光學薄膜工藝基礎知識培訓_第1頁
光學薄膜工藝基礎知識培訓_第2頁
光學薄膜工藝基礎知識培訓_第3頁
光學薄膜工藝基礎知識培訓_第4頁
光學薄膜工藝基礎知識培訓_第5頁
已閱讀5頁，還剩10頁未讀， 繼續免費閱讀

下載本文檔

版權說明：本文檔由用戶提供并上傳，收益歸屬內容提供方，若內容存在侵權，請進行舉報或認領

文檔簡介

光學薄膜工藝基礎知識培訓第二頁，共15頁。第三頁，共15頁。第四頁，共15頁。第五頁，共15頁。第六頁，共15頁。第七頁，共15頁。1.工藝參數與薄膜性能的關系

2.影響光學性能的因素

3.影響薄膜機械性能的因素

4.影響薄膜環境穩定性的因素

5.總結光學薄膜工藝因素第八頁，共15頁。2023/2/2所以工藝因素對膜層內部結構產生了影響，使得對薄膜的各種性能產生影響,總結影響如圖所示：第九頁，共15頁。2023/2/2工藝因素對薄膜性能的影響機理大致為：一.基片材料

1.膨脹系數不同熱應力的主要原因；

2.化學親和力不同影響膜層附著力和牢固度；

3.表面粗糙度和缺陷散射的主要來源。

二.基片清潔殘留在基片表面的污物和清潔劑將導致：

1.膜層對基片的附著力差；

2.散射吸收增大抗激光損傷能力差；

3.透光性能變差。第十頁，共15頁。2023/2/2三.離子轟擊的作用提高膜層在基片表面的凝聚系數和附著力；提高膜層的聚集密度，氧化物膜層的透過率增加，折射率提高，硬度和抗激光損傷閾值提高。四.初始膜料化學成分（純度/雜質種類）、物理狀態（粉/塊）和預處理（真空燒結/鍛壓）影響膜層結構和性能第十一頁，共15頁。2023/2/2五.蒸發方法不同蒸發方法提供給蒸發分子和原子的初始動能差異很大，導致膜層結構有較大差異，表現為折射率、散射、附著力有差異。六.蒸發速率速率是動能的又一表征，它對膜層的折射率、應力、附著力有明顯影響。七.真空度對膜層聚集密度，化學成分有影響，從而使膜層的折射率、硬度，牢固性發生變化。八.蒸氣入射角影響膜層的生長結構和聚集密度。對膜層的折射率和散射性能有較大影響。一般應限制在30°之內。第十二頁，共15頁。2023/2/2九.基片溫度

宏觀反映在膜層折射率、散射、應力、附著力和硬度都會因基片溫度的不同而有較大差異。

十.鍍后烘烤處理

有助于應力釋放和環境氣體分子及膜層分子的熱遷移，可使膜層結構重組。因此，可使膜層折射率、應力、硬度有較大改變。

以上所述的10個工藝因素對膜層性能的影響，是依據實際工藝項目和膜層宏觀性能統計匯總得出的。第十三頁，共15頁。2023/2/2綜合分析結果：

工藝因素對膜層性能的影響，主要集中在四類工藝因素對膜層四種性能的作用上：

顯然，成膜原子/分子遷移能和凝聚力的大小，幾乎對膜層的所有性能都有影響。因此，PVD技術的發展，幾乎都是針對提高成膜粒子遷移能，凝聚力而進行的。

工藝作用膜層性能膜料原子制膜環境膜與基片聚集密度++附著力++應力++缺陷+++第十四頁，共15頁。2023/2/2工藝因素優選工藝因素優選通常采用正交實驗，它是研究和處理多因素實驗的方法，它在理論和實踐的基礎上，利用正交表進行實驗，這種方法的優點是能在很多實驗條件中找出代表性強的少數條件，通過很少幾次實驗，找出較優的工藝因素，其步驟如下：1

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明，都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等，如果需要附件，請聯系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙，網頁內容里面會有圖紙預覽，若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業或盈利用途。
  • 5. 人人文庫網僅提供信息存儲空間，僅對用戶上傳內容的表現方式做保護處理，對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯，并不能對任何下載內容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容，請與我們聯系，我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論