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光學(xué)薄膜技術(shù)緒論

——康斯坦丁·諾沃肖洛夫

安德烈·海姆

石墨烯不僅是已知材料中最薄的一種，還非常牢固堅(jiān)硬；作為單質(zhì)，它在室溫下傳遞電子的速度比已知導(dǎo)體都快。當(dāng)硅材料尺寸小于10納米時(shí)，用它制造出的晶體管穩(wěn)定性變差。而石墨烯可以被刻成尺寸不到1個(gè)分子大小的單電子晶體管。此外，石墨烯高度穩(wěn)定，即使被切成1納米寬的元件，導(dǎo)電性也很好。因此，石墨烯被普遍認(rèn)為會(huì)最終替代硅，從而引發(fā)電子工業(yè)革命。電阻蒸發(fā)與電子蒸發(fā)復(fù)合鍍膜設(shè)備

用于制備導(dǎo)電薄膜，半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜。

光學(xué)鍍膜機(jī)主要的光學(xué)薄膜器件增透膜高反膜分光膜帶通濾光片截止濾光片鍍膜元件裝飾二、預(yù)備知識(shí)

1.麥克斯韋方程及平面電磁波麥克斯韋方程組平面電磁波波函數(shù)不導(dǎo)電均勻媒質(zhì)的折射率導(dǎo)電媒質(zhì)

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