1、專利技術(shù)交底書的撰寫 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司Leader Patent & Trademark Firm 電 話：86-10-58773108/9傳 真：86-10-58773107 E-mail：info網(wǎng)址：技術(shù)交底書的作用 技術(shù)交底書是發(fā)明人和代理人之間進(jìn)行技術(shù)交流的基礎(chǔ)文件； 發(fā)明人所做的發(fā)明創(chuàng)造告知代理人，以使代理人理解發(fā)明創(chuàng)造的技術(shù)內(nèi)容，形成專利申請文件。技術(shù)交底書的重要性直接影響代理人對技術(shù)的理解；直接影響專利申請文件的撰寫質(zhì)量、表現(xiàn)形式和說明思路；直接影響后續(xù)溝通所耗費(fèi)的精力和時(shí)間。 因此，完善、清晰、準(zhǔn)確的技術(shù)交底書是獲得高質(zhì)量專利文件的重要條件之一。 專利申請文件

2、的主要內(nèi)容 權(quán)利要求書和說明書是專利申請文件中兩份最重要的文件。 技術(shù)內(nèi)容+法律表達(dá)其中權(quán)利要求書是一份申請人請求保護(hù)范圍的法律文書，該法律文書的撰寫依據(jù)是說明書，是從說明書中概括出來的，因此一份好的說明書是權(quán)利要求書的基礎(chǔ)文件。我國專利法規(guī)定，說明書應(yīng)當(dāng)包括技術(shù)領(lǐng)域、背景技術(shù)、發(fā)明內(nèi)容、附圖說明和具體實(shí)施方式五個(gè)部分。 技術(shù)交底書的內(nèi)容重點(diǎn)內(nèi)容主要集中在：背景技術(shù)原來什么方案發(fā)明內(nèi)容現(xiàn)在什么方案具體實(shí)施方式 現(xiàn)在方案是怎么實(shí)現(xiàn)的 技術(shù)交底書的內(nèi)容三者之間的邏輯關(guān)系為(正向思維)1背景技術(shù)中現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)缺陷是發(fā)明人萌發(fā)要對現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)行改良的原因，也是發(fā)明創(chuàng)造主題的來源；2發(fā)明內(nèi)容是解決現(xiàn)有技

3、術(shù)中技術(shù)缺陷的解決方案；3具體實(shí)施方式則是較好地再現(xiàn)解決方案的技術(shù)手段，是如何解決現(xiàn)有技術(shù)中技術(shù)缺陷的進(jìn)一步詳細(xì)描述。技術(shù)交底書的內(nèi)容三者之間的邏輯關(guān)系為： (逆向思維)1具體實(shí)施方式提出了一個(gè)完整的解決方案；2該解決方案與現(xiàn)有技術(shù)有區(qū)別和效果；區(qū)別和效果體現(xiàn)在解決了相應(yīng)的技術(shù)缺陷，即發(fā)明內(nèi)容解決了現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)缺陷；3技術(shù)缺陷則是背景技術(shù)中客觀存在的。技術(shù)交底書的內(nèi)容因此，背景技術(shù)、發(fā)明內(nèi)容和具體實(shí)施方式三個(gè)部分具有不可分割的有機(jī)聯(lián)系，三者之間存在清晰的的邏輯關(guān)系。 背景技術(shù)的撰寫背景技術(shù)原來什么方案重要性：1為發(fā)明創(chuàng)造提供真實(shí)的比較對象2反映發(fā)明創(chuàng)造的內(nèi)容和價(jià)值3幫助代理人最大限度地?cái)U(kuò)展

4、專利的保護(hù)范圍 背景技術(shù)的撰寫包括二部分：1現(xiàn)有技術(shù)內(nèi)容2現(xiàn)有技術(shù)的缺陷通過二個(gè)內(nèi)容的說明，自然而然地引出發(fā)明創(chuàng)造所要解決的技術(shù)問題 背景技術(shù)的撰寫現(xiàn)有技術(shù)內(nèi)容1選擇一個(gè)比較相近的（最接近的）技術(shù)主題；2針對該技術(shù)主題，具體說明它包括什么，什么狀態(tài)，什么功能以及怎樣工作；3. 著重說明發(fā)明中改變的部分。裝置或結(jié)構(gòu)方法或工藝背景技術(shù)的撰寫裝置或結(jié)構(gòu)：（1）內(nèi)容：ABC部件等，以及連接、位置關(guān)系；（2）功能：A部件用于，起到什么作用；（3）如果是活動的，需介紹工作原理或工作過程；（4）配合附圖說明。例如，薄膜晶體管包括：柵電極，形成在基板上；柵絕緣層，形成在柵電極上，并覆蓋整個(gè)基板；非晶硅層，形成

5、在柵絕緣層上，并位于柵電極之上；n+非晶硅層，形成在非晶硅層上；源漏電極層，形成在n+非晶硅層上，并形成溝道區(qū)域； 鈍化層，形成在源漏電極層上，并覆蓋整個(gè)基板，其上形成有使像素電極與源漏電極層的漏電極連接的鈍化層過孔。 背景技術(shù)的撰寫方法或工藝：（1）內(nèi)容：步驟1、步驟2、步驟3等，以及步驟之間的依附關(guān)系，條件及參數(shù)（溫度、壓力等）；（2）功能：主要步驟的目的和作用，必要時(shí)說明整個(gè)流程的機(jī)理。例如，一種光刻膠掩模方法，包括：步驟1、將敷掩板與基板貼合在一起；步驟2、在所述敷掩板的敷掩圖案上涂敷光刻膠；步驟3、以40-50度溫度將所述光刻膠烘烤30-50分鐘； 步驟4、從基板上移開敷掩板,形成所

6、需的光刻膠圖案。 背景技術(shù)的撰寫2、現(xiàn)有技術(shù)的缺陷：是前述現(xiàn)有技術(shù)內(nèi)容的結(jié)論性總結(jié)，客觀地、實(shí)事求是地指出現(xiàn)有技術(shù)存在的主要問題或不足。例如，寫法可以是（1）自身缺陷：由于現(xiàn)有技術(shù)采用B部件（或步驟2）的實(shí)現(xiàn)方式，因而導(dǎo)致存在問題1、問題2等；（2）帶來缺陷：現(xiàn)有技術(shù)自身沒有缺陷，但導(dǎo)致了其他不利因素，如難度大、效率低、污染、成本增加等；（3）其他缺陷：不利于實(shí)現(xiàn)、廢品率高等；（4）最好簡單解釋為什么會出現(xiàn)這種問題的原因。 撰寫背景技術(shù)中容易出現(xiàn)的問題（1）過于籠統(tǒng)，只有大背景、大需求，未針對技術(shù)內(nèi)容例如： 液晶顯示器具有體積小、功耗低、無輻射等特點(diǎn)，近十年得到飛速發(fā)展。目前，LCD發(fā)展重點(diǎn)集

7、中在提高畫面品質(zhì)和降低生產(chǎn)成本等方面。建議：具體到專業(yè)技術(shù)的介紹撰寫背景技術(shù)中容易出現(xiàn)的問題（2）引用相關(guān)專利或出版物, 但披露信息不全，未進(jìn)行針對性說明例如：美國專利US12345678公開了一種陣列基板，但其結(jié)構(gòu)不合理，因此無法實(shí)施。建議增加結(jié)構(gòu)內(nèi)容說明、結(jié)構(gòu)不合理的分析以及無法實(shí)施的理由，以不看文獻(xiàn)即領(lǐng)會其技術(shù)內(nèi)容。 撰寫背景技術(shù)中容易出現(xiàn)的問題（3）背景技術(shù)內(nèi)容與發(fā)明內(nèi)容相關(guān)性不大，偏離了要解決的技術(shù)問題例如：現(xiàn)有技術(shù)為5次掩模工藝，有人發(fā)明了4次掩模工藝，但工藝不合理。發(fā)明的思想是解決4次掩模工藝不合理的問題。如果背景技術(shù)中只說明5次掩模工藝的缺陷和不利，則代理人會認(rèn)為要解決的問題是

8、從5次掩模變?yōu)?次掩模，就會偏離發(fā)明思路。撰寫背景技術(shù)中容易出現(xiàn)的問題（4）現(xiàn)有技術(shù)缺陷論述過于武斷，出現(xiàn)貶低性的語言例如：現(xiàn)有技術(shù)的LCD為，實(shí)際使用表明，存在顯示質(zhì)量差、可靠性低的缺陷。又如：現(xiàn)有技術(shù)表明，由于設(shè)計(jì)人的在LCD設(shè)計(jì)上的無知，其結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)極不合理，技術(shù)落后。 撰寫背景技術(shù)中容易出現(xiàn)的問題（5）包含了發(fā)明沒有解決的技術(shù)問題雖然事實(shí)上現(xiàn)有技術(shù)存在很多問題，但只需要說明本發(fā)明能解決的問題。最好不要涉及本發(fā)明不能解決或沒有解決的問題。建議：用反推法，根據(jù)發(fā)明優(yōu)點(diǎn)找現(xiàn)有技術(shù)對應(yīng)的缺點(diǎn) 撰寫背景技術(shù)中容易出現(xiàn)的問題（6）主題分散由于LCD涉及技術(shù)領(lǐng)域廣、結(jié)構(gòu)復(fù)雜、工藝流程眾多，所以主題盡可

9、能集中。發(fā)明內(nèi)容的撰寫發(fā)明內(nèi)容現(xiàn)在什么方案包括三部分： 要解決的技術(shù)問題為什么要發(fā)明； 技術(shù)方案發(fā)明了什么； 有益效果有什么好處。發(fā)明內(nèi)容的撰寫1、發(fā)明主題發(fā)明名稱明確發(fā)明的類型，裝置、方法、裝置和方法；避免包含發(fā)明點(diǎn)。例如一種掩模技術(shù)（是裝置，還是方法不清楚）一種采用偏陣片改變透過率的掩模板（包含發(fā)明點(diǎn)）一種成本低、效率高和產(chǎn)品質(zhì)量高的掩模工藝（明顯帶有廣告宣傳性質(zhì)）發(fā)明內(nèi)容的撰寫2、要解決的技術(shù)問題為什么要發(fā)明與背景技術(shù)中現(xiàn)有技術(shù)的缺陷相對應(yīng)，要解決的技術(shù)問題就是現(xiàn)有技術(shù)中所存在的某一個(gè)或幾個(gè)技術(shù)問題，也就是本發(fā)明所要完成的任務(wù)或要實(shí)現(xiàn)的目的。（與有益效果也相對應(yīng)）發(fā)明內(nèi)容的撰寫2、要解決

10、的技術(shù)問題基本要求：a、采用正面語言直接、清楚、客觀地說明；b、體現(xiàn)要求保護(hù)的技術(shù)方案的主題名稱和發(fā)明類型；c、將要解決的技術(shù)問題分出層次，主要問題、次要問題；d、避免比較籠統(tǒng)的目的。 發(fā)明內(nèi)容的撰寫例如：現(xiàn)有技術(shù)的背光源為側(cè)光式，因此需要導(dǎo)光板。由于導(dǎo)光板成本高，別人將側(cè)光式改為直下式，因此可以不用導(dǎo)光板。但由此導(dǎo)致出光均勻性差缺陷。就是說，導(dǎo)光板成本高的問題已經(jīng)被別人解決了。此時(shí)，本發(fā)明要解決的問題是直下式背光源出光均勻性問題，而不是導(dǎo)光板成本高的問題。寫法可以為：本發(fā)明的目的是提供一種背光源，有效解決現(xiàn)有直下式背光源出光不均勻的缺陷，提高液晶顯示器的畫面品質(zhì)。發(fā)明內(nèi)容的撰寫避免寫成：本發(fā)

11、明的目的是提供一種有效克服現(xiàn)有技術(shù)缺陷的背光源。（沒有正面表述）本發(fā)明的目的是提高液晶顯示器的畫面品質(zhì)。（過于籠統(tǒng)）本發(fā)明的目的是，提供一種成本低的背光源。（偏離要解決的技術(shù)內(nèi)容）發(fā)明內(nèi)容的撰寫3、技術(shù)方案發(fā)明了什么重點(diǎn)指出本發(fā)明對已知技術(shù)的改進(jìn)部分，即本發(fā)明的發(fā)明點(diǎn)或技術(shù)特點(diǎn)所在。 突出發(fā)明點(diǎn)、保護(hù)重點(diǎn) 申請人可以使用自己喜好的任何方式來描述，無論哪種表述方式，只要能夠?qū)l(fā)明的技術(shù)方案的具體實(shí)現(xiàn)過程闡述清楚，不產(chǎn)生歧義即可。 發(fā)明內(nèi)容的撰寫避免純功能性描述或結(jié)論性描述專利法給予保護(hù)的對象是技術(shù)方案，不是發(fā)明構(gòu)思，也不是物理狀態(tài)和結(jié)果。如果僅對發(fā)明創(chuàng)造的構(gòu)思或者發(fā)明創(chuàng)造產(chǎn)生的物理狀態(tài)或結(jié)果進(jìn)行

12、了詳細(xì)描述，會使代理人和審查員無法依據(jù)說明書提供的情報(bào)來理解發(fā)明是如何實(shí)現(xiàn)的。發(fā)明創(chuàng)造類型開拓性發(fā)明組合發(fā)明選擇發(fā)明轉(zhuǎn)用發(fā)明要素變更發(fā)明用途發(fā)明開拓性發(fā)明指一種全新的技術(shù)解決方案，在技術(shù)史上未曾有過先例，它為人類科學(xué)技術(shù)在某個(gè)時(shí)期的發(fā)展開創(chuàng)了新紀(jì)元，這種發(fā)明稱為開拓性發(fā)明。 四大發(fā)明、蒸汽機(jī)、電燈、雷達(dá)、激光器液晶顯示裝置組合發(fā)明 如果組合的各技術(shù)特征，在功能上彼此相互支持，并取得了新的技術(shù)效果，或者說組合后的技術(shù)效果比每個(gè)技術(shù)特征效果的總和更優(yōu)越 ，這種組合具備創(chuàng)造性。組合發(fā)明每個(gè)技術(shù)特征本身是否完全公知或部分公知不影響創(chuàng)造性。 例如, 帶攝像功能的液晶面板、液晶鍵盤 組合發(fā)明但是，如果發(fā)明

13、僅是某些公知技術(shù)方案簡單組合在一起，各自仍以原來的方式工作，僅僅是一種簡單的疊加，或稱之為“拼湊”，這種拼湊的發(fā)明不具備創(chuàng)造性。 例1，現(xiàn)有LCD均為一面顯示,現(xiàn)在發(fā)明一種二面可以顯示的LCD,但如果方案是把二個(gè)LCD粘起來,則屬于“拼湊”,該發(fā)明不具備創(chuàng)造性。 但是,如果只使用一個(gè)陣列基板,則有可能。 選擇發(fā)明選擇發(fā)明是指從現(xiàn)有技術(shù)中公開的較大范圍中，有目的地選出現(xiàn)有技術(shù)中未提到的小范圍或個(gè)體的發(fā)明。（主要指參數(shù)）如果選擇發(fā)明的技術(shù)解決方案能夠取得預(yù)料不到的技術(shù)效果，則具備創(chuàng)造性。但是，如果發(fā)明僅僅是從一些具有相同可能性的技術(shù)解決方案中選出一種，而且未取得預(yù)料不道的技術(shù)效果，則不具備創(chuàng)造性。

14、 轉(zhuǎn)用發(fā)明轉(zhuǎn)用發(fā)明是指將某一技術(shù)領(lǐng)域的現(xiàn)有技術(shù)轉(zhuǎn)用到其他技術(shù)領(lǐng)域中的發(fā)明。如果這種轉(zhuǎn)用能夠產(chǎn)生預(yù)料不到的技術(shù)效果，或者克服了原技術(shù)領(lǐng)域中未曾遇到的困難，則這種轉(zhuǎn)用發(fā)明具有創(chuàng)造性。例如，巧克力與裁紙刀,照相與掩模板但在功能類似的領(lǐng)域的轉(zhuǎn)用不具備創(chuàng)造性。例如，用于CRT上的穩(wěn)壓器轉(zhuǎn)用到LCD的穩(wěn)壓器上。 THANK YOUSUCCESS2022/7/1835可編輯要素變更的發(fā)明要素關(guān)系改變：是指發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，其形狀、尺寸、比例、位置及作用關(guān)系等發(fā)生了變化；要素替代：是指已知產(chǎn)品或方法的某一要素由其他已知要素替代的發(fā)明；要素省略：是指省去已知產(chǎn)品或者方法中的某一項(xiàng)或多項(xiàng)要素的發(fā)明。要素變更的發(fā)

15、明要素關(guān)系改變現(xiàn)有技術(shù)采用噴嘴運(yùn)動、玻璃基板不動的清洗方式，發(fā)明改成噴嘴固定不動、玻璃基板運(yùn)動。該發(fā)明即“動靜轉(zhuǎn)換”。這種轉(zhuǎn)換并未產(chǎn)生預(yù)料不到的技術(shù)效果，所以這種發(fā)明不具備創(chuàng)造性。 要素變更的發(fā)明要素替代一項(xiàng)涉及清洗工藝的發(fā)明，與現(xiàn)有技術(shù)相比，該發(fā)明中的清洗劑由A換成現(xiàn)有技術(shù)中使用的B，這種等效替代的發(fā)明不具備創(chuàng)造性。 要素變更的發(fā)明要素省略一種陣列基板制造方法，與現(xiàn)有技術(shù)4次掩模的區(qū)別在于使用2次掩模。由于減少了工序，該陣列基板也不再有薄膜晶體管。原來的效果消失了，因而該發(fā)明不具備創(chuàng)造性。 發(fā)明內(nèi)容的撰寫4、有益效果有什么好處結(jié)合發(fā)明內(nèi)容的改進(jìn)點(diǎn)說明有益效果。該效果可以是多方面的，建議在技術(shù)

16、交底書中寫入更多的有益效果，這對后續(xù)審查會有好處。這部分應(yīng)清楚、客觀地寫明發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比所具有的有益技術(shù)效果。有益效果應(yīng)當(dāng)是由構(gòu)成發(fā)明的技術(shù)特征直接帶來或直接產(chǎn)生的。不管采用哪種方式描述，最好與現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)行比較得出。發(fā)明內(nèi)容的撰寫有益效果通常可以是提高產(chǎn)率、質(zhì)量、精度和效率；節(jié)省能耗、原材料、工序；簡便加工、操作、控制、使用等；具體表達(dá)方式：結(jié)構(gòu)特征或作用關(guān)系分析方式（ 如：通過結(jié)構(gòu)改變成，使形狀適配，強(qiáng)度高，結(jié)構(gòu)穩(wěn)定）理論說明方式 數(shù)據(jù)對比方式（如：數(shù)據(jù)表明，.）發(fā)明內(nèi)容的撰寫有益效果避免的寫法：斷言方式籠統(tǒng)方式廣告宣傳方式 具體實(shí)施方式的撰寫具體實(shí)施方式發(fā)明是怎么實(shí)現(xiàn)的 這部分內(nèi)容是說

17、明書的重要部分，是理解和再現(xiàn)發(fā)明、支持和解釋權(quán)利要求十分重要的依據(jù)，也是充分公開發(fā)明的關(guān)鍵所在，因此這部分應(yīng)當(dāng)詳細(xì)、具體地描述實(shí)現(xiàn)發(fā)明的優(yōu)選方式，通過實(shí)施例并結(jié)合附圖進(jìn)行描述。 具體實(shí)施方式的撰寫撰寫要求如下：至少描述一個(gè)具體實(shí)施方式，其描述的具體化程度應(yīng)達(dá)到使所屬領(lǐng)域技術(shù)人員按照該內(nèi)容可重現(xiàn)發(fā)明；描述實(shí)施方式時(shí)，不必對與現(xiàn)有技術(shù)相同的已知特征作詳細(xì)展開說明，但必須詳細(xì)說明區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)特征（區(qū)別技術(shù)特征），特別要說明其功能或者操作過程； 具體實(shí)施方式的撰寫基本要求：產(chǎn)品發(fā)明，不同的實(shí)施方式應(yīng)當(dāng)是同一構(gòu)思的幾種不同具體結(jié)構(gòu)；方法發(fā)明，可用不同步驟、不同條件、或不同參數(shù)范圍來表示不同實(shí)施方

18、式。 具體實(shí)施方式的撰寫總之，撰寫具體實(shí)施方式中重點(diǎn)注意： 完整的實(shí)現(xiàn)方案； 每個(gè)區(qū)別技術(shù)特征的解釋； 盡可能擴(kuò)展實(shí)施例，實(shí)現(xiàn)最大的保護(hù)。在實(shí)施例描述中，最好說明哪些結(jié)構(gòu)或步驟是必不可少的，哪些是可選的。也就是說，給出最優(yōu)選和非優(yōu)選的多種實(shí)現(xiàn)方案，盡可能將所想到的全部寫上。如果多個(gè)實(shí)施例的大部分內(nèi)容相同，只需說明區(qū)別即可，相同部分可以略寫。 實(shí)施例事例 半透過型TFT-LCD陣列基板及其制造方法 發(fā)明點(diǎn)：設(shè)置金屬珠粒層方案：可以設(shè)置在玻璃基板、柵絕緣層或鈍化層上 實(shí)施例事例 半透過型TFT-LCD陣列基板及其制造方法 陣列基板三個(gè)實(shí)施例設(shè)置在玻璃基板上的結(jié)構(gòu)設(shè)置在柵絕緣層上的結(jié)構(gòu)設(shè)置在鈍化層上

19、的結(jié)構(gòu)實(shí)施例事例設(shè)置在玻璃基板上的結(jié)構(gòu)實(shí)施例事例設(shè)置在柵絕緣層上的結(jié)構(gòu)實(shí)施例事例設(shè)置在鈍化層上的結(jié)構(gòu)實(shí)施例事例 半透過型TFT-LCD陣列基板及其制造方法 制造方法三個(gè)實(shí)施例形成在玻璃基板上的流程形成在柵絕緣層上的流程形成在鈍化層上的流程實(shí)施例事例形成在鈍化層上的流程實(shí)施例事例形成在鈍化層上的流程實(shí)施例事例形成在鈍化層上的流程實(shí)施例事例形成在鈍化層上的流程實(shí)施例事例形成在鈍化層上的流程實(shí)施例事例 半透過型TFT-LCD陣列基板及其制造方法 需要說明，（1）金屬珠粒的直徑、間距參數(shù)；（2）如何形成的金屬珠粒層；（3）形成的金屬珠粒層工藝的特殊點(diǎn)。 技術(shù)交底書中其他需要注意的問題 1、完整2、清楚

20、、前后一致 3、準(zhǔn)確 技術(shù)交底書中其他需要注意的問題 1、完整不僅給出理解完整技術(shù)方案的教導(dǎo)，而且給出再現(xiàn)發(fā)明的教導(dǎo)（兩個(gè)方面都不能少）充分公開后果可能是最終得不到專利權(quán)保留技術(shù)秘密的前提是發(fā)明的技術(shù)方案仍是完整且可實(shí)現(xiàn)的。技術(shù)交底書中其他需要注意的問題 例如，現(xiàn)有技術(shù)光刻膠掩模方法包括涂敷、前烘、曝光、顯影和后烘。現(xiàn)發(fā)明一種新的光刻膠掩模方法，只包括涂敷、曝光、顯影和后烘，將前烘和涂敷合為一個(gè)工序，在6070的情況下涂敷最好，但4080的溫度范圍也能實(shí)現(xiàn)。此時(shí)，發(fā)明人可以只公開4080的溫度范圍，而不用明確說明6070溫度范圍，即相當(dāng)于隱含了技術(shù)秘密。這種情況下保留技術(shù)秘密是可以的。技術(shù)交底

21、書中其他需要注意的問題 但為了擴(kuò)大保護(hù)范圍，公開的溫度范圍是0200，則可能出現(xiàn)公開不充分。因?yàn)槿绻F(xiàn)有技術(shù)的涂敷是在室溫狀態(tài)，發(fā)明的溫度范圍包括室溫，審查員就會質(zhì)疑。此外，如果溫度很重要，而在技術(shù)交底書中對溫度只字不提，用諸如“一定的溫度下”等描述方式，這樣的隱含就很可能使技術(shù)方案公開不充分。 技術(shù)交底書中其他需要注意的問題 2、清楚、前后一致從現(xiàn)有技術(shù)出發(fā)，明確反映出發(fā)明想要做什么和如何去做。圍繞一個(gè)主題，從背景技術(shù)引出問題，問題/方案/效果之間的邏輯關(guān)系：問題與方案相互呼應(yīng)；方案與效果有因果關(guān)系。技術(shù)交底書中其他需要注意的問題 2、清楚、前后一致通常，對具體實(shí)現(xiàn)過程而言，既會有現(xiàn)有技術(shù)部分，也會有本發(fā)明改進(jìn)的部分。例如，一個(gè)方法包括步驟ABCD，步驟A 、D與現(xiàn)有技術(shù)實(shí)現(xiàn)過程中的步驟相同，而步驟B、C以及有可能增加的步驟E、F是本發(fā)明所改進(jìn)和增加的部分。對現(xiàn)有技術(shù)部分，可略寫，如簡單提步驟的名稱，但略寫并不等于完全忽略不寫，