ICS71.040.40N33中華人民共和國國家標準GB/T20176—2006/ISO14237:2000表面化學分析二次離子質譜用均勻摻雜物質測定硅中硼的原子濃度Surfacechemicalanalysis-Secondary-ionmassspectrometry-Determinationofboronatomicconcentrationinsiliconusinguniformlydopedmaterials（ISO14237:2000,IDT)2006-03-27發布2006-11-01實施中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局愛布中國國家標準化管理委員會

GB/T20176-2006/1S014237：2000三次前言引言1范圍2規范性引用文件3原理4參考物質5儀器6祥品78結果表述9測試報告附錄A(資料性附錄)硅片中載流子濃度的確定附錄B(資料性附錄）用用SIMS測量硼同位素比·附錄C(規范性附錄）儀器性能的評估步驛附錄D(規范性附錄）NISTSRM2137深度部析步驛附錄E(資料性附錄）巡回測試統計報告

GB/T20176-2006/ISO14237:2000前本標準等同采用ISO14237:2000《表面化學分析二次離子質譜用均勺摻雜物質測定硅中硼的原子濃度》。本標準附錄C、附錄D為規范性附錄.附錄A、附錄B、附錄E為資料性附錄。本標準由全國微束標準化技術委員會提出。本標準由全國微束標準化技術委員會歸口本標準負責起草單位：清華大學電子工程系。本標準主要起草人：查良鎮、陳旭、黃雁華、王光普、黃天斌、劉林、葛欣、桂東

GB/T20176-2006/ISO14237:2000本標準為用二次離子質譜（secondary-ionmassspeetrometry.SIMS)對均勻摻雜硅片中硼原子濃度的確定而制訂。SIMS的定量分析需要參考物質。價格昂貴經標定的參考物質僅適用于特定基體與雜質的組合物。在每一次SIMS測量中都不可避免地要消耗這些參考物質。每個實驗室可制備標定參考物質校準的二級參考物質,它們在日常分析中很有用本標準描述用二級參考物質進行單品硅中硼定量分析的標準步驛.該二級參考物質經已標定注入硼參考物質校準

GB/T20176—2006/IS014237:2000表面化學分析二次離子質譜用均勻摻雜物質測定硅中硼的原子濃度范圍本標準詳細說明了用標定的均勾摻雜物質(用注入硼的參考物質校準)確定單品硅中硼的原子濃度的二次離子質譜方法。它適用于均勾摻雜硼濃度范圍從1×10"atoms/cm2～1×10”atoms/cm2規范性引用文件下列文件中的條款通過本標準的引用而成為本標準的條款。凡是注日期的引用文件，其隨后所有的修改單(不包括勒誤的內容)或修訂版均不適用于本標準，然而，鼓勵根據本標準達成協議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本標準。ISO5725-2：1994測量方法和結果的準確度（真實性和精密度）第2部分：標準測量方法重復性和再現性確定的基本方法3原理氧或絕離子束撞擊到樣品表面并對發射出的硼和硅的二次離子進行質量分析和檢測用均勾摻雜的二級參考物質(經離子注入原始參考物質校準過的)作為工作參考物質參考物質4.1原始參考物質原始參考物質用于確定二級參考物質中硼的原子濃度。原始參考物質應是一種硅中注硼的已標定參考物質(certifiedreferencematerial,CRM)。住：美國國家標準和技術研究院（NationalnstituteofStandardsandTechnology.NIST）的標準參考物質2137（NISTStandardReferenceMaterial2137,以下稱為NISTSRM）是當前唯一指定的硅中硼已標定參考物質4.2二級參考物質4.2.1二級參考物質用于確定各測試樣品中硼的原子濃度。至少應有一塊摻硼和一塊不摻硼的參考物質用于日常分析。推薦用另兩塊不同硼摻雜水平的參考物質來確定儀器的性能(見附錄C)。4.2.2二級參考物質(以下稱為體參考物質)是單品硅片或外延層厚度約為100m的外延硅片,且應該用具有天然同位素比的硼均勺摻雜。4.2.3應該獲得具有硼原子濃度介于1×10"atoms/cm"～1×10”atoms/cm2間的硼摻雜晶片。推薦使用表1給出的3種摻雜水平。如果僅用一種水平,應選擇RM-B或RM-C。還應有一塊