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文檔簡介

氮化硅薄膜

----制備技術介紹什么叫做光學薄膜？所謂光學薄膜，首先它應該是薄的然后它應該會產生一定光學效應的那么要薄到什么程度呢？定性的講：它的厚度應該和入射光波長可以相 比擬的物理意義上講：能引起光的干涉現象的膜層與鍍膜技術密切相關的產業眼鏡鍍膜----AR幕墻玻璃----AR濾光片液晶領域----ITO膜車燈、冷光鏡、舞臺燈光濾光片光通信領域：DWDM、光纖薄膜器件紅外膜激光領域----激光反射腔高反射膜CD、DVD驅動器投影顯示數碼領域氮化硅薄膜制備技術介紹物理氣相沉積(PVD)法PVD主要的方法有真空蒸（Vacuumevaporation）、濺射鍍膜（Vacuumsputterng）、離子鍍（Tonplating）化學氣相沉積(CVD)法CVD主要的方法有高溫熱化學氣相沉積(HTCVD)法、等離子體化學氣相沉積(PECVD)法、光化學氣相沉積(PCVD)法

真空蒸鍍真空蒸鍍是利用電阻加熱、高頻感應加熱或高能束（電子束、激光束、離子束等）轟擊使鍍膜材料轉化為氣相而沉積到基體表面的一種成熟技術。廣泛應用與Au、Ag、Cu、Ni、Cr等半導體材料及電阻材料成膜，除特殊材料外，差不多都能滿足鍍膜要求。濺射鍍膜濺射鍍膜是利用濺射現象而成膜的方法。濺射鍍膜是在充有一定氬氣的真空條件下，采用輝光技術，將氬氣電離產生氬離子，氬離子在電場力的作用下加速轟擊陰極，使陰極材料（鍍膜材料）被濺射下來，沉積到工件表面形成薄膜的方法。濺射鍍膜又分為直流濺射、射頻濺射和磁控濺射。等離子體化學氣相沉積(PECVD)法

PECVD法由于其靈活性、沉積溫度低和重復性好而擴大了CVD法的應用范圍，特別是提供了在不同基體上制備各種薄膜的可能性。由于它適應了當前大規模集成電路生產工藝向低溫工藝方向發展的趨勢，越來越引起學術界的重視，成為制備氮化硅薄膜最常用的方法。光化學氣相沉積(PCVD)法PCVD法是一種低溫制備氮化硅薄膜的新工藝，它利用紫外光或激光對反應氣體進行光致分解，在低溫(<250℃)下沉積得到固態薄膜。PCVD法避免了高能粒子對薄膜表面的轟擊損傷，膜層致密光滑，也避免了高溫、

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