化學制藥工藝學知到智慧樹章節測試課后答案2024年秋浙江工業大學第一章單元測試

化學制藥工藝學是綜合應用有機化學、藥物化學、分析化學、物理化學、化工原理等課程的專門知識，設計和研究經濟、安全、高效的化學藥物合成工藝的一門科學，與生物技術、精細化工等學科相互滲透。（）

A:錯B:對

答案:對用空氣或氧氣替代有毒、有害的化學氧化劑屬于原料的綠色化。（）

A:錯B:對

答案:對綠色生產工藝是合成藥物生產過程中減少三廢的重要途徑。（）

A:對B:錯

答案:對化學制藥工藝學在新藥的研究和開發的同時也要為已投產的藥物不斷改進工藝，特別是要為下列哪類品種研究和開發更先進的新技術和生產工藝？（）

A:高成本B:產量大C:應用面廣D:產量大、應用面廣

答案:產量大、應用面廣下列哪步研究階段要求初步弄清各步化學反應的規律并不斷對所獲得的數據進行分析、整理和優化，寫出工藝研究總結？（）

A:長期試驗B:中試研究C:工業化生產階段D:小試研究

答案:小試研究

第二章單元測試

下列不屬于逆合成分析的基本原則的是（）

A:每一步都有合適又合理的反應機理和方法(能合才能分)B:因為化學合成方法已經發展的十分成熟，可以在各個位點隨意切斷C:整個合成過程做到最大可能的簡化D:有易得的起始原料

答案:因為化學合成方法已經發展的十分成熟，可以在各個位點隨意切斷最理想的工藝路線是（）

A:交叉型B:匯聚型C:直線型D:對稱型

答案:匯聚型下列不屬于藥物合成工藝路線的設計方法的是（）

A:逆合成分析法B:正交法C:模擬類推法D:分子對稱法

答案:正交法逆合成分析時，通常選擇分子骨架中方便構建的碳-雜鍵或碳-碳鍵作為切斷位點。（）

A:錯B:對

答案:對尖頂型反應比較適合工業化生產。（）

A:對B:錯

答案:錯

第三章單元測試

工藝優化的目的是為了對原有的工藝流程進行重組或改進，以達到提高運行效率、降低生產成本、嚴格控制工藝紀律。（）

A:錯B:對

答案:對反應時間越長，反應越充分，越有利于工業化生產。（）

A:對B:錯

答案:錯下列哪類反應不是復雜反應的類型？（）

A:平行反應B:連續反應C:可逆反應D:基元反應

答案:基元反應下列對溶劑的選擇描述不正確的是（）

A:選擇溶劑時首先應當考慮反應后處理及產物純化的簡便性。B:應選擇易揮發的溶劑。C:應盡可能選用等級較低的溶劑。D:一般情況下反應溶劑應該是惰性的，與反應物不發生化學反應。

答案:應選擇易揮發的溶劑。工業上評價催化劑性能的指標主要有（）

A:選擇性、穩定性、形狀B:活性、選擇性、形狀C:活性、穩定性、形狀D:活性、選擇性、穩定性

答案:活性、選擇性、穩定性

第四章單元測試

直接結晶法拆分適合下列哪類物質拆分？（）

A:內消旋體B:外消旋混合物C:外消旋固體溶液D:外消旋化合物

答案:外消旋混合物下列是影響手性藥物生產成本因素的是（）

A:拆分試劑的成本B:A、B、C都對C:起始原料的成本D:拆分或不對稱合成在多步合成中的位置

答案:A、B、C都對無需對對映體混合物進行任何預處理，而直接利用兩種對映體間存在的差異將其分離的方法是（）

A:結晶法拆分B:不對稱合成C:動力學拆分D:色譜分離

答案:結晶法拆分手性分子是在立體化學中不能與鏡像重合的分子。（）

A:錯B:對

答案:對手性源法制備手性藥物中，手性起始原料不能既是手性合成子又是手性輔劑。（）

A:錯B:對

答案:錯

第五章單元測試

以下不是中試放大試驗方法的是（）

A:直接放大法B:相似放大法C:數學模擬放大法D:經驗放大法

答案:直接放大法下列關于中試放大的目的說法正確的是（）

A:驗證、復審和完善實驗室工藝所研究確定的反應條件B:研究選定工業化生產所需設備的結構、材質、安裝及車間布局等C:為臨床前的藥學和藥理毒理學研究以及臨床試驗提供一定量的藥品D:A、B、C都對

答案:A、B、C都對按相似準數相等的原則進行放大的研究方法是（）

A:相似放大法B:數學模擬放大法C:經驗放大法D:計算機放大法

答案:相似放大法中試放大的目的是獲取較確切的消耗定額，為物料衡算、能量衡算、設備設計及生產管理生產提供必要的數據。（）

A:對B:錯

答案:對中試放大研究時，必須注意考查各步反應可能帶來的“三廢”和環境污染問題，并采取相應措施。（）

A:錯B:對

答案:對

第六章單元測試

關于藥廠“三廢”的論述，正確的是（）

A:生物法可以去除廢水中的所有污染物B:綜合治理“三廢”很容易C:“三廢”也是一種“資源”，可回收利用D:僅用物理方法就可徹底治理“三廢”

答案:“三廢”也是一種“資源”，可回收利用目前廢渣的主要處理方法不包括（）

A:熱解法B:化學法C:生物法D:焚燒法

答案:生物法下列不屬于含塵廢氣處理常用除塵方法的是（）

A:洗滌除塵B:機