標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 31568-2015 熱噴涂熱障ZrO2涂層晶粒尺寸的測定 謝樂公式法》是一項(xiàng)國家標(biāo)準(zhǔn),專門針對(duì)通過熱噴涂技術(shù)制備的氧化鋯(ZrO2)熱障涂層材料進(jìn)行晶粒尺寸測量的方法進(jìn)行了規(guī)定。該標(biāo)準(zhǔn)采用了謝樂公式作為計(jì)算晶粒大小的基礎(chǔ),適用于評(píng)估這些涂層在不同條件下的微觀結(jié)構(gòu)特性。
標(biāo)準(zhǔn)首先明確了適用范圍,指出其主要應(yīng)用于采用X射線衍射技術(shù)來分析經(jīng)過熱噴涂工藝形成的ZrO2基熱障涂層樣品。接著詳細(xì)描述了試驗(yàn)所需的基本設(shè)備和材料要求,包括但不限于X射線衍射儀及其操作參數(shù)設(shè)定、樣品準(zhǔn)備過程等。此外,還特別強(qiáng)調(diào)了如何正確采集數(shù)據(jù)以及處理過程中可能遇到的問題與解決辦法。
對(duì)于測試程序部分,《GB/T 31568-2015》提供了詳盡的操作指南,從樣品選取到最終結(jié)果計(jì)算都有明確指示。它指導(dǎo)用戶如何根據(jù)XRD譜圖中特定峰位寬化程度應(yīng)用謝樂方程估算平均晶粒直徑,并對(duì)影響因素如儀器分辨率、樣品表面狀態(tài)等給出了具體考量建議。
最后,在報(bào)告編寫方面,該標(biāo)準(zhǔn)也給出了相應(yīng)的格式要求,確保所有實(shí)驗(yàn)細(xì)節(jié)、計(jì)算方法及最終結(jié)論能夠被清晰準(zhǔn)確地記錄下來,以便于同行評(píng)審或后續(xù)研究參考使用。
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....
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2015-05-15 頒布
- 2016-01-01 實(shí)施



文檔簡介
ICS2522020
A29..
中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)
GB/T31568—2015
熱噴涂熱障ZrO2涂層
晶粒尺寸的測定謝樂公式法
Standardtestmethodfordeterminationof
crystallitesizeofZrO2coatingsbyScherrerequation
2015-05-15發(fā)布2016-01-01實(shí)施
中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布
中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
GB/T31568—2015
前言
本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草
GB/T1.1—2009。
本標(biāo)準(zhǔn)由中國機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)提出
。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國金屬與非金屬覆蓋層標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口
(SAC/TC57)。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位中國科學(xué)院上海硅酸鹽研究所
:。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人程國峰黃月鴻阮音捷曾毅宋力昕
:、、、、。
Ⅰ
GB/T31568—2015
熱噴涂熱障ZrO2涂層
晶粒尺寸的測定謝樂公式法
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了應(yīng)用射線衍射謝樂公式法測定熱噴涂熱障涂層試樣中立方四方單斜三種
XZrO2、、
相晶粒尺寸的方法原理測試條件及計(jì)算步驟等
ZrO2、。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于晶粒尺寸在范圍內(nèi)部無不均勻應(yīng)變的試樣
2nm~100nm、。
2術(shù)語和定義
下列術(shù)語和定義適用于本文件
。
21
.
熱障ZrO2涂層thermalbarrierZrO2coatings
采用熱噴涂制備工藝制備的基的涂層材料
ZrO2。
22
.
晶粒crystallite
內(nèi)部分子原子等有規(guī)律排列的微小單晶
、。
23
.
晶粒尺寸crystallitesize
Lhkl
晶粒在hkl晶面法線方向上的平均尺度
()。
24
.
半高寬fullwidthathalfmaximumofpeakprofileFWHM
;
衍射峰峰高極大值一半處的峰寬
。
3方法原理
對(duì)試樣照射射線測量所得到的衍射線假設(shè)試樣中沒有晶體結(jié)構(gòu)的不完整則衍射線的寬化僅
X,,,
由晶粒的細(xì)化引起可利用式謝樂公式計(jì)算晶粒尺寸
,(1)():
Kλ
Lhkl=
βhklθ……(1)
cos
式中
:
Lhkl晶粒在hkl晶面法線方向的平均尺度單位為納米
———(),(nm);
K常數(shù)與βhkl的定義有關(guān)當(dāng)βhkl定義為半高寬時(shí)K
———,。,=0.89;
λ實(shí)驗(yàn)所用的射線波長
———X,0.154056nm;
βhkl由晶粒細(xì)化引起的試樣某hkl晶面衍射峰的半高寬需扣除背底單位為弧度
———()(),(rad);
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