標準解讀
《GB/T 28277-2012 硅基MEMS制造技術 微鍵合區剪切和拉壓強度檢測方法》是一項國家標準,主要針對硅基微機電系統(MEMS)中的微鍵合區域的機械性能測試提供了具體的方法指導。該標準詳細規定了如何通過實驗手段來評估這些微小結構在受到剪切力或壓力作用時的抗破壞能力,從而幫助研究者與工程師更好地理解材料及工藝對最終產品可靠性的影響。
標準首先明確了適用范圍,指出其適用于各類采用不同鍵合技術(如陽極鍵合、共晶鍵合等)形成的硅基MEMS器件中微鍵合區的強度測試。接著,它描述了一系列關鍵術語及其定義,確保所有讀者對于文中提到的專業詞匯有一致的理解基礎。
接下來的部分重點介紹了進行剪切強度測試的具體步驟,包括樣品準備、夾具設計、加載方式以及數據記錄等方面的要求。此外,還特別強調了實驗過程中需要注意的安全事項和技術細節,比如控制加載速率以保證結果的有效性和可重復性。
對于拉壓強度測試,《GB/T 28277-2012》同樣給出了詳細的指導原則。這部分內容涵蓋了從試樣選擇到最終數據分析的全過程,旨在提供一套標準化的操作流程,以便于不同實驗室之間能夠相互比較研究成果。
整個文檔還包括了一些輔助信息,例如推薦使用的設備規格參數、可能影響測試結果的因素分析等,這些都是為了進一步提高測試精度而設。通過遵循此標準所提出的方法論,研究人員可以獲得更加準確可靠的關于硅基MEMS微鍵合區力學性能的數據,這對于推動相關領域內新材料開發及生產工藝優化具有重要意義。
如需獲取更多詳盡信息,請直接參考下方經官方授權發布的權威標準文檔。
....
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- 現行
- 正在執行有效
- 2012-05-11 頒布
- 2012-12-01 實施




文檔簡介
ICS31200
L55.
中華人民共和國國家標準
GB/T28277—2012
硅基MEMS制造技術
微鍵合區剪切和拉壓強度檢測方法
Silicon-basedMEMSfabricationtechnology—
Measurementmethodofcuttingandpull-pressstrengthofmicrobondingarea
2012-05-11發布2012-12-01實施
中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局發布
中國國家標準化管理委員會
GB/T28277—2012
目次
前言…………………………
Ⅲ
范圍………………………
11
規范性引用文件…………………………
21
術語和定義………………
31
要求………………………
42
檢測結構的設計要求………………
4.12
檢測結構制備要求…………………
4.24
檢測環境要求………………………
4.34
檢測方法…………………
55
總則…………………
5.15
拉壓式微結構鍵合強度檢測………………………
5.25
剪切式微結構鍵合強度檢測………………………
5.36
附錄資料性附錄拉壓式檢測結構設計尺寸和斷裂強度對應表…………………
A()8
附錄資料性附錄拉壓式檢測結構測試實例………
B()16
Ⅰ
GB/T28277—2012
前言
本標準按照給出的規則起草
GB/T1.1—2009。
本標準由全國微機電技術標準化技術委員會提出并歸口
(SAC/TC336)。
本標準起草單位北京大學中機生產力促進中心中國電子科技集團第十三研究所中國科學院上
:、、、
海微系統與信息技術研究所中國電子科技集團第四十九研究所
、。
本標準主要起草人張大成王瑋劉偉楊芳姜森林崔波熊斌田雷
:、、、、、、、。
Ⅲ
GB/T28277—2012
硅基MEMS制造技術
微鍵合區剪切和拉壓強度檢測方法
1范圍
本標準規定了硅基加工過程中所涉及的微小鍵合區域鍵合強度檢測的要求和試驗方法
MEMS。
本標準適用于采用微電子工藝及相關微細加工技術制造的微小鍵合區的剪切和拉壓強度測試
。
2規范性引用文件
下列文件對于本文件的應用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件
。,()。
微機電系統技術術語和定義
GB/T26111—2010(MEMS)
測量管理體系測量過程和測量設備的要求
GB/T19022—2003
3術語和定義
和界定的以及下列術語和定義適用于本文件
GB/T26111—2010GB/T19022—2003。
31
.
體微加工工藝bulkmicromachining
通過選擇性去除部分基底材料實現微結構的微機械加工方法
。
注體微機械工藝是通過化學方法刻蝕去除基底不需要部分的加工方法通過使用或掩模可以保護表
:。SiO2Si3N4
面不被刻蝕硼摻雜層也可以停止表面層以下部分的刻蝕
。。
定義
[GB/T26111—2010,3.5.16]
32
.
干法刻蝕dryetching
利用可產生物理和或化學反應的氣體或等離子體進行刻蝕的技術
/。
注電子能量所產生的可反應氣體與襯底反應并移除材料形成所需的形狀或尺寸干法刻蝕可分為利用化學反
:,。
應的各向同性腐蝕等離子刻蝕和利用物理反應的直接刻蝕離子刻蝕
()()。
定義
[GB/T26111—2010,3.5.18]
33
.
濕法刻蝕wetetching
利用與待刻材料可產生化學反應的溶液對薄膜或器件結構進行腐
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