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文檔簡介
1、材料現代測試技術模擬試題IV( 10 分)1、 對樣品進行表面形貌分析時應使用()。A.X射線衍射(XRD) B.透射電鏡(TEM)C.掃描電鏡(SEM)2、X射線連續譜中存在一個短波極限,其波長入=()。A.1.24/V( 千伏 ) nm B. 12.4/V( 千伏 ) nm C.12.4/V 伏 nm3、電子槍中給電子加速的稱為()。A.陽極 B.陰極 C.柵極4、倒易點陣中的某二維平面代表的是正點陣中的()。A.一個晶帶B.一個晶面C. 一組晶面。5、在入射電子束作用下被轟擊出來并離開樣品表面的樣品的核外電子叫做)。A.二次電子B.背散射電子C.俄歇電子二、填空題:( 20 分)1 、
2、特征 X 射線是由元素原子中() 引起的, 因此各元素都有特定的()和( )電壓,特征譜與原子序數之間服從()定律。2、布拉格公式入=2dsin 8中人表示(),d表示(),8表示()。3 、利用衍射卡片鑒定物相的主要依據是(),參考()。4 、 TEM 中物鏡的作用是(),中間鏡在成像時的作用是(),在衍射時的作用是(5、等厚條紋是衍射強度隨試樣()的變化而發生周期性變化引起的,圖像特征為()的條紋。6、真正能夠保持其特征能量而逸出表面的俄歇電子僅限于表層以下()nm 的深度范圍。7、電子探針顯微分析的基本分析方法有()、()和()。8、當 X 射線照射在一個晶體時,產生衍射的必要條件是()
3、 ,而產生衍射的充要條件是()。三、判斷題:(A.是B.否)(1。分)1 、 當 X 射線管電壓低于臨界電壓時僅可以產生連續X 射線; 當 X 射線管電壓超過臨界電壓就可以產生特征X 射線和連續X 射線。 ()2、布拉格方程的物理意義是指原子面對 X射線的反射并不是任意的,只有當入、8 fid三者之間滿足此方程時才能發生反射。()3、 面心點陣的系統消光規律是H+k+L 為偶數時出現反射,而 H+K+L 為奇數不出現反射。()4、電子衍射和X 射線衍射一樣必須嚴格符合布拉格方程。()5、掃描電鏡的表面形貌襯度是采用背散射電子形成的電子像。()四、計算題:( 20 分)1 、 求出立方晶系中32
4、1 晶向與401 晶向的夾角。2、銅的晶格常數為0.3608nm ,計算( 311 )面的面間距。五、問答題:( 40 分)1 、具有 fcc 結構晶體的(100) 、 ( 110) 、 ( 111 ) 、 ( 200) 、 ( 210) 、 ( 311 )對應的倒易點在衍射時都有可能落在反射球面上,請問, 哪些面將出現反射?為什么?2、a-Fe屬立方晶系,點陣參數a=0.2866nm 。如用 CrK aX射線(入=0.2291nm )照射,試求前三個衍射線的指數及衍射的掠射角。3、 何謂板織構?織構的表示方法有哪些?4、 簡述衍襯成像原理。材料現代測試技術模擬試題IV參考答案一、選擇題:1
5、、 C ;2、 A;3、 A ;4、 A ;5、 A ;二、填空題:1、 、 電子躍遷,結合能,激發,莫賽萊;2、 入射線波長,衍射(干涉)面的面間距,掠射角;3、 d 值,強度;4、 形成第一幅高分辨電子放大像或電子衍射花樣,將物鏡的電子像再放大,將物鏡的衍射花樣投倒像面上;5、 厚度,明暗相間;6、 1 ;7、點分析,線分析,面分析;8、滿足布拉格方程;同時滿足結構因數不等于零;三、判斷題:1、A; 2、A; 3、B; 4、B; 5、B;四、計算題:1、帶入立方系夾角公式得cos 9=0.842故其夾角為9 =32.5 °222_ _222_2、d a/Vh k l0.3608n
6、m/J3 1 10.1087nm五、問答題:1、(111)、(200)、(311)將出現反射,因為對于fcc結構的面指數需為 全奇或全偶才出現反射。2、a-Fe為體心立方晶格,故前三個衍射線的指數平方和為 2、4、6,其指 數為110、200和211 ,而110的掠射角為34.4、200掠射角為52.9 及211的掠射角為77.8。3、材料中晶粒的某一晶面傾向于與材料的特征外觀平面相平行, 同時某一品 向傾向于平行該材料的特征外觀方向, 即為板織構。表示方法有取向分布圖、極 圖和反極圖三種。4、設薄膜有A、B兩晶粒,B內的某(hkl)晶面嚴格滿足Bragg條件,或B 晶粒內滿足“雙光束條件”,則通過(hkl)衍射使入射強度I。分解為 底和IO-Ihkl 兩部分。A晶粒內所有晶面與Bragg角相差較大,不能產生衍射。在物鏡后焦
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