標準解讀

《GB/T 34177-2017 光刻用石英玻璃晶圓》這一國家標準主要針對用于半導體制造過程中的光刻工藝的石英玻璃晶圓制定了詳細的技術(shù)要求和測試方法。該標準適用于直徑為150mm、200mm及300mm的石英玻璃晶圓，旨在確保這些材料的質(zhì)量滿足半導體行業(yè)對高精度與高性能的需求。

根據(jù)文件內(nèi)容，對于光刻用石英玻璃晶圓的規(guī)定涵蓋了外觀質(zhì)量、尺寸公差、表面粗糙度等多個方面。例如，在外觀上要求晶圓無裂紋、氣泡等缺陷；尺寸方面，則明確了直徑偏差、厚度均勻性以及總厚度變化（TTV）的具體數(shù)值限制；此外，還規(guī)定了關(guān)于平面度、彎曲度等方面的嚴格指標。為了保證產(chǎn)品的光學性能，標準中也列出了折射率分布、透射比等參數(shù)的要求。


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....

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  • 現(xiàn)行
  • 正在執(zhí)行有效
  • 2017-09-07 頒布
  • 2018-08-01 實施
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文檔簡介

ICS8104030

Q35..

中華人民共和國國家標準

GB/T34177—2017

光刻用石英玻璃晶圓

Quartzglasswaferforlithography

2017-09-07發(fā)布2018-08-01實施

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布

中國國家標準化管理委員會

GB/T34177—2017

前言

本標準按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標準由中國建筑材料聯(lián)合會提出

。

本標準由全國工業(yè)玻璃和特種玻璃標準化技術(shù)委員會歸口

(SAC/TC447)。

本標準起草單位中國建材檢驗認證集團股份有限公司中建材衢州金格蘭石英有限公司長沙韶

:、、

光鉻版有限公司中國建筑材料科學研究總院國家安全玻璃及石英玻璃質(zhì)量監(jiān)督檢驗中心

、、。

本標準主要起草人吳潔王京俠王友軍李弋舟花寧劉煥敏肖頌華聶蘭艦張浩運楊曉會

:、、、、、、、、、、

楊學東孔敏張應語

、、。

Ⅰ

GB/T34177—2017

光刻用石英玻璃晶圓

1范圍

本標準規(guī)定了光刻用石英玻璃晶圓以下簡稱石英玻璃晶圓的術(shù)語和定義分類要求試驗方法

()、、、、

檢驗規(guī)則及標志包裝運輸和貯存

、、。

本標準適用于半導體集成電路光通訊微機電系統(tǒng)光電器件和發(fā)光二極管等光

、、(MEMS)、(LED)

刻工藝中用做襯底的石英玻璃晶圓

。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對于本文件的應用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

石英玻璃化學成分分析方法

GB/T3284—2015

透明石英玻璃氣泡氣線試驗方法

GB/T5949、

氮化鎵單晶襯底表面粗糙度的原子力顯微鏡檢驗法

GB/T32189

光學石英玻璃

JC/T185

石英玻璃制品內(nèi)應力檢驗方法

JC/T655

石英玻璃術(shù)語

JC/T2205

3術(shù)語和定義

界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件

JC/T2205。

31

.

總厚度變化totalthicknessvariationTTV

;

石英玻璃晶圓厚度的最大值和最小值間的差

。

32

.

平整度flatness

石英玻璃晶圓一個表面為理想平面時例如石英玻璃晶圓一個表面由真空吸盤吸附在一個理想

,,、

平坦的吸盤上其另一表面相對于規(guī)定的基準面的偏差以測量范圍內(nèi)總的示值讀數(shù)表示

,,(TIR)。

33

.

彎曲度bow

自由無夾持的石英玻璃晶圓中位面的中心點與中位面基準平面間的偏離

。

注中位面基準平面是由指定的圓周上的三個等距離點決定的平面該圓周的直徑小于石英玻璃晶圓標稱直徑

:,。

34

.

翹曲度warp

自由

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