標準解讀

《GB/T 8760-2006 砷化鎵單晶位錯密度的測量方法》相較于1988年的版本進行了多方面的更新和完善。在2006年版的標準中，對于術語定義部分做了更加明確和詳細的描述，確保了術語的一致性和準確性。此外，新標準還增加了對實驗環境的要求，比如溫度、濕度等條件的具體規定，以減少外部因素對測試結果的影響。

在樣品準備方面，《GB/T 8760-2006》提供了更為詳盡的操作指南，包括切割、拋光以及清洗等步驟的技術要求，這有助于提高不同實驗室之間數據的一致性。同時，對于位錯蝕坑腐蝕液的選擇與配比也給出了更具體的建議，并且新增了一些可選的化學試劑，為研究人員提供了更多靈活性。

關于檢測過程，《GB/T 8760-2006》引入了先進的顯微鏡技術用于觀察砷化鎵單晶表面形成的蝕坑，提高了位錯密度測定的精確度。該版本還特別強調了圖像處理軟件的應用，在自動計數位錯數量時能夠有效減少人為誤差，使得數據分析更加客觀可靠。


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  • 被代替
  • 已被新標準代替，建議下載現行標準GB/T 8760-2020
  • 2006-07-18 頒布
  • 2006-11-01 實施
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文檔簡介

ICS77.040.01H17中華人民共和國國家標準GB/T8760—2006代替GB/T8760—1988砷化家單晶位錯密度的測量方法Galliumarsenidesinglecrystal-Determinationofdislocationdensity2006-07-18發布2006-11-01實施中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局發布中國國家標準化管理委員會

GB/T8760—2006本標準是對GB/T8760-1988《砷化鑲單品位錯密度的測量方法》的修訂本標準自實施之日起代替GB/T8760—1988。本標準與原標準相比主要有以下變動：-修改了原來表述位錯密度的術語解釋；-重新制作了部分圖片·改善圖片質量;原標準規定.腐蝕位錯坑時.熔化的氫氧化鉀的溫度要保持在400℃。實驗證明.只要熔化的氫氧化鉀呈現沒清狀態,選擇適當的腐蝕時間.都能得到清晰的腐蝕坑，故取消了要求熔化的氫氧化鉀溫度保持在400℃的嚴格限制。本標準由中國有色金屬工業協會提出。本標準由全國有色金屬標準化技術委員會歸口。本標準起草單位：北京有色金屬研究總院本標準主要起草人：王彤涵。本標準由全國有色金屬標準化技術委員會負責解釋本標準所代替標準的歷次版本發布情況為：GB/T8760-1988。

GB/T8760—2006砷化家單晶位錯密度的測量方法范范圍本標準適用于位錯密度為(0～100000)個/cm2的砷化鏢單品的位錯密度的測量。檢測面為（111)面和（100}面。2術語和定義下列術語和定義適用于本標準：位錯dislocation單品體中部分原子受應力作用產生滑移。已滑移部分與未滑移部分的分界線稱為位錯線，簡稱位錯22位錯密度dislocationdensity單位體積內位錯線的總長度稱為位錯密度（cm/cm)。在實際應用中.通常以單位表面積內形成位借腐蝕坑的個數(個/cm)代表位錯蜜度。本標準中位錯密度指單位表面積內形成位錯腐蝕坑的個數。3原理采用擇優化學腐蝕技術顯示位錯。品體中位錯線周圍的品格發生畸變，當用某些化學腐蝕劑腐蝕晶體表面時,在晶體表面上的位錯線露頭處，腐蝕速度較快,因而容易形成由某些低指數面組成帶棱角的具有特定形狀的腐蝕坑。在顯微鏡下觀察并按一定規則統計這些具有特定形狀的腐蝕坑，可得到位錯密度數值。化化學試劑4硫酸(ol.84g/mL）,濃度95%～98%，優級純A2過氧化氫(ol.00g/mL)濃度30%.優級純4.3氫氧化鉀(o78.2g/L）,濃度78.2%，優級純R試樣制備5.1定向切割從單品鍵的待測部分經定向后.切取厚度大于0.5mm的單品片.品向偏離要求小于85.2研磨用302*金剛砂(或相當顆粒度的金剛砂)水漿研磨,使表面平整。用水清洗干凈后,再用306"金剛砂(或相當顆粒度的金剛砂)水漿研磨，使表面光潔無劃痕，然后用水清洗干凈。5.3化學拋光將硫酸(H.SO,）、過氧化氫(H.O.）和去離子水(H.O)按體積比3：1：1配制成拋光液·然后

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