1、反滲透膜清洗方案1、反滲透膜元件的污染與清洗在正常運(yùn)行一段吋間后，反滲透膜元件會(huì)受到給水中可能存在的懸浮物或難溶 鹽的污染，這些污染中最常見的是碳酸鈣沉淀、硫酸鈣沉淀、金屬（鐵、鎰、銅、銀、 鋁等）氧化物沉淀、硅沉積物、無機(jī)或有機(jī)沉積混合物、nom天然有機(jī)物質(zhì)、合成 有機(jī)物（如：阻垢劑/分散劑，陽離子聚合電解質(zhì)）、微生物（藻類、霉菌、真菌）等污 染。污染性質(zhì)和污染速度取決于各種因素，如給水水質(zhì)和系統(tǒng)冋收率。通常污染是 漸進(jìn)發(fā)展的，如不盡早控制，污染將會(huì)在相對(duì)較短的時(shí)間內(nèi)損壞膜元件。當(dāng)膜元件 確證已被污染，或是在長(zhǎng)期停機(jī)z前，或是作為定期日常維護(hù)，建議對(duì)膜元件進(jìn)行 清洗。當(dāng)反滲透系統(tǒng)（或裝置）出

2、現(xiàn)以下癥狀時(shí)，需要進(jìn)行化學(xué)清洗或物理沖洗：在正常給水壓力下，產(chǎn)水量較正常值下降1015%；為維持正常的產(chǎn)水量，經(jīng)溫度校正后的給水壓力增加1015%；產(chǎn)水水質(zhì)降低1015%,透鹽率增加1015%；給水壓力增加1015%；系統(tǒng)各段之間壓差明顯增加。保持穩(wěn)定的運(yùn)行參數(shù)主要是指產(chǎn)水流量、產(chǎn)水背壓、冋收率、溫度及tds。如 果這些運(yùn)行參數(shù)起伏不定，海德能公司建議檢查是否有污染發(fā)生，或者在關(guān)鍵運(yùn)行 參數(shù)冇變化的前捉下，反滲透的實(shí)際運(yùn)行是否正常。定時(shí)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)整體性能是確認(rèn)膜元件是否已發(fā)生污染的基本方法。污染對(duì)膜元 件的影響是漸進(jìn)的，并口影響的程度取決于污染的性質(zhì)。表1“反滲透膜污染特征及 處理方法'

3、'列出了常見的污染現(xiàn)象和相應(yīng) 的 處理方法。已受污染的反滲透膜，清洗周期根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)實(shí)際情況而定。止常的清洗周期是<3-12個(gè)月一次。當(dāng)膜元件僅僅是發(fā)生了輕度污染時(shí)，重要的是清洗膜元件。重度污染會(huì)因阻礙 化學(xué)藥劑深入滲透至污染層，影響清洗效果。清洗何種污染物以及如何清洗要根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)污染情況而進(jìn)行。對(duì)于幾種污染同時(shí) 存在的復(fù)雜情況，清洗方法是采用低ph和高ph的清洗液交替清洗（應(yīng)先低ph后 高ph值清洗）。表1反滲透膜污染特征及處理方法污染種類可能發(fā)生之處壓降給水壓力鹽透過率金屬氧化物(fe> mn> cu> ni>zn)一段，最前端膜元件迅速增加迅速增加迅速增加

4、膠體（有機(jī)和無機(jī)混合物）一段，最前端膜元件逐漸增加逐漸增加輕度增力口礦物垢（ca、mg、ba、sr）末段，最末端膜元件適度增加輕度增加一般增加聚合硅沉積物末段，最末端膜元件-般增加增加一般增力口生物污染任何位置，通常前端膜元件明顯增加 明顯增加一般增力口有機(jī)物污染（難溶nom）所有段逐漸增加1增加降低阻垢劑污染二段最嚴(yán)重一般增力ii 增加一般增力口氧化損壞（c12、0 zone、kmno4）一段最嚴(yán)重一般增加降低增加水解損壞（超岀ph范圍）1所有段-般降低降低增加磨蝕損壞（碳粉）一段最嚴(yán)重般降低降低增加o型圈滲漏（內(nèi) 連接管或適配器）:無規(guī)則，通常在給水適配器處一般降低一般降低增加膠圈滲漏（產(chǎn)

5、水背壓造成）一段最嚴(yán)重一般降低一般降低增加i膠圈滲漏（清洗 或沖洗時(shí)關(guān)閉產(chǎn)水最末端元件增加（污染初期和壓差升高）增加閥造成）2、污染情況分析碳酸鈣垢：碳酸鈣垢是一種礦物結(jié)垢。當(dāng)阻垢劑/分散劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障吋，或是加酸 ph調(diào)節(jié)系統(tǒng)出故障而引起給水ph增高時(shí)，碳酸鈣垢有可能沉積出來。盡早地檢測(cè) 碳酸鈣垢，對(duì)于防止膜層表而沉積的品體損傷膜元件是極為必要的。早期檢測(cè)出的 碳酸鈣垢可由降低給水的ph值至35,運(yùn)行12小時(shí)的方法去除。對(duì)于沉積時(shí)間 長(zhǎng)的碳酸鈣垢，可用低ph值的檸檬酸溶液清洗去除。硫酸鈣、硫酸頓、硫酸總垢：硫酸鹽垢是比碳酸鈣垢碩很多的礦物質(zhì)垢，且不易去除。硫酸鹽垢可在阻垢劑 /分散劑添加

6、系統(tǒng)出現(xiàn)故障或加硫酸調(diào)節(jié)ph時(shí)沉積出來。海徳能公司認(rèn)為盡早地檢 測(cè)硫酸鹽垢對(duì)丁防止膜層表面沉積的品體損傷膜元件是極為必耍的。硫酸傾和硫酸 鋰垢較難去除，因?yàn)樗鼈儙缀踉谒械那逑慈芤褐须y以溶解，所以，應(yīng)加以特別的 注意以防止此類結(jié)垢的生成。金屬氧化物/氫氧化物污染：典型的金屬氧化物和金屬氫氧化物污染為鐵、鋅、猛、銅、鋁等。這種垢的形 成導(dǎo)因可能是裝置管路、容器（罐/槽）的腐蝕產(chǎn)物，或是空氣中氧化的金屬離子、氯、 臭氧、鉀、高鎰酸鹽，或是由在預(yù)處理過濾系統(tǒng)中使用鐵或鋁助凝劑所致。聚合硅垢:硅凝膠層垢由溶解性硅的過飽和態(tài)及聚合物所致，且非常難以去除。需要注意 的是，這種硅的污染不同于硅膠體物的污染。

7、硅膠體物污染可能是由與金屈氫氧化 物締合或是與有機(jī)物締合而造成的。硅垢的去除很艱難，可采用傳統(tǒng)的化學(xué)清洗方 法。如果傳統(tǒng)的方法不能解決這種垢的去除問題，請(qǐng)與海德能公司技術(shù)部門聯(lián)系。 現(xiàn)有的化學(xué)清洗藥劑，如氟化氫較，已在一些項(xiàng)口上得到了成功的使用，但使用時(shí) 須考慮此方法的操作危害和對(duì)設(shè)備的損壞，加以防護(hù)措施。膠體污染：膠體是懸浮在水屮的無機(jī)物或是有機(jī)與無機(jī)混合物的顆粒，它不會(huì)由于自身重 力而沉淀。膠體物通常含有以下一個(gè)或多個(gè)主要組份，如：詼、鋁、硅、硫或有機(jī) 物。非溶性的天然有機(jī)物污染(nom)：非溶性天然有機(jī)物污染(nomnatural organic matter)通常是由地表水或深井水屮的

8、營(yíng)養(yǎng)物的分解而導(dǎo)致的。冇機(jī)污染的化學(xué)機(jī)理很復(fù)雜，主要的冇機(jī)組份或 是腐植酸，或是灰黃霉酸。非溶性nom被吸附到膜表面可造成ro膜元件的快速 污染，一旦吸收作用產(chǎn)生，漸漸地結(jié)成凝膠或塊狀的污染過程就會(huì)開始。微生物沉積：有機(jī)沉積物是由細(xì)菌粘泥、真菌、霉菌等生成的，這種污染物較難去除，尤其 是在給水通路被完全堵塞的情況下。給水通路堵塞會(huì)使清潔的進(jìn)水難以充分均勻的 進(jìn)入膜元件內(nèi)。為抑制這種沉積物的進(jìn)一步生長(zhǎng)，重要的是不僅要清潔和維護(hù)ro 系統(tǒng)，同時(shí)還要清潔預(yù)處理、管道及端頭等。對(duì)膜元件采用氧化性殺菌時(shí)，請(qǐng)與海 德能公司技術(shù)支持部門聯(lián)系，使用認(rèn)可的殺菌劑。3、清洗液的選擇和使用選擇適宜的化學(xué)清洗藥劑及合

9、理的清洗方案涉及許多因索。首先要與海徳能公 司的服務(wù)人員取得聯(lián)系，確定主要的污染物，選擇合適的化學(xué)清洗藥劑。有時(shí)針對(duì) 某種特殊的污染物或污染狀況，要使用ro藥劑制造商的專用化學(xué)清洗藥劑，并且 在應(yīng)用吋要遵循藥劑供應(yīng)商提供的產(chǎn)品性能及使用說明。有的吋候可針對(duì)具體情 況，從反滲透裝置取出已發(fā)生污染的單支膜元件進(jìn)行測(cè)試和清洗試驗(yàn)，以確定合適 的化學(xué)藥劑和清洗方案。為達(dá)到最佳的清洗效果，有時(shí)會(huì)使用一些不同的化學(xué)清洗約劑進(jìn)行組合清洗。典型的程序是先在低ph值范圍的情況下進(jìn)行清洗，去除礦物質(zhì)垢污染物，然 后再進(jìn)行高ph值清洗，去除有機(jī)物。有些清洗溶液中加入了洗滌劑以幫助去除嚴(yán) 重的生物和冇機(jī)碎片垢物，同時(shí)

10、，可用其它藥劑如edta螯合物來輔助去除膠體、 有機(jī)物、微生物及硫酸鹽垢。需要慎重考慮的是如果選擇了不適當(dāng)?shù)幕瘜W(xué)清洗方法和藥劑，污染情況會(huì)更加 惡化。4、化學(xué)清洗約劑的選擇及使用準(zhǔn)則選用的專用化學(xué)藥劑，首先要確保其已由海徳能公司認(rèn)定并符合用于海徳能公 司膜元件的要求。跖劑供應(yīng)商的指導(dǎo)健議不應(yīng)與海德能公司此技術(shù)服務(wù)公告中推薦 的清洗參數(shù)和限定的化學(xué)藥劑種類相沖突；如果正在使用指定的化學(xué)藥劑，要確認(rèn)其已在此海德能公司技術(shù)服務(wù)公告屮列 岀，并符合海徳能公司膜元件的要求（咨詢海德能公司）;采用組合式方法完成清洗工作，包括適宜的清洗ph、溫度及接觸時(shí)間等參數(shù), 這將會(huì)有利于增強(qiáng)清洗效果；在推薦的最佳溫度

11、下進(jìn)行清洗，以求達(dá)到最好的清洗效率和延長(zhǎng)膜元件壽命的 效果；以最少的化學(xué)藥劑接觸次數(shù)進(jìn)行清洗，對(duì)延續(xù)膜壽命有益；謹(jǐn)慎地由低至高調(diào)節(jié)ph值范圍，可延長(zhǎng)膜元件的使用壽命。ph范圍為212（勿 超出）；典型地、最冇效的清洗方法是從低ph至高ph溶液進(jìn)行清洗。但對(duì)油污染膜元 件的清洗不能從低ph值開始，因?yàn)橛驮诘蚿h時(shí)會(huì)固化；清洗和沖洗流向應(yīng)保持相同的方向:當(dāng)清洗多段反滲透裝置時(shí)，最有效的清洗方法分段清洗，這樣可控制最佳清洗流速和清洗液濃度，避免前段的污染物進(jìn)入下游膜元件；用較高ph產(chǎn)品水沖洗洗滌劑可減少泡沐的產(chǎn)生；如果系統(tǒng)已發(fā)生生物污染，就要考慮在清洗之后，加入一個(gè)殺菌劑化學(xué)清洗步 驟。殺菌劑必須在

12、清洗后立即進(jìn)行，也可在運(yùn)行期間定期進(jìn)行（如一星期一次）連續(xù) 加入一定的劑量。必須確認(rèn)所使用的殺菌劑與膜元件相容，不會(huì)帶來任何對(duì)人的健 康有害的風(fēng)險(xiǎn)，并能有效地控制生物活性，且成本低；為保證安全，溶解化學(xué)藥品時(shí)，切記要慢慢地將化學(xué)藥劑加入充足的水中并同 時(shí)進(jìn)行攪拌；從安全方面考慮，不能將酸與苛性（腐蝕性）物質(zhì)混合。在要使用下一種溶液z 前，從r0系統(tǒng)中徹底沖洗干凈滯留的前一種化學(xué)清洗溶液。5、清洗液的選擇表2常規(guī)清洗液配方提供的清洗溶液是將一定重量（或體積）的化學(xué)藥晶加入到 100加侖（379升）的潔凈水屮（ro產(chǎn)品水或不含游離氯的水）。溶液是按所用化學(xué)藥 品和水量的比例配制的。溶劑是ro產(chǎn)品水

13、或去離了水，無游離氯和硬度。清洗液 進(jìn)入膜元件之前，要求徹底混和均勻，并按照廿標(biāo)值調(diào)ph值且按耳標(biāo)溫度值穩(wěn)定 溫度。常規(guī)的清洗方法基于化學(xué)清洗溶液循環(huán)清洗一小吋和一種任選的化學(xué)藥劑浸 泡一小時(shí)的操作而設(shè)定的。表2常規(guī)清洗液配方（以100加侖，即379升為基準(zhǔn)）清洗液主要組份藥劑量清洗液ph值最高 清洗液溫 度1檸檬酸（100%粉末）17.0 磅(7.7公斤)用氨水調(diào)節(jié)ph 至 3.04.040 °c2鹽酸（hc1）（密 度22波美度或濃度 36%）0.47加侖(18刑緩慢加入鹽 酸調(diào)節(jié)ph至2.5, 調(diào)高ph用氮氧化 鈉35c3氫氧化鈉（100%粉末）或（50%液體）0.83 磅（0

14、.38 公斤）0.13 加侖（0.5升）緩慢加入氫 氧化鈉調(diào)節(jié)ph至 11.5,調(diào)低ph吋 用鹽酸3(rc6、常規(guī)清洗液介紹溶液12.0%（w）檸檬酸（c6h8o7）的低ph清洗液。用于去除無機(jī)鹽垢（如碳酸鈣垢、硫 酸鈣、硫酸鎖、硫酸總垢等）、金屈氧化物/氫氧化物（鐵、猛、銅、鎳、鋁等）及無機(jī) 膠體十分有效。溶液20.5%（w）鹽酸低ph清洗液，主要用于去除無機(jī)物垢（如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫 酸鎖、硫酸總垢等），金屬氧化物/氫氧化物（鐵、猛、銅、鐮、鋁等），及無機(jī)膠體。 這種清洗液比溶液1要強(qiáng)烈些，因?yàn)辂}酸（hc1）是強(qiáng)酸。溶液30.1%（w）m氧化鈉高ph清洗液。用于去除聚合硅垢。這一洗液是一

15、種較為強(qiáng)烈 的堿性清洗液。7、r0膜元件的清潔和沖洗程序r0膜元件可置于壓力容器屮，在高流速的情況下，用循環(huán)的清潔水（ro產(chǎn)品 水或不含游離氯的潔凈水）流過膜元件的方式進(jìn)行清洗。ro的清洗程序完全取決于 具體情況，必要時(shí)更換用于循環(huán)的清潔水。r0膜元件的常規(guī)清洗程序如下：在60psi（4bar）或更低壓力條件下進(jìn)行低壓沖洗，即從清洗罐中（或相當(dāng)?shù)乃矗?向壓力容器屮泵入清潔水然后排放掉，運(yùn)行幾分鐘。沖洗水必須是潔凈的、去除碩 度、不含過渡金屈和余氯的ro產(chǎn)品水或去離了水。在清洗罐中配制特定的清洗溶液。配制用水必須是去除碩度、不含過渡金屬和 余氯的r0產(chǎn)品水或去離子水。溫度和ph應(yīng)調(diào)到所耍求的值

16、。啟動(dòng)清洗泵將清洗液泵入膜組件內(nèi)，循環(huán)清洗約一小時(shí)或是要求的時(shí)間（咨詢 海徳能技術(shù)人員）。在起始階段，清洗液返回至r0清洗罐z前，將最初的回流液 排放掉，以免系統(tǒng)內(nèi)滯留的水對(duì)清洗溶液造成稀釋。在最初的5分鐘內(nèi)，慢慢地將 流速調(diào)節(jié)到最人設(shè)計(jì)流速的1/3o這可以減少出污物的人量沉積而造成的潛在污堵。 在第二個(gè)5分鐘內(nèi)，增加流速至最大設(shè)計(jì)流速的2/3,然后，再增加流速至設(shè)計(jì)的 最大流速值。如果需要，當(dāng)ph的變化大于1,就要重新調(diào)冋到原數(shù)值。根據(jù)需耍，可交替采用循環(huán)清洗和浸泡程序。浸泡時(shí)間建議選擇1至8小時(shí)（請(qǐng) 咨詢海德能公司）。耍謹(jǐn)慎地保持合適的溫度和ph。化學(xué)清洗結(jié)束之后，要用清潔水（去除皺度、不

17、含金屬離子如鐵和氯的ro產(chǎn)品 水或去離子水）進(jìn)行低壓沖洗，從清洗裝置/部件中去除化學(xué)藥劑的殘留部分，排放 并沖洗清洗罐，然后再用清潔水完全注滿清洗罐以作沖洗z用。從清洗罐中泵入所 有的沖洗水沖洗壓力容器至排放。如果需要，可進(jìn)行第二次清洗。-旦ro系統(tǒng)已用貯水罐中的清潔水完全沖洗后，就可用預(yù)處理給水進(jìn)行最終 的低壓沖洗。給水壓力應(yīng)低于60psi（4bar）,最終沖洗持續(xù)進(jìn)行直至沖洗水干凈，11 不含任何泡沫和清洗劑殘余物。通常這需要1560分鐘。操作人員可用干凈的燒瓶 取樣，搖勻，監(jiān)測(cè)排放口處沖洗水屮洗滌劑和泡沫的殘留情況。洗液的去除情況可 用測(cè)試電導(dǎo)的方法進(jìn)行，如沖洗水至排放出水的電導(dǎo)在給水電導(dǎo)的1020%以內(nèi)， 可認(rèn)為沖洗已接近終點(diǎn)；ph表也可用于測(cè)定，來比較沖洗水至排放出水與給水的 ph值是否接近。一旦所有級(jí)段己清洗干凈，且化學(xué)藥劑也已沖洗掉，rout重新開始置于運(yùn)行 程序屮，但初始的產(chǎn)品水耍進(jìn)行排放并監(jiān)測(cè)，直至r0產(chǎn)水可滿足工藝要求（電導(dǎo)、 ph值等）。為得到穩(wěn)定的ro產(chǎn)水水質(zhì)，這一段恢復(fù)時(shí)間有時(shí)需要從幾小時(shí)到幾天, 尤其是在經(jīng)過高ph清洗后。8、反滲透膜的化學(xué)清洗與水沖洗清洗時(shí)將清洗溶液以低壓大流量在膜的高壓側(cè)循環(huán)，此時(shí)膜