化學藥物有關物質研究思路王磊磊雜質分類雜質：任何影響藥物純度的物質。按理化性質分類分類備注有機雜質（有關物質）工藝雜質合成中未反應完全的反應物及試劑、中間體、副產物。降解雜質、聚合物及異構體等。從反應物及試劑中混入的雜質無機雜質反應試劑、配位體、催化劑、重金屬、其它殘留的金屬、無機鹽、助濾劑、活性炭等。殘留溶劑原料藥及制劑生產過程中使用的有機溶劑、降解產生的溶劑雜質分類分類依據備注來源工藝雜質降解雜質、聚合物及異構體等。從反應物及試劑中混入的雜質毒性毒性雜質普通雜質有關物質研究思路-工藝雜質

工藝雜質指的是藥品在制備工藝過程中引入的雜質，它包括沒有反應完全的反應物、反應過程中所生成的中間體及副產物、反應過程中所使用的試劑及催化劑等。

此類雜質的結構較明確，可以通過合成工藝路線進行分析，確定可能引入的雜質，以及可能發生副反應產生的雜質等。注：對于原料藥中已控制的工藝雜質，且該工藝雜質在制劑生產和穩定性過程中不再增加，則在制劑中無需對該雜質進行控制。

有關物質研究思路-降解雜質

降解產物指的是藥品在生產和貯藏過程中發生化學變化而產生的雜質，如發生水解、氧化、開環等反應，降解產物主要與藥物的結構特征密切相關。此類雜質可以通過下面的途徑進行分析：根據藥物的結構特征，對可能產生的降解雜質進行分析。例如，結構中含有酯基的藥物容易發生水解、結構中含有羧基和氨基的藥物容易發生酰化反應生成內酰胺結構等。

有關物質研究思路-降解雜質參考各國藥典及文獻報道，對其中的降解雜質進行分析。進行強制降解試驗，分析潛在降解產物，并將其中增長加快的雜質與已知雜質進行對比或進行結構確證。對于制劑，除原料藥單獨存在時的降解產物外，還要關注藥物與輔料以及包材間相互作用引起的藥物降解或副反應，以及制劑制備過程中可能引起的降解。另外，對于復方制劑，還要關注各主藥間的相互作用。對于上述情況，可以通過原輔料相容性及原料與包材相容性研究來分析產生的降解產物。例如，乳糖與含有伯胺類結構的藥物可以發生縮合反應，生成腙與糖脎等衍生物。將自研產品與原研制劑進行雜質譜分析，并通過強制降解、穩定性試驗（影響因素、加速6月、長期6-36月試驗），對其中增長的雜質進行對比分析。

雜質譜（ImpurityProfile）雜質譜：化藥合成過程中可能產生的所有雜質的清單（包括未反應完全的起始物料、副反應產物以及降解產物等）。研究思路：原研制劑雜質譜→仿制原料藥雜質譜→仿制制劑雜質譜。將原研產品與自研產品同時進行加速試驗及強制降解試驗，對兩者的雜質譜進行對比，自研產品的雜質譜應與原研產品的雜質譜相同。雜質譜相同主要是指自研產品與原研產品的降解雜質一致，而由于各廠家的原料藥制備工藝和制劑制備工藝不同，所引入或產生的工藝雜質也各有不同。因此，對于既有的質量標準中控制的雜質，尤其是工藝雜質，應根據實際生產工藝進行分析，制定適合自身產品特點的質控限度，不能完全照搬質量標準。有關物質檢測方法有機雜質的檢測方法包括化學法、光譜法、色譜法等，根據藥物結構及降解產物的不同采用不同的檢測方法。通過合適的分析技術將不同結構的雜質進行分離、檢測，從而達到對雜質的有效控制。在質量標準中，目前普遍采用的雜質檢測方法主要為高效液相色譜法（HPLC）、薄層色譜法(TLC)、氣相色譜法(GC)和毛細管電泳法（CE）。應根據藥物及雜質的理化性質、化學結構、雜質的控制要求等確定適宜的檢測方法。由于各種分析方法均具有一定的局限性，因此在進行雜質分析時，應注意不同原理的分析方法間的相互補充與驗證，如HPLC與TLC及HPLC與CE的互相補充，反相HPLC系統與正相HPLC系統的相互補充，HPLC不同檢測器檢測結果的相互補充等。有關物質計算方法外標法（雜質對照品法）優點：定量比較準確。缺點：外購雜質對照品成本較高，自制對照品需要進行結構確證及標定。加校正因子的主成分自身對照法優點：定量比較準確，操作方便。缺點：（1）如果直接采用藥典方法中的校正因子，應完全按照藥典中的色譜條件，因為色譜條件不同，雜質的保留時間、峰形及峰面積也會有較大差別，對校正因子的校準作用也會產生明顯影響。

（2）如無藥典或文獻報道，應對校正因子進行詳細的研究。有關物質計算方法不加校正因子的主成分自身對照法優點：主要用于未知雜質計算，操作方便。缺點：已知雜質對主成分的相對響應因子在0.9-1.1范圍內時，可以用主成分的自身對照法計算含量，但超出0.9-1.1范圍時，宜用雜質對照品法計算含量，也可用加校正因子的主成分自身對照法。面積歸一化法優點：簡便快捷。缺點：各雜質與主成分響應因子不一定相同、雜質量與主成分量不一定在同一線性范圍內、儀器對微量雜質和常量主成分的積分精度及準確度不相同等因素，所以在質量標準中采用有一定的局限性。校正因子（

CorrectionFactor）絕對校正因子：

HPLC定量測定中，物質的檢測量W與色譜響應值（峰面積等）A之間的比值，即單位響應值（峰面積等）所對應的被測物質的量（濃度或質量）。校正因子：某物質i與所選定的參照物質s的絕對校正因子之比。注：在有關物質計算時，應用峰面積比值乘以校正因子。相對響應因子（Relativeresponsefactor）響應因子與絕對校正因子相反，它表示物質的色譜響應值（峰面積等）A與檢測量W之間的比值。相對響應因子：某物質i與所選定的參照物質s的響應因子之比。注：在有關物質計算時，應用峰面積比值除以相對響應因子。校正因子測定方法單濃度點測定：制備適當濃度的特定雜質對照品溶液和主成分對照品溶液，分別進樣測定。多濃度點測定：制備適當的高、中、低三水平濃度的特定雜質對照品溶液和主成分對照品溶液（涵蓋定量限、標準限度），分別進樣測定，取平均值作為校正因子。標準曲線法測定：精密稱取雜質對照品和主成分對照品，分別制備系列溶液（涵蓋定量限、標準限度），分別進樣后，按最小二乘法以進樣量對響應值（峰面積等）進行線性回歸，求得兩條標準曲線，兩曲線斜率之比即為校正因子。吸收系數比值法：制備適當的高、中、低三個水平濃度，測定雜質對照品與主成分對照品的平均吸收系數，將兩者吸收系數比值作為校正因子。

校正因子測定注意事項校正因子的測定需要用到特定雜質及主成分的標準物質，這些標準物質應具備量值準確的特點，符合標準物質（對照品）的相關要求。確定校正因子的分析方法應與最終確定的質量標準方法一致，色譜條件等需經篩選優化后確定，如有變更，需考慮對校正因子的影響，必要時重新確定。要關注影響待測物UV吸收的各種因素，如溶液制備所用溶劑最好與最終確定的流動相相同，檢測波長最好在特定雜質及主成分UV曲線的峰或谷處，避開吸收值急劇變化波段，以保證測定方法具有較好的耐用性，并保持測定結果的恒定。校正因子的應用當校正因子在0.9～1.1時，可直接采用不加校正因子的自身對照法定量。超出上述范圍時，如采用主成分自身對照法的定量方式，應采用加校正因子的自身對照法定量。如校正因子在0.2～5.0范圍以外時，表明雜質與主成分的UV吸收相差過大，校正因子的作用會受到顯著影響，此時應改變檢測波長等檢測條件，使校正因子位于上述范圍內，或使用結構或UV吸收與該雜質接近的另一標準物質為參照物質（如對照品易于獲得、標準已采用對照品外標法定量的另一特定雜質），重新確立校正因子。例如L-蘋果酸有關物質測定時，采用馬來酸為參照進行定量。如校正因子仍無法調節至適當范圍，需考慮采用雜質對照品外標法等適當的雜質方式定量。

基本概念-報告限度報告限度（ReportThreshold）：超出此限度的雜質均應在檢測報告中報告，并應報告具體的檢測數據。

原料藥制劑最大日劑量報告限度最大日劑量報告限度≤2g0.05%≤1g0.1%＞2g0.03%＞1g0.05%基本概念-鑒定限度鑒定限度（IdentificationThreshold）：超出此限度的雜質均應進行定性分析，確定其化學結構。

原料藥制劑最大日劑量鑒定限度最大日劑量鑒定限度≤2g0.10%或1.0mg(取最小值)＜1mg1.0%或5μg(取最小值)1mg~10mg0.5%或20μg(取最小值)＞2g0.05%＞10mg~2g0.2%或2mg(取最小值)＞2g0.10%基本概念-質控限度質控限度（QualificationThreshold）：質量標準中一般允許的雜質限度，如制訂的限度高于此限度，則應有充分的依據。原料藥制劑最大日劑量質控限度最大日劑量質控限度≤2g0.15%或1.0mg(取最小值)＜10mg1.0%或50μg(取最小值)10mg~100mg0.5%或200μg(取最小值)＞2g0.05%＞100mg~2g0.2%或3mg(取最小值)＞2g0.15%有關物質限度制定原則首先應考慮藥物的藥理活性及毒性，對于具有活性或遺傳毒性的雜質，應根據安全性數據，制定合理的限度。其次，考慮生產的可行性及批間的波動性，限度的制定應依據工藝穩定、具有代表性的批次檢測結果進行制定。再次，考慮藥品本身的穩定性，可根據穩定性考察、原料藥的制備工藝、制劑工藝、降解途徑等的研究及批次檢測結果來預測正式生產時產品的雜質概況。仿制藥有關物質限度制定已有藥典標準的藥品，可以根據已有的標準制訂相應的雜質限度。已有標準中未規定雜質的限度，應與已上市同品種藥品（建議首選原研發企業在有效期內的產品）進行全面的質量對比研究，分析其雜質的種類與含量，根據研究的結果，以及穩定性考察的結果，決定是否需在質量標準中對雜質進行控制。如果難以獲得已上市同品種的標準，但有相同原料藥的其它劑型上市，則在制訂雜質限度時，可參考此上市產品質量標準，對雜質進行控制。仿制藥有關物質限度制定已知雜質根據藥典或相關質量標準中已知雜質的限度進行控制。即：（1）與ICH成員國藥典控制的相同已知雜質可以按藥典標準控制；（2）與原研產品相同的非特定雜質可以按藥典標準中非特定雜質限度。未知雜質（1）小于鑒定限度的未知雜質，按鑒定限度制定。（2）大于鑒定限度且小于質控限度的未知雜質，對其進行結構確證，并按質控限度進行控制。（3）大于質控限度的未知雜質，需要對其進行結構確證，并對其活性或安全性進行詳細研究，并根據安全性數據制定合理的限度。即：出現了原研產品中沒有的新增雜質要按指導原則限度，原料限度一般不超過0.1%；制劑為0.2%。可能具有特殊活性或毒性的雜質，應對其進行結構確證，并進行安全性研究，根據安全性數據制定合理限度。有關物質數據處理檢測結果應提供具體試驗數據（如雜質的保留時間及含量），不能籠統地表述為“符合要求”或“合格”等。中國藥典和美國藥典中，一般不設置報告限，只規定扣除空白或輔料中的峰，歐洲藥典一般規定忽略限（disregardlimit），即報告限。日常的檢測中，對于報告限以下的未知雜質可以忽略不計，只報告大于報告限的雜質，并計入總雜。已知雜質應根據實際計算結果進行報告。雜質的報告的數據一般精確到小數點后第二位。有關物質方法學驗證-系統適用性試驗定義系指用來確認系統能否滿足分析需求的試驗，通常包括理論塔板數、分離度、重復性和拖尾因子等四個參數。其中，分離度和重復性尤為重要。溶液配制1.對照溶液或雜質對照品溶液2.已知雜質與主成分混合溶液（如雜質無法獲得，可用強制降解溶液代替）*3.靈敏度溶液或增敏溶液（USP常見）可接受標準1.主峰或雜質峰峰面積RSD應符合要求*，保留時間RSD應不大于1.0%。2.雜質峰與主成分峰分離度、拖尾因子及理論塔板數應符合質量標準規定。*3.應符合質量標準規定備注*通常含量低于0.5%的雜質，峰面積的RSD應小于10%；含量在0.5%~2%的雜質，峰面積的RSD應小于5%；含量大于2%的雜質，峰面積的RSD應小于2%。有關物質方法學驗證-專屬性定義系指在其他成分（如雜質、降解物、輔料等）可能存在下，采用的分析方法能夠正確鑒定、檢出被分析物質的特性。溶液配制1.空白溶液（及空白輔料溶液）、供試品溶液2.1中間體、已知雜質、主成分單獨配制溶液（用于定位）2.2中間體、已知雜質、主成分混合溶液（用于考察分離度）*3.強制降解試驗*4.濾膜吸附性試驗可接受標準1.1空白溶液（及空白輔料溶液）在主成分及已知雜質保留時間處無干擾。1.2供試品溶液中主峰純度應大于0.990。2.中間體、已知雜質及主成分間的分離度應達到要求。有關物質方法學驗證-強制降解試驗溶液配制空白溶液（空白輔料溶液）、供試品溶液降解試驗試驗名稱試驗條件未破壞N/A酸破壞一般采用0.1mol/L～1mol/L的鹽酸堿破壞一般采用0.1mol/L～1mol/L的氫氧化鈉溶液高溫破壞溶液、固體2種；通常溫度高于加速試驗溫度的10℃，如50℃；如穩定，可采用水浴或105℃破壞。光照破壞溶液、固體2種；可采用4500Lx/紫外254nm/光照箱氧化破壞采用0.1%~3%雙氧水進行破壞，同時可提高反應溫度以促進主藥的分解。破壞程度以主成分含量90%左右為宜；如穩定，破壞時間可延長到24-36小時。可接受標準1.空白溶液（空白輔料溶液）在主峰與雜質峰保留時間處無干擾。2.主峰、已知雜質峰與相鄰峰能有效分離（≥1.5），一般要求基線分離。3.理論塔板數、拖尾因子、主峰峰純度應符合規定。4.物料守恒，與破壞前相比，總的峰面積比值應在90.0%~110.0%。有關物質方法學驗證-濾膜吸附性試驗目的對于需要過濾的樣品，將過濾后樣品與離心樣品進行對比，確定濾膜是否脫落或對主成分/雜質吸附，從而影響雜質測定，同時，根據試驗結果，可以確定供試品制備濾膜的選擇（包括材質、直徑以及孔徑大小）以及棄去初濾液的體積。溶液配制1.供試品溶液2.100%限度主成分/雜質對照品溶液可接受標準1.與離心后供試品溶液對比，不得有新的雜質出現。2.與離心后對照品溶液中主成分或雜質峰面積比值應在90.0%~110.0%。有關物質方法學驗證-精密度精密度系指在規定的測試條件下，同一均質供試品，經多次取樣進行一系列檢測所得結果之間的接近程度（離散程度）。*系統重復性定義系指系統連續進樣時結果的重復性，一般連續進樣6次。溶液配制對照（品）溶液可接受標準(n=6)RSD應符合要求（一般應≤5.0%）。有關物質方法學驗證-精密度重復性定義系指在同樣的操作條件下，在較短時間間隔內，由同一分析人員測定所得結果的精密度。溶液配制（三者選一）1.供試品溶液6份（雜質水平較高的樣品）2.100%加標供試品溶液（制劑：向空白輔料中加入100%限度雜質對照品）6份（雜質較少的樣品）3.雜質限度濃度的主成分溶液6份（面積歸一化或主成分自身對照法）可接受標準(n=6)1.單雜、總雜極差應小于0.1%。2.單雜、總雜極差應小于0.1%。3.RSD應符合要求（一般應≤5.0%）。有關物質方法學驗證-精密度中間精密度定義中間精密度系指在同一實驗室，由于實驗室內部條件改變，如時間、分析人員、儀器設備、測定結果的精密度。溶液配制（三者選一）1.供試品溶液6份（雜質水平較高的樣品）2.100%加標供試品溶液6份（雜質較少的樣品）3.雜質限度濃度的主成分溶液6份（面積歸一化或主成分自身對照法）可接受標準（n=12）1.單雜、總雜極差應小于報告限（一般為0.05%）。2.單雜、總雜極差應小于報告限（一般為0.05%）。3.RSD應符合要求（一般應≤5.0%）。有關物質方法學驗證-線性與范圍線性系指在設計的測定范圍內，檢測結果與供試品中被分析物的濃度（量）直接呈線性關系的程度。范圍系指能夠達到一定的準確度、精密度和線性，測試方法適用的試樣中被分析物高低限濃度或量的區間。溶液配制LOQ~雜質限度的150%（至少5個點）注：若采用自身對照法定量，對照溶液可能會高于雜質限度，則線性最高點做到對照溶液濃度的150%；若采用面積歸一化法定量，線性最高點需要做到總雜限度的150%。可接受標準1.相關系數（r）不得小于0.999（對于線性過0點的情況，r可不小于0.99）。2.Y軸截距/最低雜質限度時Y軸響應值的絕對值≤5.0%（可根據實際情況放寬至10.0%）。有關物質方法學驗證-準確度定義系指用該方法測定的結果與真實值或認可的參考值之間接近的程度，一般用回收率（%）表示。溶液配制定量限、雜質限度、線性最高點各配制3份（制劑需要加入100%處方量空白輔料或者用空白輔料溶液稀釋。）可接受標準1.各濃度下的單個回收率應在90.0%~110.0%2.