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文檔簡介

全球市場研究報告全球市場研究報告QYResearch|market@|法工藝濃度監測計可用于精確監測和控制半導體晶圓制造過程中溶液的濃度,這些設備在確保蝕刻、清潔等半導體制程化學溶液濃度的一致性、質量和效率方面發揮著關鍵作用。如上圖表/數據,摘自QYResearch最新報告“全球濕法工藝濃度監測計市場研究報告2024-2030”.當前,全球人工智慧(AI)、高效能運算(HPC)需求的爆發式增長,在前沿技術的開發進度、產品的商業化落地、市場開拓以及產業鏈布局等方面進展加速,有效帶動相關算力、存儲晶片的市場需求。智慧可穿戴設備、智慧家居等新興消費電子產品經過過去兩年的技術改進和生態構建,誕生了諸如AppleVision等熱點產品,成為推動半導體市場增長的重要動力。汽車電子、鋰電、光伏等前期高速增長領域進入技術路線選擇與技術格局重構關鍵視窗期工業互聯網、智慧醫療、智慧城市等新業態、新模式加速轉變,賦濟社會發展,帶來整體半導體市場需求的提升。根據世界積體電路協會(WICA)統計,2024年全球半導體市場規模為6202億美元,同比增長17%。從產品結構來看,預計主要兩個積體電路類別將以兩位數的增長推動市場的增長,邏輯晶片預計增速為21%,記憶體預計增速61.3%。其他品類如分立器件、光電子器件、感測器和類比晶片預計將出2%-10%的負增長。得益于ChatGPT等AI大模型對算力晶片需求的激增,2024年GPU、FPGA、ASIC等邏輯晶片市場增速高于行業平均增速4個百分點。當前市場對Hopper需求依然強勁,AI廠商對Blackwell期待持續增長。隨著AI大模型的反覆運算升級,未來市場對高性能邏輯晶片的需求將持續上升。到2030年,半導體市場規模預計將達到10000億美元,年復合增長率約為8%。濕法工藝濃度監測計是晶圓生產中貫穿蝕刻和清洗等過程的重要設備。用于精確監測各種化學溶液的濃度。在半導體制造過程中,一致的化學濃度對于確保晶圓的質量、可靠性和性能至關重要。根據我們的數據,2024年全球濕法工藝濃度監測計銷量為6600臺,預計到2030年將突破10000臺,復合年增長率約為8.3%。從生產地區來看,以HORIBA、KURABOINDUSTRIES、FujiUltrasonicEngineering等制造商為代表的日本在2024年貢獻了該行業80%以上的產量,其次是歐美地區。從消費地區來看,2024年亞太地區約占全球收入份額的75%,而中國、日本、臺灣和韓國等主要國家將分別占亞太地區收入的27%、25%、21%和18%。目前濕法工藝濃度監測計市場的主要參與者包括HORIBA、Entegris、KURABOINDUSTRIES、ABB、CISemi(CISystems)、FujiUltrasonicEngineering、SensoTech、PIMACS、RhosonicsBV、KxSTechnologies等。2024年,全球TOP5占據90%以上的市場份額,根據我們的分析,短期內行業仍將保持較高的集中度。濕法工藝濃度監測計主要可以分為在線型和離線型,2024年在線型產品市場份額超80%,在線型能實時監測化學溶液的濃度變化,并即時反饋至生產控制系統,是實現半導體生產自動化、智能化的重要一環。半導體濕式清洗環節對于提升產品良率和可靠性具有重要意義,也是濕法工藝濃度監測計的主要應用領域,2024年半導體清洗領域的市場占比近60%。隨著全球科技產業的快速發展,半導體產業作為現代科技的核心驅動力之一,其市場規模將會不斷擴大,這為濕法工藝濃度監測計市場的快速發展提供了有力的驅動。據調研團隊最新報告“全球濕法工藝濃度監測計市場報告2024-2030”顯示,預計2030年全球濕法工藝濃度監測計市場規模將達到2.4億美元,未來幾年年復合增長率CAGR為7.4%。濕法工藝濃度監測計,全球市場總體規模來源:QYResearch機械設備研究中心全球濕法工藝濃度監測計市場前10強生產商排名及市場占有率(基于2023年調研數據;目前最新數據以本公司最新調研數據為準)來源:QYResearch機械設備研究中心。行業處于不斷變動之中,最新數據請聯系QYResearch咨詢。全球范圍內濕法工藝濃度監測計生產商主要包括HORIBA、Entegris、CISemi(CISystems)、ABB、KuraboIndustries等。2023年,全球前四大廠商占有大約91.0%的市場份額。濕法工藝濃度監測計,全球市場規模,按產品類型細分,在線型處于主導地位來源:QYResearch研機械設備研究中心就產品類型而言,目前在線型是最主要的細分產品,占據大約88.2%的份額。濕法工藝濃度監測計,全球市場規模,按應用細分,半導體清洗是最大的下游市場,占有54.6%份額。來源:QYResearch機械設備研究中心就產品應用而言,目前半導體清洗是最

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