作為示漏氣體。②電離真空計法一一選用電離系數(shù)與空氣相差較大的氣體作為示漏氣體；③差動真空計法一一將兩個相同的真空計作為電橋的相鄰兩臂，其中一個真空計前安裝有冷阱，可以捕集示漏氣體，當有漏孔時，電橋將失去平衡，從而判斷有無漏孔，及其位置和漏孔漏率。5?離子泵檢漏法一一利用當示漏氣體進入離子泵時，將引起泵的電流發(fā)生變化的原理制成的。示漏氣體應選用與空氣的抽速相差較大的氣體，如He,Ne,的等。?氫一耙檢漏法一一利用耙在高溫時對氫的滲透率特別大而對其他氣體則很小的原理制成的。將耙管加熱到700°C-800°C,選用氫氣作為示漏氣體。在氫氣進入耙管時必須加一個冷阱，其作用是：①捕集碳氫化合物和水蒸氣,防止其分解產(chǎn)生氫氣；②裂化的碳氫化合物會在耙管上沉積一層碳化層，降低鋰管對氫氣的滲透能力。?熒光檢漏法一一熒光檢漏法是一種利用熒光材料的發(fā)光作為漏孔指示的無損檢漏法，多用于小型件的檢漏。?放射性同位素檢漏法——將少量的放射性材料放入被檢件中并密封好，如有漏孔便會有射線泄露出來，從而在外面用特殊的射線探測儀指示岀來。放射性同位素檢漏法在背壓檢漏法中應用的相當成功。9?慢性氣體的加速檢漏法一一將管子置于高壓的氮氣中，管內的壓力上升率會比在空氣中快得多，這便是慢性氣體的加速檢漏法的理論依據(jù)。三：真空檢漏儀器1?高頻火花檢漏儀一一實際上就是一個小功率，高頻，高壓的塔式線圈，在其次級線圈的尖端會形成高頻高壓電脈沖,在大氣中會不斷引發(fā)隨機，短促的脈沖放電，在尖端會有尖細，曲折的電火花，檢漏時就是利用其尖端的高頻放電火花來搜尋漏孔。有兩種類型一一電容電感串聯(lián)諧振式和振動子式。有兩種檢漏方法一一火花法和放電法。火花法只適用于玻璃系統(tǒng)或器件，，放電法適用于玻璃系統(tǒng)或金屬系統(tǒng)，但在檢漏金屬系統(tǒng)時需要借助于玻璃硅管或盲管。2?鹵素檢漏儀一一當鉗被加熱到800°C以上時，表面會有正離子發(fā)射，正離子電流的大小取決于加熱溫度和氣體種類,特別是當遇到鹵素氣體時，正離子電流急劇增加，鹵素檢漏儀就是基于這一原理制成的。按鹵素檢漏儀的工作條件,檢漏方法可分為真空法和加壓法。真空法一一采用固定式鹵素檢漏儀，檢漏管裝在被檢系統(tǒng)內，并被抽真空；加壓法一一釆用移動式鹵素檢漏儀，將示漏氣體壓入被檢系統(tǒng)內，使其壓力高于大氣壓。3?氣敏半導體檢漏儀一一某些半導體材料，在一定的溫度|<電阻隨環(huán)境氣氛的不同而變化，尤其對某些可燃性氣體特別敏感，這種半導體稱為氣敏半導體。利用這一特性，采用可燃性氣體作為示漏氣體，氣敏半導體作為敏感元件的儀器叫做氣敏半導體檢漏儀。檢漏時需進行加熱，使其處于最佳檢漏靈敏度溫度。氣敏半導體檢漏儀釆用壓力檢漏法。4?氨質譜檢漏儀：①原理一一采集被檢件中的氣體樣品并將其電離，由于不同種類的氣體具有不同的荷質比，利用磁偏轉原理可以將其區(qū)分開來，儀器只對其示漏氣體氨氣有響應信號，而對其他氣體沒有響應。冃前主要有單極磁偏轉型氮質譜檢漏儀和雙極磁偏轉型氨質譜檢漏儀。示漏氣體一般選擇氨氣的原因是：質量輕，易于通過漏孔；荷質比小，可以減小偏轉半徑；氨在空氣中的含量少，因此本底信號小；氨的化學性質不活潑，不會發(fā)生反應，使用安全。②整體結構一一氨質譜檢漏儀一般由質譜室，真空系統(tǒng)和電氣系統(tǒng)三部分組成，在必要時還可以配置輔助真空系統(tǒng)。質譜室是檢漏儀的心臟，由離子源，分析器和收集器三部分組成。真空系統(tǒng)是提供質譜室正常工作的條件。（注：將書上的圖記下來，P139圖11—11）電氣系統(tǒng)的核心是質譜室的供電和測量。輔助真空系統(tǒng),它具有預抽被檢件，保證檢漏儀真空度，進行氣體分流等功能。對于體積小，漏氣小的系統(tǒng)可以不選用輔助真空系統(tǒng)，對于體積大，漏氣大的系統(tǒng)需要選用輔助真空系統(tǒng)。③氨質譜檢漏儀的靈敏度：對于氨質譜檢漏儀有三種靈敏度一一漏率靈敏度，記作QLemin；分壓比靈敏度，記作Pmin；檢漏靈敏度，氨質譜檢漏儀在實際檢漏條件下所能達到的靈敏度，記作qLdniino當氨質譜檢漏儀安裝在真空系統(tǒng)的不同位置時，所能達到的檢漏靈敏度是不同的。氨質譜檢漏儀在檢漏中的兩大重要參數(shù)是一一反應時間耳和清除時間6。反應時間指的是輸出指示上升到最大值的0.632所需要的時間；清除時間指的是輸出指示下降到最大值的0.368所需要的時間。一般情況下巧二?二?④常用的檢漏方法：1?噴吹法，屬于一種真空檢漏法；2?氨罩法，其檢漏結果是被罩部位的總漏率，若要確定具體位置，還要釆用噴吹法來進一步檢漏；3?檢漏盒法，大多用于焊接件的焊縫的檢漏；4?充壓法，屬于一種壓力檢漏法；5?吸嘴法，該法多用于定性檢漏；6?背壓檢漏法，三個步驟，充壓，凈化，檢漏；7?累計檢漏法，適用于岀氣和漏氣都不大的被檢件；8?選擇性抽氣法，采用對氮，氧，二氧化碳等氣體的抽氣能力強而對氨抽氣能力弱的原理，可以提高檢漏的靈敏度；9.逆流氨檢漏法，來自被檢件的氨氣由前級真空側通入真空系統(tǒng)，然后逆其主泵氣流方向到達高真空側的質譜室。（&：由于該部分的檢漏方法較多較雜,請具體對照課本上的內容,仔細閱讀,熟練的掌握這九種檢漏方法。）四：標準漏孔1?標準漏孔的定義：專門為真空檢漏及校準工作而制造，能夠在一定