化工工藝有機(jī)廢氣處理裝置技術(shù)規(guī)范本文件按照GB/T1.1—2020《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第1部分：標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則》的本文件由全國(guó)廢棄化學(xué)品處置標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC294股份有限公司大連石油化工研究院、中國(guó)礦業(yè)大學(xué)(北京)、濰坊門捷化工有限公司、水木清研生態(tài)環(huán)保(山東)有限公司、江西核工業(yè)興中新材料有限公司、無(wú)棣鑫岳化工集團(tuán)有限公司、山東晟基新本文件主要起草人：郭亞逢、李凱、朱驍、田中成、馮騫、胡敏、王新、竹濤、劉泉軍、彭帥、1化工工藝有機(jī)廢氣處理裝置技術(shù)規(guī)范件，僅該日期對(duì)應(yīng)的版本適用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本(包括所有的修改單)適GB18613電動(dòng)機(jī)能效限定值及能效等級(jí)GB/T40200—2021工業(yè)有機(jī)廢氣凈化裝置性能測(cè)定方法GB50264工業(yè)設(shè)備及管道絕熱工程設(shè)計(jì)規(guī)范HJ/T387環(huán)境保護(hù)產(chǎn)品技術(shù)要求工業(yè)廢氣吸收凈化裝置經(jīng)處理裝置處理后去除的污染物的量與處理之前的量之比，以百分?jǐn)?shù)(%)表示。24.1.1化工工藝有機(jī)廢氣(以下簡(jiǎn)稱“廢氣”)處理裝置工程設(shè)計(jì)前，應(yīng)對(duì)廢氣的產(chǎn)生類別、來(lái)源、4.1.2在選擇廢氣處理裝置時(shí)，應(yīng)首選回收和綜合利用類裝置，綜合考慮油氣回收和熱量回收的可4.1.4在綜合考慮污染源間距、廢氣組成及濃度、廢氣量、廢氣輸送能耗、裝置投資、運(yùn)行成本等4.1.5廢氣處理裝置應(yīng)合理確定設(shè)計(jì)處理量，廢氣集中處理時(shí)的最大氣量應(yīng)按實(shí)際工況分析、疊加4.1.7當(dāng)廢氣中含有腐蝕性介質(zhì)和顆粒物時(shí)，廢氣輸送管道、閥門、過濾器等廢氣過流部件應(yīng)滿足4.1.8廢氣處理裝置配套的廢氣處理工程中管道和設(shè)備的隔熱、保溫應(yīng)滿足GB50264的要求。4.1.9廢氣處理裝置配套的風(fēng)機(jī)、壓縮機(jī)、泵等配備的電機(jī)能效應(yīng)滿足GB18613的要求。4.1.10廢氣處理裝置作為化工工藝有機(jī)廢氣終端處理裝置時(shí)，尾氣排放4.2.2廢氣處理裝置及配套設(shè)施宜靠近廢氣排放源布置。當(dāng)多個(gè)排放源產(chǎn)生的廢氣集中處理時(shí)，應(yīng)4.3.2廢氣處理裝置及配套設(shè)備的防爆泄壓設(shè)計(jì)應(yīng)滿足GB50160、GB/T29304的要求。4.3.3廢氣處理裝置應(yīng)具備短路保護(hù)和接地保護(hù)功能，且應(yīng)滿足GB50054的要求。4.3.4室外廢氣處理裝置及配套設(shè)施防雷、防靜電措施應(yīng)滿足GB50650、GB50160、GB51283的4.3.5廢氣如有達(dá)到爆炸下限的可能時(shí)，處理裝置及配套單元與主體生產(chǎn)裝置之間應(yīng)安裝阻火器，4.3.7宜對(duì)廢氣處理裝置及配套設(shè)施進(jìn)行危險(xiǎn)與可操作性分析(HAZOP分析)。34.4.1排放源壓力較低，不能滿足廢氣處理裝置的進(jìn)氣要求時(shí)，應(yīng)設(shè)置引風(fēng)機(jī)進(jìn)行升壓。引風(fēng)機(jī)宜4.4.2廢氣輸送管道上烴含量分析儀或氧含量分析儀應(yīng)設(shè)置在靠近排放源處，聯(lián)鎖切斷閥宜設(shè)置在4.5.1自動(dòng)控制系統(tǒng)應(yīng)在滿足工藝要求的前提下，運(yùn)行可靠、經(jīng)濟(jì)、節(jié)能、安全，便于日常維護(hù)和4.5.2工藝過程自動(dòng)化控制應(yīng)根據(jù)廢氣種類、處理規(guī)模等因素合理確定，并符合以下要求：a)現(xiàn)場(chǎng)在線監(jiān)測(cè)設(shè)施應(yīng)設(shè)置分析間或分析柜，同時(shí)設(shè)置運(yùn)行、停機(jī)和故障狀態(tài)顯示；b)當(dāng)采用成套設(shè)備但不獨(dú)立配套控制系統(tǒng)時(shí)，成套設(shè)備控制系統(tǒng)應(yīng)并入企業(yè)控制系統(tǒng)進(jìn)行監(jiān)c)當(dāng)采用成套設(shè)備且配套控制系統(tǒng)時(shí)，設(shè)4.6.2廢氣處理裝置及配套設(shè)施的消防通道、防火間距、安全疏散通道的設(shè)計(jì)和消防栓的布置應(yīng)滿4.6.3廢氣處理裝置及配套設(shè)施的移動(dòng)式滅火器的配置應(yīng)滿足GB50140等標(biāo)準(zhǔn)的要求。5.1有機(jī)溶劑吸收法處理裝置適用于非甲烷總烴濃度(以甲烷計(jì))大于30×10°mg/m3的有機(jī)廢氣，或者非甲烷總烴濃度(以甲烷計(jì))小于30×103mg/m3但含有機(jī)硫化合物等的有機(jī)廢氣。5.1.3.1裝置收集廢氣用液環(huán)壓縮機(jī)，排氣壓力不小于0.1MPa。5.1.3.2當(dāng)吸收劑需要進(jìn)行冷卻時(shí)，宜采用螺桿式壓縮機(jī)蒸發(fā)制冷系統(tǒng)。裝置周邊存在可用冷源，45.1.3.4裝置吸收塔，控制空塔氣速不大于1.5m/s、停留時(shí)間不小于3s、塔內(nèi)液氣比不小于3L/m35.1.4.1有機(jī)溶劑吸收劑宜選擇揮發(fā)性低、易取得、化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定、無(wú)毒或低毒物質(zhì)。有機(jī)溶劑吸5.1.4.2設(shè)備的選擇和配置應(yīng)考慮裝置長(zhǎng)周期可靠運(yùn)行的要求。5.1.4.3有機(jī)溶劑吸收法處理裝置其他設(shè)計(jì)應(yīng)滿足HJ/T387的要求。5.1.5.2吸收劑溫度：最低控制溫度高于所選吸收劑凝固點(diǎn)，吸收劑吸收溫度一般控制在-5℃~a)非甲烷總烴(如烷烴、烯烴、芳烴等)濃度(以甲烷計(jì))大于100×103mg/m3時(shí)，設(shè)計(jì)去除率應(yīng)不小于95%;b)有機(jī)硫化物(如甲硫醇、甲硫醚、乙硫醇、乙硫醚、二甲二硫、噻吩等)濃度范圍為10mg/m3~3000mg/m3時(shí)，設(shè)計(jì)去除率應(yīng)不小于99%。5.1.6.2有機(jī)溶劑吸收法處理后尾氣，可5.1.6.3壓力降要求：整體裝置壓力降不超過2kPa,高壓文丘里氏吸收器不受此限制。分的分離與處理(如烴類、苯系物、醇、酯、酮、醚等)。5.2.3.3控制壓縮機(jī)工作液溫度不超過35℃,膜組件使用溫度不超過50℃。5.2.4膜組件要求5b)膜對(duì)正丁烷的透過選擇性應(yīng)不小于對(duì)氮?dú)獾?0倍；e)膜組件設(shè)計(jì)壓力應(yīng)不小于1.0MPa;f)膜組件設(shè)計(jì)處理能力應(yīng)達(dá)到使用工況的100%～110%,并聯(lián)安裝的膜組件應(yīng)至少設(shè)置一個(gè)h)膜組件設(shè)計(jì)正常使用壽命應(yīng)不低于8年。5.2.5.1保障設(shè)計(jì)：液環(huán)式壓縮機(jī)和液環(huán)真空泵應(yīng)設(shè)置出口溫度聯(lián)鎖，旋片式真空泵應(yīng)設(shè)置潤(rùn)滑油5.2.5.2液體介質(zhì)不應(yīng)進(jìn)入膜組件。當(dāng)氣體中含有霧狀、顆粒狀液體或氣溶膠等時(shí)，應(yīng)設(shè)置氣液分5.2.5.3當(dāng)使用液環(huán)真空泵時(shí)，應(yīng)設(shè)置真空泵工作液降溫設(shè)備，如空冷器等。5.2.6.1裝置使用壓力：膜組件進(jìn)氣側(cè)壓5.2.6.2壓縮機(jī)出口溫度：應(yīng)小于60℃。a)烷烴(如異丁烷、戊烷、環(huán)己烷等),單一膜組件設(shè)計(jì)非甲烷總烴(以甲烷計(jì))分離去除率應(yīng)不小于60%;b)烯烴(如乙烯、丙烯、丁二烯、異戊二烯等),單一膜組件設(shè)計(jì)非甲烷總烴(以甲烷計(jì))分離去除率應(yīng)不小于65%;c)苯系物(如苯、甲苯、二甲苯等),單一膜組件設(shè)計(jì)非甲烷總烴(以甲烷計(jì))分離去除率應(yīng)不小于70%。低溫等離子體處理裝置利用外加電壓使被處理氣體分子被激發(fā)，產(chǎn)生包括正離子、負(fù)離子、電適用于中高沸點(diǎn)、低濃度有機(jī)廢氣(如異丁烷、異戊烷、環(huán)己烷、甲苯、二甲苯等)的處理。65.3.3.1氣體過濾器(揮發(fā)性有機(jī)物用或空氣用),過濾網(wǎng)孔徑φ不大于0.30mm。5.3.3.2緩沖塔，宜設(shè)計(jì)為立式，設(shè)計(jì)工作介質(zhì)為揮發(fā)性有機(jī)氣體，設(shè)計(jì)壓力不小于0.3MPa,設(shè)5.3.3.3低溫等離子體反應(yīng)器(包括發(fā)生器、電源與傳輸器件),設(shè)計(jì)壓力不小于0.1MPa,設(shè)計(jì)溫度不低于100℃,反應(yīng)器頂部應(yīng)設(shè)計(jì)泄爆口，泄爆壓力不高于0.04MPa,并應(yīng)設(shè)置底部排凝口。b)電源：防爆等級(jí)應(yīng)達(dá)到或高于ExdeⅡCT4～T6Gb,防爆腔體內(nèi)溫升控制在30℃以內(nèi)；c)傳輸器件：高頻高壓電傳輸線不應(yīng)暴露于易燃易爆環(huán)境，高頻高5.3.3.4臭氧分解塔：采用負(fù)載氧化錳、氧化鈷或其他金屬催化劑的臭氧分解劑，反應(yīng)空速宜低于40000h1。宜設(shè)計(jì)為立式，設(shè)計(jì)工作介質(zhì)為甲烷、乙烷、丙烷、二氧化碳、氮?dú)狻⒍趸颉⒊粞酰O(shè)計(jì)壓力不小于0.3MPa,設(shè)計(jì)溫度不低于140℃。5.3.4.1保障設(shè)計(jì)：裝置應(yīng)設(shè)置安全聯(lián)鎖系統(tǒng)，且應(yīng)控制進(jìn)入裝置的廢氣量低于爆炸下限數(shù)值的25%。5.3.4.2電氣電路設(shè)計(jì)：設(shè)計(jì)輸入整流、濾波、功率因數(shù)校正電路，實(shí)現(xiàn)整流、濾波、功率因數(shù)矯正；設(shè)計(jì)防浪涌電路，防止因瞬時(shí)電流過大造成燒橋逆變電路，所用芯片要求最高耐壓不低于1000V、最大電流不低于250A、可在不超過30kHz的5.3.4.3高壓電氣絕緣設(shè)計(jì)：設(shè)計(jì)高壓絕緣聚四氟乙烯套管或其他具有同等絕緣效果的材料，要求5.3.4.4總烴濃度在線監(jiān)測(cè)設(shè)計(jì)：要求對(duì)進(jìn)入裝置的廢氣中的可燃組分含量分析誤差應(yīng)可控制在±5%內(nèi)，響應(yīng)時(shí)間應(yīng)不大于6x;儀器置于不低于50℃的室外環(huán)境溫度下應(yīng)達(dá)到正常狀態(tài)連續(xù)運(yùn)行不少于30d。5.3.4.5電源防爆散熱設(shè)計(jì)：防爆箱主腔體設(shè)計(jì)防護(hù)等級(jí)應(yīng)不低于IP65。防爆電源的進(jìn)出線應(yīng)采用符合防爆結(jié)構(gòu)的電纜進(jìn)入裝置。進(jìn)線宜采用填料函式引入裝置，出線宜采用膠封過線的電纜引出5.3.5.1反應(yīng)器空塔氣速：宜控制不大于2m/s。5.3.5.2廢氣進(jìn)出反應(yīng)器溫升：應(yīng)不大于30℃。5.3.5.3反應(yīng)器注入能量：低溫等離子體反應(yīng)器注入能量應(yīng)不小于20J/L。7a)烷烴(如異丁烷、異戊烷、環(huán)己烷等),設(shè)計(jì)非甲烷總烴濃度(以甲烷計(jì))低于200mg/m3時(shí)，設(shè)計(jì)去除率應(yīng)不小于60%;b)烯烴(如乙烯、丙烯、丁二烯、異戊二烯等),設(shè)計(jì)非甲烷總烴濃度(以甲烷計(jì))低于2000mg/m3時(shí)，設(shè)計(jì)去除率