放射性測(cè)量的技術(shù)_第1頁(yè)
放射性測(cè)量的技術(shù)_第2頁(yè)
放射性測(cè)量的技術(shù)_第3頁(yè)
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放射性測(cè)量的技術(shù)第1頁(yè)/共59頁(yè)第2章放射性測(cè)量技術(shù)測(cè)量?jī)?nèi)容:探測(cè)、分析、監(jiān)測(cè)、劑量。探測(cè)器:射線信號(hào)電信號(hào)(電流、電壓脈沖)

氣體

電子—離子對(duì)氣體探測(cè)器

電離

常用種類(lèi)半導(dǎo)體

電子—空穴對(duì)半導(dǎo)體探測(cè)器

激發(fā)

閃爍體

熒光閃爍探測(cè)器第2頁(yè)/共59頁(yè)

§2.1概述

氣體探測(cè)器

脈沖電離室電流、累計(jì)電荷種類(lèi)正比計(jì)數(shù)器

G—M計(jì)數(shù)管

介質(zhì):隋性Ar氣+(CH4)

第3頁(yè)/共59頁(yè)各種圓柱型和鐘罩型G-M管第4頁(yè)/共59頁(yè)高壓極收集極保護(hù)極高壓負(fù)載電阻外殼靈敏體積絕緣子結(jié)構(gòu):平板型電離室第5頁(yè)/共59頁(yè)結(jié)構(gòu):圓柱型電離室第6頁(yè)/共59頁(yè)輸出信號(hào)的物理過(guò)程以平行板電離室為例[結(jié)論]脈沖計(jì)數(shù)n正比于放射活度脈沖幅度正比于入射粒子的能量

V(t)t第7頁(yè)/共59頁(yè)各類(lèi)氣體探測(cè)器的工作特性區(qū)第8頁(yè)/共59頁(yè)各類(lèi)氣體探測(cè)器特性的對(duì)比探測(cè)器電離室正比計(jì)數(shù)器G—M計(jì)數(shù)管特性區(qū)電離室區(qū)正比區(qū)G—M區(qū)輸出脈沖N0e/CMN0e/C等幅第9頁(yè)/共59頁(yè)

閃爍探測(cè)器

工作原理

工作過(guò)程:激發(fā)→熒光→光電子→光電倍增→電壓脈沖

第10頁(yè)/共59頁(yè)閃爍體

利用射線的熒光效應(yīng)將射線能轉(zhuǎn)變?yōu)楣饽艿奈矬w。無(wú)機(jī)

含少量激活劑的無(wú)機(jī)鹽。ZnS(Ag),α強(qiáng)度。NaI(Tl),CsI(Tl),γ強(qiáng)度、能量。有機(jī)

芳香族化合物

晶體,蒽,發(fā)光標(biāo)準(zhǔn)。液體,β。塑料(苯乙稀加入POP、POPOP聚合的固溶體),β。第11頁(yè)/共59頁(yè)各類(lèi)閃爍體的發(fā)射光譜第12頁(yè)/共59頁(yè)各類(lèi)閃爍體的物理特性第13頁(yè)/共59頁(yè)光電倍增管

結(jié)構(gòu)與工作原理

光陰極

Cs3Sb,K2CsSb等,發(fā)射光電子。

倍增極

6-14個(gè),二次電子發(fā)射。陽(yáng)極收集倍增后的電子,在負(fù)載上形成電壓脈沖。

光電倍增管兼有能量轉(zhuǎn)換及放大作用。。

第14頁(yè)/共59頁(yè)光電倍增管第15頁(yè)/共59頁(yè)光譜響應(yīng)光陰極在光照射下,發(fā)射光電子的概率是入射光波長(zhǎng)的函數(shù),稱(chēng)作“光譜響應(yīng)”。在選用閃爍體時(shí),應(yīng)選用使二者匹配的閃爍體。第16頁(yè)/共59頁(yè)主要性能

光電量子轉(zhuǎn)換效率

電子倍增系數(shù),M~105—107

要求工作高壓有較好穩(wěn)定性。

暗電流無(wú)光照時(shí)自身產(chǎn)生的陽(yáng)極電流,由熱電子射、

漏電、光子和正離子反饋等引起。第17頁(yè)/共59頁(yè)使用注意事項(xiàng)1)避光使用;2)保持閃爍體與光電倍增管光學(xué)接觸良好。第18頁(yè)/共59頁(yè)§2.2液閃計(jì)數(shù)器特點(diǎn)1.對(duì)軟β探測(cè)效率高,4π測(cè)量及避免了射線的自吸收和吸收。2.溶納樣品較大,可測(cè)量強(qiáng)度較弱的樣品。第19頁(yè)/共59頁(yè)液閃裝置符合加法放大前置前置門(mén)控單道Ⅰ單道Ⅱ定標(biāo)器液閃儀框圖第20頁(yè)/共59頁(yè)雙管符合電路

符合電路使暗電流本底降低104-105倍。

例:

τ=10-8s,,則偶然符合:第21頁(yè)/共59頁(yè)單道脈沖輻度分析器

甄別閾Vd

輸入信號(hào)V>Vd,才有出。反符合

因此,輻度分析器只能使V下<V<V上的脈沖通過(guò)。第22頁(yè)/共59頁(yè)閃爍液脂溶性甲苯,二甲苯主溶劑水溶性二氧環(huán)溶劑

組成助溶劑甲苯中加甲醇,表面活性劑,二六環(huán)加萘

主溶質(zhì)PPO

溶質(zhì)

助溶質(zhì)

POPOP波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換,增強(qiáng)匹配

第23頁(yè)/共59頁(yè)

液閃過(guò)程的淬滅現(xiàn)象

淬滅

導(dǎo)致閃爍過(guò)程能量傳遞效率降低,使光輸出減小,輸出脈沖幅度降低,最終使探測(cè)效率降低的過(guò)程。

化學(xué)淬滅非熒光物質(zhì)競(jìng)爭(zhēng)激發(fā)能。

顏色淬滅有色物質(zhì)吸收熒光。

光子淬滅非均相β發(fā)射體顆粒吸收β射線。第24頁(yè)/共59頁(yè)淬滅校正

內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)法

通過(guò)在樣品中加入已知活度的標(biāo)準(zhǔn)源,由引起的附加計(jì)數(shù),求儀器計(jì)數(shù)效率的校正法。

式中:第25頁(yè)/共59頁(yè)道比值法第26頁(yè)/共59頁(yè)

外標(biāo)準(zhǔn)法

第27頁(yè)/共59頁(yè)第28頁(yè)/共59頁(yè)淬滅校正過(guò)程第29頁(yè)/共59頁(yè)§2.3常用輻射防護(hù)監(jiān)測(cè)儀器輻射報(bào)警儀用途輻射報(bào)警儀主要用于放射性工作場(chǎng)所放射性物質(zhì),包括放射源及可能的沾污源以及工作場(chǎng)所輻射水平預(yù)警測(cè)量。類(lèi)型

使用比較普遍的一類(lèi)報(bào)警儀是G-M計(jì)數(shù)管型報(bào)警儀,用于-輻射或輻射的測(cè)量。用輻射的一般為薄端窗式G-M管。

第30頁(yè)/共59頁(yè)InspecotrAlert手持式α、β、γ和輻射檢測(cè)儀

本產(chǎn)品采用GM探測(cè)器,用以監(jiān)測(cè)放射性工作場(chǎng)所和表面,實(shí)驗(yàn)室的工作臺(tái)面、地板、墻壁、手、衣服、鞋的α、β、γ和X放射性污染計(jì)數(shù)測(cè)量以及環(huán)境劑量率,是一款性?xún)r(jià)比高的輻射測(cè)量?jī)x器。第31頁(yè)/共59頁(yè)第32頁(yè)/共59頁(yè)第33頁(yè)/共59頁(yè)

技術(shù)性能與特點(diǎn):

1.檢測(cè)α、β、γ和X射線;

2.計(jì)數(shù)測(cè)量、總計(jì)數(shù)測(cè)量和劑量率測(cè)量;

3.最低響應(yīng)能量:20Kev(γ射線),對(duì)Cs-137源為5.8Cps/μSv/h;探測(cè)下限:對(duì)I-125是0.02微居;

4.效率(4):接觸下:對(duì)Sr-90源約38%,C-14源約5.3%;P-32源約33%;Co-60源約3%5.G-M計(jì)數(shù)管,有效直徑45mm,云母窗密度1.5-2.0mg/Cm3;

第34頁(yè)/共59頁(yè)

6.CPS:≤2500CPS范圍時(shí)≤15%,在2500-5000CPS范圍≤20%;

7.測(cè)量單位:該檢測(cè)儀常用單位(mR/h或CPM)或SI單位(μSv/h或CPS)。

第35頁(yè)/共59頁(yè)

表面沾污儀

表面沾污儀主要是用來(lái)測(cè)量實(shí)驗(yàn)室臺(tái)面,儀表等物體表面污染,以便發(fā)現(xiàn)并及時(shí)清除。表面沾污儀常用的探測(cè)器類(lèi)型有G-M管,正比計(jì)數(shù)管和閃爍計(jì)數(shù)器等,其測(cè)量對(duì)象是表面污染面源粒子的表面出射率。第36頁(yè)/共59頁(yè)

儀器讀數(shù)

直接測(cè)量的量為粒子的計(jì)數(shù)率n(cpm),其與表面污染水平有如下關(guān)系:

其中,K稱(chēng)為刻度系數(shù)(也叫做總探測(cè)效率)。其意義是,對(duì)應(yīng)每單位污染水平,儀器所測(cè)到的計(jì)數(shù)率。第37頁(yè)/共59頁(yè)

表面污染水平

所謂單位污染水平是指,每100厘米2的污染表面在單位時(shí)間內(nèi)向上所出射的表面粒子數(shù)。刻度系數(shù)K與射線的探測(cè)效率及探測(cè)器端窗的面積大小等因素有關(guān)。第38頁(yè)/共59頁(yè)

儀器刻度過(guò)程

根據(jù)探測(cè)器端窗面積,選擇相應(yīng)幾何形狀的標(biāo)準(zhǔn)面源,核素應(yīng)與實(shí)際污染源相同或射線能量相近。在確定的幾何位置條件下,測(cè)量它所引起的計(jì)數(shù)率,然后按下式求得K值。第39頁(yè)/共59頁(yè)第40頁(yè)/共59頁(yè)

TBM-3S系列表面沾污儀

內(nèi)置直徑為2〞的扁平G-M管和揚(yáng)聲器,有3個(gè)量程,檢測(cè)α、β和γ射線,讀數(shù)為CPM(或mR/h)具有尺寸小、重量輕和面積大的特點(diǎn),是監(jiān)測(cè)工作臺(tái)面或檢查手掌、手指和衣服表面放射性污染的有效工具。第41頁(yè)/共59頁(yè)技術(shù)規(guī)格

開(kāi)關(guān):

OFF,電池測(cè)試,X100,X10,X1

量程:

3個(gè)量程,線性,0-500,0-5,000,0-50,000cpm(0-0.15,1.5,15mR/h)

靈敏度:

150cpm/μR/h(137Cs標(biāo)準(zhǔn)校正源)

第42頁(yè)/共59頁(yè)探測(cè)器

T-1190扁平GM管

窗直徑:4.5cm窗厚度:1.5mg/cm2淬滅氣體:鹵素,長(zhǎng)壽命管本底:典型值50cpm效率:本征效率為100%

第43頁(yè)/共59頁(yè)

個(gè)人計(jì)量計(jì)

佩戴在身體適當(dāng)部位,用以測(cè)量個(gè)人所受外照射劑量的儀器叫做個(gè)人劑量計(jì)。主要有儀器型和固體劑量計(jì)型兩類(lèi)。第44頁(yè)/共59頁(yè)EPD個(gè)人劑量計(jì)γ、β和X輻射劑量當(dāng)量Hp(10)、Hp(0.07)讀數(shù)用電子個(gè)人劑量計(jì);基于現(xiàn)代二極管探測(cè)技術(shù)的高度完備多功能個(gè)人輻射監(jiān)測(cè)器;無(wú)與倫比的放射性能與先進(jìn)的軟硬件特色相結(jié)合,體積小、質(zhì)量輕;標(biāo)稱(chēng)使用能量范圍:γ輻射15keV-10MeV,β粒子250keV-1.5MeV;直接讀出ICRU定義的深部劑量Hp(10)和淺表劑量Hp(0.07),單位為(Sv)或雷姆(rem);可顯示劑量和劑量率值,可設(shè)定劑量/劑量率測(cè)量閾值報(bào)警模式。第45頁(yè)/共59頁(yè)

熱釋光劑量片

固體劑量劑被廣泛用于個(gè)人劑量監(jiān)測(cè),其中尤以熱釋光劑量計(jì),如LiF(Mg,Ti)最廣。其測(cè)量原理是,熱釋光固體元件受到輻射的照射后,其輻射能通過(guò)激發(fā)固體晶格中的電子,轉(zhuǎn)變成電子的激發(fā)能同時(shí)被禁封在晶體中的陷阱中,此能量可以累加并保持一定時(shí)間,當(dāng)用高溫退火時(shí),保持的激發(fā)能通過(guò)光輻射的形式發(fā)出,通過(guò)測(cè)量輻射光的強(qiáng)度就可確定熱釋光晶體所受照射劑量。第46頁(yè)/共59頁(yè)

發(fā)光機(jī)制

按照能帶理論,晶體能級(jí)由兩類(lèi)能級(jí)構(gòu)成:處于基態(tài)的已被電子占滿(mǎn)的容許能帶,稱(chēng)為滿(mǎn)帶;沒(méi)有或尚未填滿(mǎn)電子的容許能帶,稱(chēng)為導(dǎo)帶,二者被一定寬度的禁帶隔開(kāi)。晶體中的雜質(zhì)原子或因原子或離子缺位和結(jié)構(gòu)錯(cuò)位等造成的晶格缺陷處會(huì)形成局部電荷中心,其能吸引和束縛異電荷粒子。第47頁(yè)/共59頁(yè)在能帶圖上,相當(dāng)于在禁帶中形成了一些孤立能級(jí)。在靠近導(dǎo)帶下面的局部能級(jí),能吸引電子,稱(chēng)為電子陷阱;靠近滿(mǎn)帶上面的局部能級(jí)能吸附空穴,稱(chēng)為激活能級(jí)。在沒(méi)有受到輻照時(shí),電子陷阱是空著的,而激活能級(jí)是填滿(mǎn)電子的。滿(mǎn)帶導(dǎo)帶00-0禁帶FH123第48頁(yè)/共59頁(yè)

當(dāng)晶體因輻照被電離或激發(fā)時(shí),滿(mǎn)帶中的電子因受激進(jìn)入導(dǎo)帶,同時(shí)產(chǎn)生一個(gè)空穴(過(guò)程1),進(jìn)入導(dǎo)帶的電子因熱擾動(dòng)會(huì)很快被電子陷阱捕獲,滿(mǎn)帶的空穴也會(huì)移入激活能級(jí),分別形成所謂的F和H發(fā)光中心,并將輻射能量貯存起來(lái)。在常溫下這些中心可以保存很久。當(dāng)對(duì)晶體加熱使其溫度達(dá)到一定值時(shí),F(xiàn)發(fā)光中心的電子獲的能量重新進(jìn)入導(dǎo)帶并最終與H發(fā)光中心的空穴復(fù)合(過(guò)程3),在復(fù)合的過(guò)程中發(fā)出光,稱(chēng)為熱釋光。熱釋光放出的總光子數(shù)與發(fā)光中心退激的總電子數(shù)成正比,也即與吸收的輻射能量成正比。因此,測(cè)量一定溫度范圍退火溫度下的總發(fā)光量就可確定吸收劑量。第49頁(yè)/共59頁(yè)

發(fā)光曲線

對(duì)照射后的熱釋光元件加熱退火,發(fā)光強(qiáng)度與退火溫度的關(guān)系稱(chēng)為熱釋光曲線。對(duì)于LiF(Mg,Ti)有如下圖的形狀。固體中的電子陷阱有深有淺,隨加熱溫度的升高,電子先由較淺的陷阱放出,熱釋光由小到大達(dá)到一峰值后接著下降,直至這種陷阱中貯存的電子都釋放出來(lái),形成發(fā)光曲線的第一個(gè)峰。隨后較深陷阱中的電子釋放。第50頁(yè)/共59頁(yè)對(duì)同一種固體,發(fā)光曲線形狀基本不變,但隨加熱速率稍有變化,加熱越快,峰越高,相應(yīng)的峰值溫度也有變化。然而對(duì)于給輻照劑量,發(fā)光總額是不變的。通常采用兩種測(cè)量方式,一種是測(cè)量主發(fā)光峰面積的積分測(cè)量法,另一種是測(cè)量主峰的光峰高法。第51頁(yè)/共59頁(yè)熱釋光強(qiáng)度

溫度,0CLiF(Mg,Ti)熱釋光體的發(fā)光曲線第52頁(yè)/共59頁(yè)

測(cè)量裝置

熱光測(cè)量?jī)x由加熱的裝置和光度計(jì)兩部分組成。測(cè)量過(guò)程如下:用線性加熱器使加熱盤(pán)上的熱光體受熱放出可見(jiàn)光,光信號(hào)經(jīng)光電倍增管轉(zhuǎn)換為電流信號(hào),進(jìn)入電子學(xué)線路,最后由X-Y紀(jì)錄儀自動(dòng)畫(huà)出熱釋光曲線,根據(jù)積分或光峰高

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